90nm光刻機(jī)能生產(chǎn)什么的芯片
光刻機(jī)是制作芯片的關(guān)鍵設(shè)備，利用光刻機(jī)發(fā)出的紫外光源通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的硅片曝光，使光刻膠性質(zhì)變化、達(dá)到圖形刻印在硅片上形成電子線路圖。我國目前還是采用什深紫外光的193nm制程工藝，如上海微電子裝備公司（CMEE）制程90nm工藝的光刻機(jī)，那么90nm光刻機(jī)能生產(chǎn)什么芯片呢？
90nm除了可以生產(chǎn)90nm制程的芯片外，如果曝光兩次就可以得到45nm的芯片，如果曝光三次就可以達(dá)到22nm芯片的水平?？偟膩碚f，曝光的次數(shù)越多芯片的nm越小，但是良品率會降低，所以一般都控制在28nm和32nm。
相較于荷蘭、美國、德國這些國家，我國的芯片制造還是不具優(yōu)勢的，但是我國直接從90nm突破到22nm意味著我國的光刻機(jī)制造的一些關(guān)鍵核心領(lǐng)域已經(jīng)實現(xiàn)了國產(chǎn)化，國產(chǎn)光刻機(jī)突破封鎖，正在崛起。
審核編輯：chenchen
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
光刻機(jī)
+關(guān)注
關(guān)注
31文章
1199瀏覽量
48929 -
90nm
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
4瀏覽量
10978
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點推薦
中國打造自己的EUV光刻膠標(biāo)準(zhǔn)！
其他工藝器件的參與才能保障芯片的高良率。 ? 以光刻膠為例，這是決定芯片 圖案能否被精準(zhǔn) 刻下來的“感光神經(jīng)膜”。并且隨著芯片步入 7nm及
俄羅斯亮劍：公布EUV光刻機(jī)路線圖，挑戰(zhàn)ASML霸主地位？
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
AI需求飆升！ASML新光刻機(jī)直擊2nm芯片制造，尼康新品獲重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝（FOPLP）技術(shù)為何會獲得臺積電、三星等代工大廠的青睞？比較傳統(tǒng)的光刻機(jī)設(shè)備，尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同？能解決AI芯片生產(chǎn)當(dāng)中的哪些痛點問題？ 針對2
國產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)順利出廠
系列。該系列產(chǎn)品主要面向mini/micro LED光電器件、光芯片、功率器件等化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域，可靈活適配硅片、藍(lán)寶石、SiC等不同襯底材料，滿足多樣化的膠厚光刻工藝需求。 WS180i系列光刻機(jī)優(yōu)勢顯著。其晶圓覆蓋范圍廣，可
【「AI芯片：科技探索與AGI愿景」閱讀體驗】+半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的前沿技術(shù)
%。至少將GAA納米片提升幾個工藝節(jié)點。
2、晶背供電技術(shù)
3、EUV光刻機(jī)與其他競爭技術(shù)
光刻技術(shù)是制造3nm、5nm等工藝節(jié)點的高端半導(dǎo)體芯片
發(fā)表于 09-15 14:50
今日看點丨全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)問世；智元機(jī)器人發(fā)布行業(yè)首個機(jī)器人世界模型開源平臺
8nm，專攻量子芯片和新型半導(dǎo)體研發(fā)的核心環(huán)節(jié)，可通過高能電子束在硅基上手寫電路，無需掩膜版即可靈活修改設(shè)計，其精度已比肩國際主流設(shè)備。 ? 據(jù)介紹，與傳統(tǒng)光刻機(jī)相比，電子束光刻機(jī)在原
發(fā)表于 08-15 10:15
?3117次閱讀
全球市占率35%，國內(nèi)90%！芯上微裝第500臺步進(jìn)光刻機(jī)交付
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，近日，上海芯上微裝科技股份有限公司（簡稱：芯上微裝，英文簡稱：AMIES）第500臺步進(jìn)光刻機(jī)成功交付，并舉辦了第500臺 步進(jìn)光刻機(jī) 交付儀式。 ? ? 光刻是半導(dǎo)體器件
發(fā)表于 08-13 09:41
?2343次閱讀
光刻機(jī)實例調(diào)試#光刻機(jī) #光學(xué) #光學(xué)設(shè)備
光刻機(jī)
jf_90915507
發(fā)布于 :2025年08月05日 09:37:57
龍圖光罩90nm掩模版量產(chǎn)，已啟動28nm制程掩模版的規(guī)劃
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/莫婷婷）近日，龍圖光罩宣布珠海項目順利投產(chǎn)，公司第三代掩模版PSM產(chǎn)品取得顯著進(jìn)展。KrF-PSM和ArF-PSM陸續(xù)送往部分客戶進(jìn)行測試驗證，其中90nm節(jié)點產(chǎn)品已成功完成從
ASML官宣：更先進(jìn)的Hyper NA光刻機(jī)開發(fā)已經(jīng)啟動
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，日前，ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示，ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司，啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開發(fā)。這一舉措標(biāo)志著
發(fā)表于 06-29 06:39
?2066次閱讀
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進(jìn)步，對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關(guān)，電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長，而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
成都匯陽投資關(guān)于光刻機(jī)概念大漲，后市迎來機(jī)會
進(jìn)制程領(lǐng)域，曝光波長逐漸縮短至13.5nm，光刻技術(shù)逐步完善成熟。2024年光刻機(jī)市場的規(guī)模為230億美元。2025年光刻機(jī)市場的規(guī)模預(yù)計為252億美元。 【
【「芯片通識課：一本書讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗】了解芯片怎樣制造
TSMC，中芯國際SMIC 組成:核心:生產(chǎn)線，服務(wù):技術(shù)部門，生產(chǎn)管理部門，動力站（雙路保障），廢水處理站(環(huán)保，循環(huán)利用)等。生產(chǎn)線主要設(shè)備: 外延爐，薄膜設(shè)備，光刻機(jī)，蝕刻機(jī)，離
發(fā)表于 03-27 16:38
不只依賴光刻機(jī)！芯片制造的五大工藝大起底！
在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時代的“心臟”，其制造過程復(fù)雜而精密，涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機(jī)這一高端設(shè)備，但實際上，芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴
工商網(wǎng)監(jiān)
評論