duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是什么
目前，光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是是什么呢？
duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別
1.基本上duv只能做到25nm，而euv能夠做到10nm以下晶圓的生產(chǎn)。
2. duv主要使用的是光的折射原理，而euv使用的光的反射原理，內(nèi)部必須是真空操作。
以上就是duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別了，現(xiàn)在基本都是euv光刻機(jī)。
文章綜合php中文網(wǎng)、科創(chuàng)板日?qǐng)?bào)、百度百科
編輯：何安
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題，請(qǐng)聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
-
光刻機(jī)
+關(guān)注
關(guān)注
31文章
1199瀏覽量
48913 -
EUV
+關(guān)注
關(guān)注
8文章
615瀏覽量
88797 -
DUV
+關(guān)注
關(guān)注
1文章
56瀏覽量
4421
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
相關(guān)推薦
熱點(diǎn)推薦
中國(guó)打造自己的EUV光刻膠標(biāo)準(zhǔn)！
其他工藝器件的參與才能保障芯片的高良率。 ? 以光刻膠為例，這是決定芯片 圖案能否被精準(zhǔn) 刻下來(lái)的“感光神經(jīng)膜”。并且隨著芯片步入 7nm及以下先進(jìn)制程芯片 時(shí)代，不僅需要EUV光刻機(jī)，更需要
俄羅斯亮劍：公布EUV光刻機(jī)路線圖，挑戰(zhàn)ASML霸主地位？
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長(zhǎng)期以來(lái)，荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
AI需求飆升！ASML新光刻機(jī)直擊2nm芯片制造，尼康新品獲重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級(jí)封裝（FOPLP）技術(shù)為何會(huì)獲得臺(tái)積電、三星等代工大廠的青睞？比較傳統(tǒng)的光刻機(jī)設(shè)備，尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同？能解決AI芯片生產(chǎn)當(dāng)中的哪些痛點(diǎn)問(wèn)題？ 針對(duì)2nm、3nm芯片制造難題，光刻機(jī)龍頭企業(yè)ASML新款
澤攸科技 | EBL和EUV光刻機(jī)有何區(qū)別？如何影響半導(dǎo)體行業(yè)？
從技術(shù)路徑上看，電子束光刻和大家熟悉的EUV光刻并不是同一類問(wèn)題的解法。電子束光刻本質(zhì)上是一種直接寫入技術(shù)，利用聚焦電子束在抗蝕劑上逐點(diǎn)曝光，通過(guò)電磁控制精確描繪圖形。這種方式不依賴掩
光刻機(jī)的“精度錨點(diǎn)”：石英壓力傳感器如何守護(hù)納米級(jí)工藝
在7納米、3納米等先進(jìn)芯片制造中，光刻機(jī)0.1納米級(jí)的曝光精度離不開高精度石英壓力傳感器的支撐，其作為“隱形功臣”，是保障工藝穩(wěn)定、設(shè)備安全與產(chǎn)品良率的核心部件。本文聚焦石英壓力傳感器在光刻機(jī)中
國(guó)產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)順利出廠
近日，深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司（簡(jiǎn)稱“穩(wěn)頂聚芯”）宣布，其自主研發(fā)的首臺(tái)國(guó)產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)已成功出廠，標(biāo)志著我國(guó)在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進(jìn)展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進(jìn)式光刻機(jī)屬于WS180i
今日看點(diǎn)丨全國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)問(wèn)世；智元機(jī)器人發(fā)布行業(yè)首個(gè)機(jī)器人世界模型開源平臺(tái)
全國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)問(wèn)世，精度比肩國(guó)際主流 ? 近日，全國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研發(fā)并進(jìn)入應(yīng)用測(cè)試階段。該設(shè)備精度達(dá)到0.6nm，線寬
發(fā)表于 08-15 10:15
?3101次閱讀
全球市占率35%，國(guó)內(nèi)90%！芯上微裝第500臺(tái)步進(jìn)光刻機(jī)交付
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道，近日，上海芯上微裝科技股份有限公司（簡(jiǎn)稱：芯上微裝，英文簡(jiǎn)稱：AMIES）第500臺(tái)步進(jìn)光刻機(jī)成功交付，并舉辦了第500臺(tái) 步進(jìn)光刻機(jī) 交付儀式。 ? ? 光刻是半導(dǎo)體器件
發(fā)表于 08-13 09:41
?2313次閱讀
光刻機(jī)實(shí)例調(diào)試#光刻機(jī) #光學(xué) #光學(xué)設(shè)備
光刻機(jī)
jf_90915507
發(fā)布于 :2025年08月05日 09:37:57
佳能9月啟用新光刻機(jī)工廠，主要面向成熟制程及封裝應(yīng)用
7 月 31 日消息，據(jù)《日經(jīng)新聞》報(bào)道，日本相機(jī)、打印機(jī)、光刻機(jī)大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機(jī)制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn)，主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備，為全球芯片封裝
ASML官宣：更先進(jìn)的Hyper NA光刻機(jī)開發(fā)已經(jīng)啟動(dòng)
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道，日前，ASML 技術(shù)高級(jí)副總裁 Jos Benschop 表示，ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司，啟動(dòng)了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開發(fā)。這一舉措標(biāo)志著
發(fā)表于 06-29 06:39
?2042次閱讀
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進(jìn)步，對(duì)電子顯微鏡的精度要求越來(lái)越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長(zhǎng)和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān)，電子波長(zhǎng)可通過(guò)增加加速電極電壓來(lái)減小波長(zhǎng)，而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
成都匯陽(yáng)投資關(guān)于光刻機(jī)概念大漲，后市迎來(lái)機(jī)會(huì)
【2025年光刻機(jī)市場(chǎng)的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過(guò)程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一，其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場(chǎng)對(duì)光刻機(jī)的需求持續(xù)增長(zhǎng)，尤其是在先
不只依賴光刻機(jī)！芯片制造的五大工藝大起底！
在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時(shí)代的“心臟”，其制造過(guò)程復(fù)雜而精密，涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機(jī)這一高端設(shè)備，但實(shí)際上，芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴光刻機(jī)這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝，揭示這些工藝如何協(xié)同工作，共同鑄就了
工商網(wǎng)監(jiān)
評(píng)論