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英特爾重返半導(dǎo)體王者!

中國半導(dǎo)體論壇 ? 來源:中國半導(dǎo)體論壇 ? 2023-06-08 16:07 ? 次閱讀
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6月6日消息,最近幾年英特爾在14nm節(jié)點之后遭遇危機,導(dǎo)致先進工藝上輸給了臺積電、三星,但他們這兩年正在奮起直追,4年內(nèi)掌握5代CPU工藝,明年將量產(chǎn)20A、18A兩代工藝,相當于友商的2nm、1.8nm。

這兩代工藝不僅會首次進入埃米級節(jié)點,同時還有兩大黑科技——首發(fā)PowerVia背面供電、RibbonFET全環(huán)繞柵極兩大全新技術(shù),其中前者已經(jīng)在Intel 4工藝上做了測試,將平臺電壓降低了30%,并帶來了6%的頻率增益。

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這兩款工藝中,1.8nm工藝尤其重要,不僅Intel自己會用,還要提供給客戶,跟臺積電、三星等搶先進工藝市場,此前已經(jīng)跟Arm達成了戰(zhàn)略合作,基于1.8nm工藝優(yōu)化Arm處理器

1.8nm工藝將在2024年下半年量產(chǎn),2025年會有產(chǎn)品上市,這代工藝將幫助英特爾重返半導(dǎo)體王者,先進工藝上重新超越臺積電,因為后者的2nm工藝N2在2025年才能量產(chǎn),而且技術(shù)偏保守,密度比3nm只提升10%。

面對英特爾的追趕,臺積電聯(lián)席CEO劉德音今天也做出了回應(yīng),表示自家的N2工藝比1.8nm工藝好很多,目前處于早期設(shè)計階段,但所有的量產(chǎn)、技術(shù)都是兩年前就決定的,客戶對N2很有信心,需求比以前大很多。

雖然沒有指名道姓說友商是誰,但是1.8nm工藝全球僅此一家,臺積電的表態(tài)很明顯了。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:英特爾重返半導(dǎo)體王者!

文章出處:【微信號:CSF211ic,微信公眾號:中國半導(dǎo)體論壇】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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