91欧美超碰AV自拍|国产成年人性爱视频免费看|亚洲 日韩 欧美一厂二区入|人人看人人爽人人操aV|丝袜美腿视频一区二区在线看|人人操人人爽人人爱|婷婷五月天超碰|97色色欧美亚州A√|另类A√无码精品一级av|欧美特级日韩特级

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

南大光電:有兩款A(yù)rF光刻膠進(jìn)入批量驗(yàn)證階段,部分原材料外購(gòu)解決

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2023-09-11 09:39 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

9月8日,南大光電發(fā)表投資交流紀(jì)要,2022年下半年以來lcd, ic市場(chǎng)表現(xiàn)出了周期性調(diào)整,行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)加劇,公司的業(yè)績(jī)的重要源泉——三氟化氮產(chǎn)品是去年第四季度開始數(shù)量和價(jià)格都下降了?!睆哪壳皣?guó)內(nèi)面板工廠的開工率來看,下游地區(qū)的需求沒有明顯的上升跡象。

南大光電的激烈的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng),公司充分發(fā)揮協(xié)同效應(yīng),以高品質(zhì)、優(yōu)質(zhì)的服務(wù),利用低成本優(yōu)勢(shì)鞏固量占有率的同時(shí),提高產(chǎn)品質(zhì)量,通過加快建設(shè)全球ic客戶的滲透和海外oled市場(chǎng)的開拓,提高增量空間努力保持三氟化氮業(yè)務(wù)平穩(wěn)增長(zhǎng)。

對(duì)于市場(chǎng)高度關(guān)注的arf光刻膠的開發(fā)情況,南大光電表示:“arf光刻膠的驗(yàn)證階段分為prs(性能測(cè)試)、str(少量測(cè)試)、mstr(大量驗(yàn)證)、release(通過驗(yàn)證)4個(gè)階段。”公司已經(jīng)有兩種粘合劑通過了客戶的檢驗(yàn),多種粘合劑正在檢驗(yàn)中。arf光刻膠根據(jù)開始時(shí)間進(jìn)行過程不同,其中2個(gè)進(jìn)入了mstr階段。目前公司照相事業(yè)部的主要任務(wù)是盡快完成更多產(chǎn)品的檢驗(yàn),加強(qiáng)市場(chǎng)擴(kuò)張,為盡快實(shí)現(xiàn)規(guī)模的大批量生產(chǎn)而努力,形成業(yè)績(jī)貢獻(xiàn)。

南大光電還表示,公司用于生產(chǎn)ArF光刻膠的核心原材料,由公司自主研發(fā),在國(guó)內(nèi)有供應(yīng)能力的材料將通過外部采購(gòu)確保。

但據(jù)業(yè)內(nèi)人士透露,南大光電ArF光刻膠驗(yàn)證主要在國(guó)內(nèi)存儲(chǔ)大客戶,從短期來看,出貨量是可以忽略的。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • OLED
    +關(guān)注

    關(guān)注

    121

    文章

    6360

    瀏覽量

    233815
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    355

    瀏覽量

    31808
  • 南大光電
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    20

    瀏覽量

    5125
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    國(guó)產(chǎn)光刻膠開啟“鉗形攻勢(shì)”

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)如果對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)興趣的話,一定對(duì)光刻膠(Photoresist)略有耳聞,這是一種對(duì)光敏感的高分子材料,廣泛應(yīng)用于微電子制造、半導(dǎo)體工藝、PCB制作以及MEMS等領(lǐng)域
    的頭像 發(fā)表于 01-13 09:06 ?6136次閱讀

    中國(guó)打造自己的EUV光刻膠標(biāo)準(zhǔn)!

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)芯片,一直被譽(yù)為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要設(shè)備光刻機(jī)就是 雕刻這個(gè)結(jié)晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機(jī)還不夠,還需要光刻膠、掩膜版以及
    的頭像 發(fā)表于 10-28 08:53 ?6738次閱讀

    基于溶膠-凝膠法光刻膠的FsLDW微透鏡制備與三維形貌表征

    飛秒激光直寫(FsLDW)技術(shù)憑借納米級(jí)分辨率、三維結(jié)構(gòu)加工能力成為微透鏡制備的核心技術(shù),而溶膠-凝膠基光刻膠兼具有機(jī)材料的設(shè)計(jì)靈活性與無機(jī)材料的高穩(wěn)定性,是制備高精度微透鏡的理想材料
    的頭像 發(fā)表于 02-24 18:05 ?315次閱讀
    基于溶膠-凝膠法<b class='flag-5'>光刻膠</b>的FsLDW微透鏡制備與三維形貌表征

    光刻膠剝離工藝

    光刻膠剝離工藝是半導(dǎo)體制造和微納加工中的關(guān)鍵步驟,其核心目標(biāo)是高效、精準(zhǔn)地去除光刻膠而不損傷基底材料或已形成的結(jié)構(gòu)。以下是該工藝的主要類型及實(shí)施要點(diǎn):濕法剝離技術(shù)有機(jī)溶劑溶解法原理:使用丙酮、NMP
    的頭像 發(fā)表于 09-17 11:01 ?2036次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝

    光刻膠旋涂的重要性及厚度監(jiān)測(cè)方法

    在芯片制造領(lǐng)域的光刻工藝中,光刻膠旋涂是不可或缺的基石環(huán)節(jié),而保障光刻膠旋涂的厚度是電路圖案精度的前提。優(yōu)可測(cè)薄膜厚度測(cè)量?jī)xAF系列憑借高精度、高速度的特點(diǎn),為光刻膠厚度監(jiān)測(cè)提供了可靠
    的頭像 發(fā)表于 08-22 17:52 ?1835次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>旋涂的重要性及厚度監(jiān)測(cè)方法

    從光固化到半導(dǎo)體材料:久日新材的光刻膠國(guó)產(chǎn)替代之路

    。 從光固化龍頭到半導(dǎo)體材料新銳 久日新材的戰(zhàn)略轉(zhuǎn)型始于2020年。通過收購(gòu)大晶信息、大晶新材等企業(yè),強(qiáng)勢(shì)切入半導(dǎo)體化學(xué)材料賽道。2024年11月,久日新材控股公司年產(chǎn)4500噸光刻膠項(xiàng)目進(jìn)入
    的頭像 發(fā)表于 08-12 16:45 ?2138次閱讀

    國(guó)產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動(dòng)

    量產(chǎn)到ArF浸沒式驗(yàn)證,從樹脂國(guó)產(chǎn)化到EUV原料突破,一場(chǎng)靜默卻浩蕩的技術(shù)突圍戰(zhàn)已進(jìn)入深水區(qū)。 ? 例如在248nm波長(zhǎng)的KrF
    的頭像 發(fā)表于 07-13 07:22 ?6986次閱讀

    行業(yè)案例|膜厚儀應(yīng)用測(cè)量之光刻膠厚度測(cè)量

    光刻膠,又稱光致抗蝕劑,是一種關(guān)鍵的耐蝕劑刻薄膜材料。它在紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射下,溶解度會(huì)發(fā)生變化,主要應(yīng)用于顯示面板、集成電路和半導(dǎo)體分立器件等細(xì)微圖形加工作業(yè)。由于
    的頭像 發(fā)表于 07-11 15:53 ?608次閱讀
    行業(yè)案例|膜厚儀應(yīng)用測(cè)量之<b class='flag-5'>光刻膠</b>厚度測(cè)量

    針對(duì)晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié),其效果直接影響芯片性能與良率。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
    的頭像 發(fā)表于 06-25 10:19 ?1098次閱讀
    針對(duì)晶圓上芯片工藝的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關(guān)鍵環(huán)節(jié)。銅布線在制程中廣泛應(yīng)用,但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對(duì)銅產(chǎn)生腐蝕,影響器件性能。同時(shí),光刻圖形的精準(zhǔn)測(cè)量對(duì)確保 ARRAY 制程工藝精度
    的頭像 發(fā)表于 06-18 09:56 ?934次閱讀
    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在半導(dǎo)體制造過程中,光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)雖在光刻膠剝離方面表現(xiàn)出色,但因其高含量使用帶來的成本、環(huán)保等問題備受關(guān)注。同時(shí),光刻
    的頭像 發(fā)表于 06-17 10:01 ?852次閱讀
    低含量 NMF <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液和制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    干涉儀在光刻圖形測(cè)量中的應(yīng)用。 ? 減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法 ? 優(yōu)化光刻膠材料選擇 ? 選擇與半導(dǎo)體襯底兼容性良好的光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 06-14 09:42 ?930次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    光刻膠產(chǎn)業(yè)國(guó)內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀

    如果說最終制造出來的芯片是一道美食,那么光刻膠就是最初的重要原材料之一,而且是那種看起來可能不起眼,但卻能決定一道菜味道的關(guān)鍵輔料。 光刻膠(photoresist),在業(yè)內(nèi)又被稱為光阻或光阻劑
    的頭像 發(fā)表于 06-04 13:22 ?1668次閱讀

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí),精準(zhǔn)測(cè)量光刻圖形
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?1397次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?9805次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性