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中微公司亮相2025科技金融與產業(yè)創(chuàng)新大會

中微公司 ? 來源:中微公司 ? 2025-06-17 11:32 ? 次閱讀
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近日,由上海市普陀區(qū)人民政府、中國證券報等機構聯(lián)合主辦的“2025科技金融與產業(yè)創(chuàng)新大會”在上海普陀區(qū)隆重舉行。中微半導體設備(上海)股份有限公司(以下簡稱“中微公司”,股票代碼:688012)董事長兼總經理尹志堯博士受邀出席大會,并以《技術的創(chuàng)新,產品的差異化和知識產權的保護》為題做了主題演講,分享在產業(yè)發(fā)展與技術創(chuàng)新等方面的前沿洞察。大會還向中微公司頒發(fā)了“科創(chuàng)金牛獎·高端裝備”獎項,表彰其在半導體高端裝備領域取得的卓越成績。

在大會主題演講環(huán)節(jié),尹志堯博士談到,數(shù)碼產業(yè)和傳統(tǒng)工業(yè)已經成為國民經濟的兩大支柱。數(shù)碼產業(yè)的發(fā)展正在徹底改變人類的生產方式和生活方式。近年隨著人工智能、云計算、大數(shù)據、自動駕駛等新興產業(yè)進一步加速發(fā)展,半導體微觀加工設備作為數(shù)碼產業(yè)的關鍵基石,其市場高速發(fā)展?!鞍雽w行業(yè)的未來,制造設備是關鍵”,沒有能加工微米及納米級微觀器件的光刻機、等離子體刻蝕機、薄膜沉積等設備,就沒有集成電路和微器件工業(yè),數(shù)碼產業(yè)的發(fā)展也將受到極大制約,而復雜的國際局勢更突顯了“設備強,則數(shù)碼強,設備弱,則數(shù)碼弱”的道理和半導體設備自主可控的重要性。

作為硬科技企業(yè)的代表,尹志堯在會上談及技術創(chuàng)新、產品差異化和知識產權保護時表示:“我們的原則是不抄襲,不復制國際標配設備,要學習和搞懂世界第一和第二設備產品的優(yōu)劣??偪梢韵氤鲛k法,綜合第一和第二設備產品的優(yōu)點,避免缺點,開發(fā)出比第一和第二設備更好的產品。下一步,要開發(fā)更好的產品,超越自己?!?/p>

在頒獎環(huán)節(jié),大會向中微公司頒發(fā)了“科創(chuàng)金牛獎·高端裝備”獎項。該獎由中國證券報主辦,旨在表彰在八大戰(zhàn)略性新興產業(yè)中具有突出科技含量、產業(yè)轉化能力及成長前景的領軍企業(yè)。中微公司作為科創(chuàng)板首批上市企業(yè),近年來在刻蝕設備、薄膜設備等領域實現(xiàn)多項技術突破,在高端裝備領域的“硬科技”實力與行業(yè)標桿地位再次獲得榮譽褒獎。

未來,中微公司將緊跟先進制程發(fā)展的最前沿,堅持三維立體發(fā)展戰(zhàn)略,通過有機成長和外延擴展,踐行科創(chuàng)企業(yè)的“五個十大”,實現(xiàn)高速、穩(wěn)定、健康和安全的高質量發(fā)展,盡早在規(guī)模和競爭力上成為國際一流的半導體設備公司!

關于中微半導體設備(上海)股份有限公司

中微半導體設備(上海)股份有限公司(證券簡稱:中微公司,證券代碼:688012)致力于為全球集成電路和LED芯片制造商提供領先的加工設備和工藝技術解決方案。中微公司開發(fā)的CCP高能等離子體和ICP低能等離子體刻蝕兩大類,包括十幾種細分刻蝕設備已可以覆蓋大多數(shù)刻蝕的應用。中微公司的等離子體刻蝕設備已被廣泛應用于國內和國際一線客戶,從65納米到5納米及更先進工藝的眾多刻蝕應用。中微公司最近十年著重開發(fā)多種導體和半導體化學薄膜設備,如MOCVD,LPCVD,ALD和EPI設備,并取得了可喜的進步。中微公司開發(fā)的用于LED和功率器件外延片生產的MOCVD設備早已在客戶生產線上投入量產,并在全球氮化鎵基LED MOCVD設備市場占據領先地位。此外,中微公司也在布局光學和電子束量檢測設備,并開發(fā)多種泛半導體微觀加工設備。這些設備都是制造各種微觀器件的關鍵設備,可加工和檢測微米級和納米級的各種器件。這些微觀器件是現(xiàn)代數(shù)碼產業(yè)的基礎,它們正在改變人類的生產方式和生活方式。在美國TechInsights(原VLSI Research)近五年的全球半導體設備客戶滿意度調查中,中微公司三次獲得總評分第三,薄膜設備三次被評為第一。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:中微公司出席科技金融與產業(yè)創(chuàng)新大會

文章出處:【微信號:gh_490dbf93f187,微信公眾號:中微公司】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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