據(jù)韓媒報道,三星電子決定最早于本月第三周開始量產(chǎn)HBM4,這批產(chǎn)品將用于英偉達下一代人工智能計算平臺“Vera Rubin”。英偉達有望在下月年度開發(fā)者大會(GTC)上首次公開搭載三星電子HBM4的相關(guān)產(chǎn)品。
三星電子HBM4 采用1c DRAM 和 4nm 制程工藝,其數(shù)據(jù)處理速度超過了JEDEC 標(biāo)準(zhǔn)的8Gbps,最高可達11.7Gbps,比上一代 HBM3E(9.6Gbps)提升22%。單層堆疊的內(nèi)存帶寬也高達3TB/s,比上一代產(chǎn)品提高了2.4 倍,12 層堆疊技術(shù)可提供最大 36GB 的容量。未來擴展到 16 層堆疊技術(shù)預(yù)計可將容量提升至 48GB。其另一大優(yōu)勢在于其低功耗設(shè)計,能夠在支持高性能計算的同時,顯著降低服務(wù)器和數(shù)據(jù)中心的功耗和冷卻成本。
三星電子預(yù)計今年其HBM銷量將比去年增長三倍以上,為支持這一增長,三星正在平澤P4工廠建設(shè)一條新的1c DRAM生產(chǎn)線。該生產(chǎn)線預(yù)計將于明年第一季度完工,月產(chǎn)能預(yù)計為10萬至12萬片晶圓。
SemiAnalysis 行業(yè)分析顯示,韓系廠商 SK 海力士與三星將主導(dǎo)下一代高帶寬內(nèi)存市場,而美光(Micron)因技術(shù)路線受挫,或?qū)⑼词вミ_下一代 Rubin 芯片的 HBM4 訂單,份額恐降至 0%。相比之下,市場預(yù)計 SK 海力士將拿下約 70% 的訂單,剩余 30% 則由三星囊括。
美光內(nèi)部自主設(shè)計和制造 HBM4 的基礎(chǔ)裸片產(chǎn)生嚴重的散熱問題,且引腳速度未能達到客戶標(biāo)準(zhǔn)。盡管美光計劃在重新設(shè)計基礎(chǔ)裸片并優(yōu)化供電網(wǎng)絡(luò)后,于 2026 年第二季度再次提交 NVIDIA 進行資格測試,但NVIDIA 的 Vera Rubin 芯片目前已進入“全速生產(chǎn)”階段,此測試進度有所滯后。
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