多體效應(yīng)在低維電子系統(tǒng)中發(fā)揮著重要作用，并且由于其與蜂窩拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)之間相互作用而使其在石墨烯物理領(lǐng)域引起了極大的關(guān)注。雖然石墨烯中相互作用的理論處理通常假定系統(tǒng)均為清潔且可控的，但這些先決條件難以在天然材料中得到滿足。石墨烯中的二維（2D）鞍點激子（從M點處的鞍點奇點紅移）具有顯著的多體效應(yīng)，但它們的光學(xué)響應(yīng)遠低于器件應(yīng)用的相關(guān)能量范圍。人造石墨烯（AG）是一種用于模擬2D晶體物理中量子行為的可控平臺，其所具有可調(diào)蜂窩晶格的AG系統(tǒng)適用于探索類石墨烯帶結(jié)構(gòu)中多體效應(yīng)的量子條件。

然而，目前固態(tài)AG中的電子-電子相互作用還未見報到，尤其是GaAs基的AG，主要是難以實現(xiàn)觀察這種效應(yīng)的低無序性條件。

近日，哥倫比亞大學(xué)的Lingjie Du（通訊作者）等人在著名期刊Nature Communications上發(fā)表題為“Emerging many-body effects in semiconductor artificial graphene with low disorder”的研究論文，文中報道了在高遷移率的GaAs量子阱（QW）上實現(xiàn)了低無序半導(dǎo)體AG。

研究人員制備出了小周期三角形的反點晶格，用以顯著抑制加工擾動對電子的影響，從而在所生長的QWs上保持了高質(zhì)量狀態(tài)。這一成就使觀察到受交換庫侖相互作用的集體鞍點自旋激子成為可能，所觀察到的庫侖交換相互作用能量與M點處狄拉克帶的能隙相當(dāng)，這表明準(zhǔn)粒子相互作用與AG勢能之間的相互影響。

在低無序的AG晶格中觀察集體鞍點自旋激子以及所出現(xiàn)的相對大的庫侖相互作用都表明在AG中是以電子-電子相互作用效應(yīng)為主導(dǎo)的體系，這就可以探索一些在石墨烯中無法得到的多體效應(yīng)。

圖一 三角形反點晶格中的低無序人造石墨烯

（a）在GaAs量子阱上刻印的帶有周期b的三角形反點晶格示意圖，白色圓圈代表半徑為r的刻蝕反點，黑色和灰色區(qū)域代表未刻蝕區(qū)域，黑色圓圈表示以周期a=b/√3的蜂窩圖案排列的有效點，在評估AG帶結(jié)構(gòu)中，我們在單顆粒近似中使用具有費米能量的丸盒勢（紅色虛線），V0是刻蝕區(qū)域的潛在深度，每個反點都會產(chǎn)生一個有效的排斥勢V0（b）在三角形反點晶格中計算的電子密度，其中V0=6 meV、b=70 nm、a=40.4 nm以及r=20 nm，黃色箭頭強調(diào)了在最鄰近點之間的強化電子耦合，顏色條表示電子密度（c）b中帶參數(shù)AG的兩個最低狄拉克帶，EM表示M點附近的帶隙值

圖二 在三角形反點晶格中制備的人造石墨烯

（a）Zep 520抗蝕劑通過電子束暴露在80 kV的加速電壓下，之后，抗蝕劑演化成三角形反點圖案

（b）帶有圖案的抗蝕劑通過電子泛光暴露在3 kV加速電壓下，用以增強抗蝕劑的化學(xué)穩(wěn)定性

（c）將BCl3基干刻蝕劑以深度控制的方法將圖案轉(zhuǎn)移到襯底上

（d）除去殘余的抗蝕劑后的最終器件，QW位于表面下方80 nm處和Si的δ摻雜層的30 nm處，所生長的電子密度是2.1×1011cm-2，費米能級是7.5 meV，低溫遷移率是106cm2V-1s-1

（e）在0°傾斜（上面板，俯視圖）和40°傾斜（底面板，側(cè)視圖）中具有不同周期的AG晶格的掃描電鏡圖片，所有面板上的黃色標(biāo)尺為50 nm

（f）AG樣品I（入射光子能量為1554.36 meV，藍色標(biāo)識）的子帶間激發(fā)的RILS光譜與所生長的GaAs QW的子帶間激發(fā)（入射光子能量為1550.92 meV，黑色標(biāo)識）之間的比較，對于不同的入射光子能量，樣品I的子帶間激發(fā)的峰寬幾乎是恒定的，光譜是在5 K時在交叉極化下拍攝的

圖三 三角形反點結(jié)構(gòu)中低無序AG的狄拉克帶激發(fā)

（a）AG計算的能帶與樣品I的狄拉克躍遷圖，用不同顏色表示不同環(huán)境中的躍遷

（b）最低的曲線是a中躍遷的聯(lián)合態(tài)密度（JDOS），顏色區(qū)域表明不同環(huán)境下的躍遷，紅色標(biāo)識是高斯擴展下的JDOS，寬度為γ=0.1 meV（其中，選擇的γ以適合接近EM的光譜線形狀），頂部的黃色跡線是樣品I中狄拉克帶激發(fā)的RILS光譜，其入射光子能量?ωi為1522.88 meV

（c）狄拉克帶激發(fā)的RILS光譜，除去了非RILS的背景，垂直虛線表示EM和EX的位置，插圖顯示了EM和EX的電平圖，在這個插圖中，黑色圓圈是c00帶的空穴，紅色圓圈是c01帶的電子

（d）頂部表示RILS光譜，?ωi為1523.06 meV，JDOS（紅色虛線，γ=0.1 meV）與由單粒子激發(fā)所引起的散射強度成正比，底部：上方的跡線表示減除單粒子JDOS強度后的光譜，其中?ωi為1523.06 meV（紫色），1523.01 meV（藍色）和1522.97 meV（綠色），示意圖顯示了M點處的自旋激子能和帶隙能，由于朗道阻尼，自旋激子模型寬度增加

圖四 在子帶間激發(fā)中探測庫侖交換能

（a）表示在子帶間自旋密度激發(fā)（SDE）的RILS的光躍遷，在具有入射光子能量?ωi的躍遷中，入射光子將一個電子從價帶（VB）上激發(fā)到c11/c10態(tài)上，在價帶上留下一個空穴；在具有散射光子能量?ωs的躍遷中，c10/c00態(tài)上的電子會與空穴重新復(fù)合，而發(fā)出散射光子；入射光子能量?ωi與散射光子能量?ωs通過能量守恒E=?ωi- ?ωs相關(guān)聯(lián)，這里的E是所研究的AG激發(fā)能，在SDE中，電子從較低填充的AG子帶激發(fā)到下一個較高子帶而不改變AG帶索引，紅（黑）線在較高（較低）?ωi下通過從c01和c11（從c00和c10）的自旋翻轉(zhuǎn)處理定義SDE激發(fā)電子態(tài)，當(dāng)c01帶高于費米能級時，由于我們實驗是在有限的溫度下存在載流子的熱激發(fā)，因而它被填充（b）RILS光譜的顏色圖是在溫度T=5 K具有交叉極化中所測量的?ωi的函數(shù)，顏色條表示散射光的強度，虛線所標(biāo)識的c01→c10和c00→c11表示將子帶間躍遷與量子阱子帶和AG帶索引之間變化所結(jié)合的能量，標(biāo)有E10的虛線表示量子阱子帶間距的位置，黃色虛線表示SDE的位置，存在與c01→c10和c00→c11躍遷重疊的弱光致發(fā)光以及SDE（c）從（b）中提取的依賴于?ωi的交換能，垂直誤差棒代表從測量的光譜中測定E10和ESDE的估計不確定度

文中所實現(xiàn)的低無序AG揭示了在狀態(tài)密度M點的奇點處存在集體太赫茲鞍點自旋激子。低無序AG是一種可用于研究類石墨烯物理的高度可調(diào)的凝聚態(tài)系統(tǒng)，其中電子相互作用與AG晶格的六方拓?fù)鋺B(tài)之間的相互作用占主導(dǎo)地位。該研究發(fā)現(xiàn)可能為研究凝聚態(tài)系統(tǒng)中強相關(guān)量子態(tài)（鐵電性和非傳統(tǒng)超導(dǎo)性）開辟了新的方法，擴展了量子模擬的工具箱。鑒于鞍點激子處于太赫茲范圍并受可調(diào)參數(shù)的影響，低無序AG可為光電器件應(yīng)用提供一種半導(dǎo)體平臺。