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導(dǎo)電銀漿:基于固化過程電阻演變的環(huán)氧樹脂體系在封裝與柔性電子中的應(yīng)用

蘇州埃利測量儀器有限公司 ? 2026-03-26 18:16 ? 次閱讀
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在先進(jìn)封裝領(lǐng)域,導(dǎo)電銀漿作為芯片互連的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響器件的電氣可靠性與長期穩(wěn)定性。本文以甲基四氫苯酐為固化劑,開發(fā)出一種兼顧芯片封裝與柔性傳感雙功能的環(huán)氧樹脂基導(dǎo)電銀漿。研究全程借助Xfilm埃利四探針方阻儀對固化過程實施實時監(jiān)測,厘清了導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)的形成機制,最終確定了最優(yōu)工藝參數(shù)。

導(dǎo)電銀漿通常由導(dǎo)電相(銀粉)、有機載體(樹脂與固化劑)及功能助劑三大組分構(gòu)成。銀粉形貌對導(dǎo)電性能的影響不可忽視。研究采用球形與片狀銀粉1:1混合的方案。球形銀粉粒徑約0.31 μm,流動性好,但顆粒間以點接觸為主,需要較高銀含量才能形成有效導(dǎo)電通路;片狀銀粉平均尺寸約4.25 μm,具有線接觸或面接觸特性,可在較低銀含量下構(gòu)建導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)。兩者協(xié)同,兼顧了漿料的流變性與導(dǎo)電性。

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銀粉填料形貌與粒徑表征:(a) 球形銀粉SEM圖;(b) 片狀銀粉SEM圖;(c) 球形銀粉粒徑分布直方圖;(d) 片狀銀粉粒徑分布直方圖

固化機制與導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)的實時追蹤

/Xfilm


固化過程的動態(tài)演變一直是領(lǐng)域內(nèi)的薄弱環(huán)節(jié)。該研究將傅里葉變換紅外光譜、差示掃描量熱法與Xfilm埃利四探針方阻儀結(jié)合,構(gòu)建了固化機制—導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)形成的全鏈條分析體系。紅外分析結(jié)果顯示,919 cm?1處環(huán)氧基特征峰完全消失,證實環(huán)氧樹脂與甲基四氫苯酐發(fā)生了完全的開環(huán)交聯(lián)反應(yīng);差示掃描量熱曲線在120°C附近出現(xiàn)放熱峰,標(biāo)志著交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)形成的起點。

四探針方阻儀結(jié)合加熱平臺的實時監(jiān)測揭示了電阻的跳變規(guī)律:在4.3~5 min的窄時間窗口內(nèi),樣品電阻經(jīng)歷了從兆歐級向亞歐級的急劇下降,在t?= 5 min(200°C)時降至0.81 Ω,隨后趨于穩(wěn)定(約0.2 Ω)。這一過程對應(yīng)交聯(lián)密度快速提升引起的樹脂收縮——銀粉顆粒被迫靠攏并形成致密互連網(wǎng)絡(luò),導(dǎo)電通路的密度超越滲流閾值,接觸電阻驟降。燒結(jié)參數(shù)優(yōu)化實驗進(jìn)一步確認(rèn),200°C / 2 h為最優(yōu)固化條件,在此條件下體積電阻率達(dá)到3.99×10??Ω·cm。

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(a) 環(huán)氧樹脂、甲基四氫苯酐及反應(yīng)產(chǎn)物的紅外光譜;(b) 混合后的差示掃描量熱曲線;(c)(d) 燒結(jié)過程中電阻–時間與溫度–時間曲線及局部放大圖;(e)(f) 電阻率隨燒結(jié)溫度與燒結(jié)時間的變化曲線;(g) 銀漿固化機制示意圖

組分協(xié)同調(diào)控:稀釋劑、銀含量與偶聯(lián)劑

/Xfilm


在組分優(yōu)化方面,研究對比了活性與非活性兩類稀釋劑的作用。非活性稀釋劑二甲基甲酰胺對降阻效果突出;而活性稀釋劑丁基縮水甘油醚則同時參與共固化,使剪切強度較其他稀釋劑提升約一倍,成為綜合性能最優(yōu)選擇。

隨銀粉含量從S-1升至S-5(84 wt% Ag),體積電阻率由2.3×10??Ω·cm降至2.95×10??Ω·cm,剪切強度則從30 MPa降至19.27 MPa,孔隙率由32.94%降至12.32%。綜合權(quán)衡,S-4配方(84 wt% Ag)實現(xiàn)了電阻率與粘接強度的最優(yōu)平衡。旋轉(zhuǎn)黏度計測試表明,S-4呈典型假塑性流體特征(0.5 rpm時黏度20 683 cps,5 rpm時降至3334 cps),完全滿足絲網(wǎng)印刷工藝要求,300目印刷樣品電阻率為3.77×10??Ω·cm。

硅烷偶聯(lián)劑KH560的引入進(jìn)一步完善了界面結(jié)構(gòu)。X射線光電子能譜證實KH560與銀粉表面形成了Si–O–Ag化學(xué)鍵,其環(huán)氧基同時參與樹脂固化,起到增強銀粉分散性與提升界面粘附的雙重作用。適量添加可使剪切強度和水接觸角同時達(dá)到峰值,過量則導(dǎo)致顆粒界面形成不連續(xù)有機層,反而削弱力學(xué)性能與導(dǎo)電性。

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固化前:(a) S-1;固化后:(b) S-1,(c) S-5,(d) C-1,(e) C-3,(f) C-5的SEM微觀結(jié)構(gòu)圖

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(a) 電阻率與剪切強度測試方法示意;(b) 不同稀釋劑對性能的影響;(c) S-1至S-5樣品的電阻與剪切強度變化曲線;(d) S-1至S-4的孔隙率;(e)(f) C-1至C-5的電阻率、剪切強度及孔隙率變化;(g) C-1至C-5的水接觸角變化


硬度與附著力測試

/Xfilm

銀漿在硅基底上的力學(xué)性能通過鉛筆硬度測試(ASTM D3363)和劃格法附著力測試(ASTM D3359)系統(tǒng)評估。硬度測試表明,銀漿涂層在6H鉛筆載荷下發(fā)生明顯剝落,而在5H鉛筆劃刻時保持結(jié)構(gòu)完整,可重復(fù)達(dá)到5B硬度等級。附著力測試中,網(wǎng)格切割面邊緣平整,無微裂紋;膠帶剝離后所有網(wǎng)格單元完整保留,附著力評級為最高級5B,證明銀漿與硅基底具有出色的界面結(jié)合強度。

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硬度測試:(a) 6H;(b) 5H;玻璃基底上的劃格附著力測試:(c) 剝離前;(d) 剝離后。

柔性傳感應(yīng)用:SP-CY復(fù)合傳感器

/Xfilm


將銀漿涂覆于棉紗表面并經(jīng)150°C固化,制備出銀漿-棉紗復(fù)合導(dǎo)電纖維(SP-CY)。掃描電子顯微鏡與能量色散X射線光譜分析顯示,燒結(jié)后銀顆粒均勻附著于紗線表面,未滲入棉纖維內(nèi)部,在保留基底柔韌性的同時建立了穩(wěn)定導(dǎo)電層。

傳感器測試結(jié)果表明,彎曲時顆粒間接觸面積增大、電阻降低,伸展時因環(huán)氧基體黏彈性導(dǎo)致應(yīng)力松弛,電阻緩慢恢復(fù)。傳感器在手指、手腕、肘部均展現(xiàn)出一致的波形響應(yīng),靈敏因子為0.2358,響應(yīng)時間190 ms,恢復(fù)時間80 ms。500秒連續(xù)循環(huán)測試中電阻響應(yīng)波動幅度低于5%;18天長期測試中漂移率不超過5%;80°C高溫老化18天后電阻變化率低于3%。環(huán)氧基體的黏彈特性還賦予傳感器對肌肉恢復(fù)過程的定量表征能力,在可穿戴康復(fù)監(jiān)測領(lǐng)域具有潛在應(yīng)用價值。

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SP-CY柔性傳感器表征與人體運動監(jiān)測:(a) 人體運動監(jiān)測示意圖;(b) 棉紗基底SEM與EDS圖譜;(c) SP-CY的SEM與EDS圖譜;(d) 不同彎曲半徑下彎曲電阻曲線;(e)(f) 手指外側(cè)與內(nèi)側(cè)彎曲時電阻變化;(g)(h) 手腕內(nèi)外側(cè)電阻響應(yīng);(i)(j) 肘部內(nèi)外側(cè)電阻變化;(k) SP-CY信號傳輸測試

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SP-CY穩(wěn)定性表征:(a) 動態(tài)靈敏度響應(yīng)曲線;(b) 彎曲循環(huán)穩(wěn)定性測試;(c) 18天長期重復(fù)性測試;(d) 80°C高溫老化18天性能變化

芯片封裝驗證

/Xfilm


利用精密點膠工藝將銀漿沉積于預(yù)圖案化的鍍銀基板上,完成半導(dǎo)體芯片的貼片與金線鍵合,構(gòu)成完整的芯片封裝結(jié)構(gòu),驗證了銀漿對標(biāo)準(zhǔn)微電子組裝工藝的良好兼容性。SP-CY在水中浸泡測試中保持電路連通,與之相連的LED持續(xù)發(fā)光,證實環(huán)氧基體對濕熱環(huán)境具有有效的隔濕屏障作用。

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芯片封裝圖:(a) 正面;(b) 背面;(c) SP-CY導(dǎo)電性與防水性測試(水中LED點亮演示)

本研究以Xfilm埃利四探針方阻儀實時監(jiān)測為核心分析手段,系統(tǒng)揭示了環(huán)氧樹脂基導(dǎo)電銀漿從固化到導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)建立的完整動態(tài)過程,確立了200°C / 2 h的最優(yōu)低溫固化工藝。優(yōu)化后的S-4配方體積電阻率低至2.95×10??Ω·cm,剪切強度30 MPa,孔隙率12.32%,鉛筆硬度與附著力均達(dá)5B級,接觸電阻僅10.78 mΩ,全面滿足芯片封裝的嚴(yán)苛要求,同時在柔性應(yīng)變傳感方向展現(xiàn)出良好的應(yīng)用潛力,為下一代互連材料與柔性可穿戴器件的研發(fā)提供了系統(tǒng)性技術(shù)支撐。


Xfilm埃利四探針方阻儀

/Xfilm


Xfilm埃利四探針方阻儀用于測量薄層電阻(方阻)或電阻率,可以對最大230mm 樣品進(jìn)行快速、自動的掃描, 獲得樣品不同位置的方阻/電阻率分布信息。

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超高測量范圍,測量1mΩ~100MΩ

高精密測量,動態(tài)重復(fù)性可達(dá)0.2%

全自動多點掃描,多種預(yù)設(shè)方案亦可自定義調(diào)節(jié)

快速材料表征,可自動執(zhí)行校正因子計算

基于四探針法的Xfilm埃利四探針方阻儀,憑借智能化與高精度的電阻測量優(yōu)勢,可助力評估電阻,推動多領(lǐng)域的材料檢測技術(shù)升級。

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