澤攸科技文章

• 澤攸科技 | EBL和EUV光刻機(jī)有何區(qū)別？如何影響半導(dǎo)體行業(yè)？2026-01-06 16:49

  

  從技術(shù)路徑上看，電子束光刻和大家熟悉的EUV光刻并不是同一類問題的解法。電子束光刻本質(zhì)上是一種直接寫入技術(shù)，利用聚焦電子束在抗蝕劑上逐點(diǎn)曝光，通過電磁控制精確描繪圖形。這種方式不依賴掩模，在設(shè)計(jì)頻繁迭代的研發(fā)階段非常有優(yōu)勢(shì)，尤其適合量子器件、新型材料結(jié)構(gòu)、原型芯片以及掩模制作等場(chǎng)景。

  半導(dǎo)體 771瀏覽量

• 澤攸科技 | 臺(tái)階儀：微觀形貌的精密解析工具 —— 原理、技術(shù)與產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用2025-08-19 10:31

  

  在精密制造與前沿科研領(lǐng)域，微觀表面形貌的量化表征是保障產(chǎn)品性能與推動(dòng)技術(shù)創(chuàng)新的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。臺(tái)階儀作為一種高精度表面測(cè)量?jī)x器，通過對(duì)樣品表面高度差、粗糙度及薄膜厚度等參數(shù)的精確獲取，為半導(dǎo)體、納米材料、光學(xué)工程等領(lǐng)域提供了不可或缺的技術(shù)支撐。

  測(cè)量?jī)x 測(cè)量設(shè)備 精密測(cè)量 1530瀏覽量

• 澤攸科技 | 電子束光刻（EBL）技術(shù)介紹2025-08-14 10:07

  

  電子束光刻（EBL）是一種無需掩模的直接寫入式光刻技術(shù)，其工作原理是通過聚焦電子束在電子敏感光刻膠表面進(jìn)行納米級(jí)圖案直寫。

  光刻機(jī) 電子束 3250瀏覽量

• 澤攸科技 | 國(guó)產(chǎn)臺(tái)階儀和進(jìn)口臺(tái)階儀相比，各有什么優(yōu)勢(shì)？2025-08-14 09:56

  

  在全球精密測(cè)量設(shè)備市場(chǎng)中，臺(tái)階儀作為微納形貌檢測(cè)的核心工具，長(zhǎng)期被進(jìn)口品牌主導(dǎo)。然而，隨著國(guó)產(chǎn)技術(shù)的突破，以澤攸科技為代表的國(guó)產(chǎn)臺(tái)階儀憑借“高精度、高性價(jià)比、強(qiáng)服務(wù)”等優(yōu)勢(shì)，正加速搶占市場(chǎng)。

  傳感器 精密測(cè)量 2005瀏覽量