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光刻膠又遇“卡脖子”,國產(chǎn)替代刻不容緩

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焦點(diǎn)訪談專訪“卡脖子”技術(shù):清研電子領(lǐng)跑干法超容全產(chǎn)業(yè)鏈

業(yè)"卡脖子"困境,深圳清研電子科技有限公司依托深圳清華大學(xué)研究院先進(jìn)儲能材料及器件實(shí)驗(yàn)室20年的技術(shù)積淀,以粉體成膜技術(shù)(PIFs)為核心,致力于打造自主可控的干法超級電容
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高效設(shè)計(jì),國產(chǎn)精品:BT5026——LM5026的優(yōu)質(zhì)Pin-to-Pin替代方案

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2025-09-02 09:27:59818

NAS存儲系統(tǒng)斷電風(fēng)險(xiǎn)大?UPS電源守護(hù)數(shù)據(jù)安全刻不容緩

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從“卡脖子”到“新引擎”,瑞之辰壓力傳感器的創(chuàng)新發(fā)展

替代窗口期。瑞之辰科技身處窗口期,這家專精特新“小巨人”企業(yè)用技術(shù)實(shí)力撕開進(jìn)口壟斷的缺口,讓國產(chǎn)壓力傳感技術(shù)從“卡脖子”變“新引擎”。萬億市場背后的“卡脖子”困
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澤攸科技 | 電子束光刻(EBL)技術(shù)介紹

電子束光刻(EBL)是一種無需掩模的直接寫入式光刻技術(shù),其工作原理是通過聚焦電子束在電子敏感光刻膠表面進(jìn)行納米級圖案直寫。
2025-08-14 10:07:212552

全球市占率35%,國內(nèi)90%!芯上微裝第500臺步進(jìn)光刻機(jī)交付

制造過程中至關(guān)重要的一步,它通過曝光和顯影過程,在光刻膠層上精確地刻畫出幾何圖形結(jié)構(gòu),隨后利用刻蝕工藝將這些圖形轉(zhuǎn)移到襯底材料上。這一過程直接決定了最終芯片的性能與功能。芯上微裝已經(jīng)與盛合晶微半導(dǎo)體(江陰)有限公司等企業(yè)達(dá)成合作
2025-08-13 09:41:341988

從光固化到半導(dǎo)體材料:久日新材的光刻膠國產(chǎn)替代之路

當(dāng)您尋找可靠的國產(chǎn)半導(dǎo)體材料供應(yīng)商時(shí),一家在光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈突破的企業(yè)正脫穎而出——久日新材(688199.SH)。這家光引發(fā)劑巨頭,正以令人矚目的速度在半導(dǎo)體核心材料國產(chǎn)化浪潮中嶄露頭角
2025-08-12 16:45:381160

半導(dǎo)體濕法去膠原理

半導(dǎo)體濕法去膠是一種通過化學(xué)溶解與物理輔助相結(jié)合的技術(shù),用于高效、可控地去除晶圓表面的光刻膠及其他工藝殘留物。以下是其核心原理及關(guān)鍵機(jī)制的詳細(xì)說明:化學(xué)溶解作用溶劑選擇與反應(yīng)機(jī)制有機(jī)溶劑體系:針對正性光刻膠
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國產(chǎn)百噸級KrF光刻膠樹脂產(chǎn)線正式投產(chǎn)

? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 近日,八億時(shí)空宣布其KrF光刻膠萬噸級半導(dǎo)體制程高自動化研發(fā)/量產(chǎn)雙產(chǎn)線順利建成,標(biāo)志著我國在中高端光刻膠領(lǐng)域的自主化進(jìn)程邁出關(guān)鍵一步。 ? 此次建成的KrF光刻膠產(chǎn)線采用
2025-08-10 03:26:009090

3D 共聚焦顯微鏡 | 芯片制造光刻工藝的表征應(yīng)用

光刻工藝是芯片制造的關(guān)鍵步驟,其精度直接決定集成電路的性能與良率。隨著制程邁向3nm及以下,光刻膠圖案三維結(jié)構(gòu)和層間對準(zhǔn)精度的控制要求達(dá)納米級,傳統(tǒng)檢測手段難滿足需求。光子灣3D共聚焦顯微鏡憑借非
2025-08-05 17:46:43944

光阻去除工藝有哪些

光阻去除工藝(即去膠工藝)是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵步驟,旨在清除曝光后的光刻膠而不損傷底層材料。以下是主流的技術(shù)方案及其特點(diǎn):一、濕法去膠技術(shù)1.有機(jī)溶劑溶解法原理:利用丙酮、NMP(N-甲基吡咯烷酮
2025-07-30 13:25:43916

晶圓蝕刻后的清洗方法有哪些

、有機(jī)殘留物和部分蝕刻產(chǎn)物。常用溶劑:丙酮(Acetone):溶解正性光刻膠。醋酸乙酯(EthylAcetate):替代丙酮的環(huán)保溶劑。N-甲基吡咯烷酮(NMP)
2025-07-15 14:59:011621

國產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動

? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 光刻膠作為芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心耗材,尤其高端材料長期被日美巨頭壟斷,國外企業(yè)對原料和配方高度保密,我國九成以上光刻膠依賴進(jìn)口。不過近期,國產(chǎn)光刻膠領(lǐng)域捷報(bào)頻傳——從KrF
2025-07-13 07:22:006083

行業(yè)案例|膜厚儀應(yīng)用測量之光刻膠厚度測量

光刻膠,又稱光致抗蝕劑,是一種關(guān)鍵的耐蝕劑刻薄膜材料。它在紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射下,溶解度會發(fā)生變化,主要應(yīng)用于顯示面板、集成電路和半導(dǎo)體分立器件等細(xì)微圖形加工作業(yè)。由于
2025-07-11 15:53:24430

瑞之辰傳感器:從“卡脖子”到“殺手锏”的技術(shù)突圍

壓力傳感器的國產(chǎn)替代,將這一“卡脖子”難題逐步轉(zhuǎn)變?yōu)樽陨淼募夹g(shù)“殺手锏”。破解“卡脖子”的技術(shù)密碼當(dāng)動力電池安全監(jiān)測需要精度達(dá)1%FS的微型壓力傳感器時(shí),當(dāng)工業(yè)自動化
2025-07-01 17:06:551798

改善光刻圖形線寬變化的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

的應(yīng)用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優(yōu)化曝光工藝參數(shù) 曝光是決定光刻圖形線寬的關(guān)鍵步驟。精確控制曝光劑量,可避免因曝光過度導(dǎo)致光刻膠過度反應(yīng),使線寬變寬;或曝光不足造成線寬變窄。采用先進(jìn)的曝光設(shè)備,如極紫外(EUV)光刻機(jī)
2025-06-30 15:24:55739

改善光刻圖形垂直度的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

深入探討白光干涉儀在光刻圖形測量中的應(yīng)用。 改善光刻圖形垂直度的方法 優(yōu)化光刻膠性能 光刻膠的特性直接影響圖形垂直度。選用高對比度、低膨脹系數(shù)的光刻膠,可減少曝光和顯影過程中的圖形變形。例如,化學(xué)增幅型光刻膠具有良
2025-06-30 09:59:13489

針對晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié),其效果直接影響芯片性能與良率。同時(shí),光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
2025-06-25 10:19:48815

金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測量

物的應(yīng)用,并探討白光干涉儀在光刻圖形測量中的作用。 金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物 配方組成 金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物主要由有機(jī)溶劑、堿性助劑、蝕體系和添加劑構(gòu)成。有機(jī)溶劑如 N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMP),
2025-06-24 10:58:22565

用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測量

引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關(guān)鍵環(huán)節(jié)。銅布線在制程中廣泛應(yīng)用,但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對銅產(chǎn)生腐蝕,影響器件性能。同時(shí),光刻圖形的精準(zhǔn)測量對確保 ARRAY 制程工藝精度
2025-06-18 09:56:08693

低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

引言 在半導(dǎo)體制造過程中,光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)雖在光刻膠剝離方面表現(xiàn)出色,但因其高含量使用帶來的成本、環(huán)保等問題備受關(guān)注。同時(shí),光刻圖形的精準(zhǔn)
2025-06-17 10:01:01678

突破"卡脖子"困境:國產(chǎn)工業(yè)電源加速半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)替代

在全球科技競爭加劇的背景下,美國對國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)制裁加速,涉及超過100家實(shí)體企業(yè),覆蓋了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈多個(gè)制造環(huán)節(jié),半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈國產(chǎn)化迫在眉睫。 從光刻機(jī)到刻蝕機(jī),從清洗設(shè)備到檢測設(shè)備,半導(dǎo)體
2025-06-16 15:04:102060

為什么光刻要用黃光?

通過使用光掩膜和光刻膠在基板上復(fù)制流體圖案的過程?;鍖⑼扛补瓒趸瘜咏^緣層和光刻膠光刻膠在被紫外光照射后可以容易地用顯影劑溶解,然后在腐蝕后,流體圖案將留在基板上。無塵室(Cleanroom)排除掉空間范圍內(nèi)空氣中的微
2025-06-16 14:36:251070

金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測量

引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離是重要工序。傳統(tǒng)剝離液常對金屬層產(chǎn)生過度刻蝕,影響器件性能。同時(shí),光刻圖形的精確測量也是確保制造質(zhì)量的關(guān)鍵。本文聚焦金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應(yīng)用,并
2025-06-16 09:31:51586

減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時(shí),光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
2025-06-14 09:42:56736

不良瓷嘴導(dǎo)致LED斷線死燈問題多,瓷嘴優(yōu)化刻不容緩

在LED封裝領(lǐng)域,焊線工藝是確保器件性能與可靠性的核心環(huán)節(jié)。而瓷嘴,作為焊線工藝中一個(gè)看似微小卻極為關(guān)鍵的部件,其對引線鍵合品質(zhì)的影響不容忽視。大量失效分析案例證明,LED封裝器件的死燈失效絕大多數(shù)
2025-06-12 14:03:06670

顯示面板 “良率保衛(wèi)戰(zhàn)”:新啟航激光修屏如何破解國產(chǎn)面板廠 “卡脖子” 困局?

解決這一困境帶來了新的希望。 二、國產(chǎn)面板廠面臨的 “卡脖子” 困境 (一)技術(shù)瓶頸限制良率提升 在顯示面板生產(chǎn)過程中,涉及到多個(gè)復(fù)雜的工藝環(huán)節(jié),如蒸鍍、光刻等。以 OLED 面板生產(chǎn)為例,其核心模具 FMM(Fine Metal Mask,精密
2025-06-12 10:03:26851

華為Pura80發(fā)布,一項(xiàng)卡脖子傳感器技術(shù)獲突破,一項(xiàng)傳感器技術(shù)仍被卡脖子!

與Mate系列并列的旗艦機(jī)型,華為選擇了在蘋果WWDC 25的次日舉行發(fā)布會,可見華為對Pura 80系列手機(jī)的重視,以及“硬鋼”蘋果的信心。 ? 而在此前,從網(wǎng)絡(luò)信息看,大家對華為Pura 80系列手機(jī)的期待和看點(diǎn)中,有兩大熱點(diǎn)與此前華為被卡脖子的兩個(gè)傳感器技術(shù)相關(guān)。 其中,一項(xiàng)卡脖子
2025-06-11 19:15:172581

光刻工藝中的顯影技術(shù)

一、光刻工藝概述 光刻工藝是半導(dǎo)體制造的核心技術(shù),通過光刻膠在特殊波長光線或者電子束下發(fā)生化學(xué)變化,再經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程,將設(shè)計(jì)在掩膜上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上,是現(xiàn)代半導(dǎo)體、微電子、信息產(chǎn)業(yè)
2025-06-09 15:51:162127

我國為什么要發(fā)展半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈

,限制先進(jìn)制程研發(fā),倒逼中國通過國產(chǎn)替代構(gòu)建自主供應(yīng)鏈。例如華為海思在5G通信芯片、瑞之辰在碳化硅功率模塊領(lǐng)域和MEMS傳感器方面的技術(shù)突破,均是對“卡脖子”困境的
2025-06-09 13:27:371250

瑞之辰科技:以技術(shù)創(chuàng)新推進(jìn)壓力傳感器國產(chǎn)替代

在當(dāng)前全球科技競爭日益激烈的背景下,傳感器作為現(xiàn)代工業(yè)和智能科技的核心部件,其重要性不言而喻。然而,高端傳感器市場長期以來被國外企業(yè)壟斷,成為我國科技發(fā)展的一大“卡脖子”問題。深圳市瑞之辰
2025-06-06 13:10:391052

九霄智能國產(chǎn)EDA工具的突圍之路

技術(shù)視角,剖開國產(chǎn)EDA工具的真實(shí)發(fā)展脈絡(luò)——那些被汗水浸潤的代碼、被反復(fù)推翻重構(gòu)的算法模型,以及一家本土科技企業(yè)在解決「卡脖子」困境中選擇的「艱難而正確」的道路。
2025-06-06 10:09:232316

國產(chǎn)傳感器突圍:瑞之辰如何用技術(shù)創(chuàng)新打破海外壟斷

海外企業(yè)壟斷,成為“卡脖子”技術(shù)之一。在這片被巨頭割據(jù)的戰(zhàn)場,深圳市瑞之辰科技有限公司正以多項(xiàng)壓力傳感器的創(chuàng)新技術(shù),推動國產(chǎn)替代的進(jìn)程。硬核技術(shù)背后的國產(chǎn)化密碼瑞之辰的競爭力源于對
2025-06-05 11:10:281003

光刻膠產(chǎn)業(yè)國內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀

如果說最終制造出來的芯片是一道美食,那么光刻膠就是最初的重要原材料之一,而且是那種看起來可能不起眼,但卻能決定一道菜味道的關(guān)鍵輔料。 光刻膠(photoresist),在業(yè)內(nèi)又被稱為光阻或光阻劑
2025-06-04 13:22:51992

PCIe EtherCAT實(shí)時(shí)運(yùn)動控制卡PCIE464點(diǎn)工藝中的同步/提前/延時(shí)開關(guān)

運(yùn)動中實(shí)現(xiàn)同步/提前/延時(shí)開關(guān)
2025-05-29 13:49:24601

MICRO OLED 金屬陽極像素制作工藝對晶圓 TTV 厚度的影響機(jī)制及測量優(yōu)化

與良品率,因此深入探究二者關(guān)系并優(yōu)化測量方法意義重大。 影響機(jī)制 工藝應(yīng)力引發(fā)變形 在金屬陽極像素制作時(shí),諸如光刻、蝕刻、金屬沉積等步驟會引入工藝應(yīng)力。光刻中,光刻膠的涂覆與曝光過程會因光刻膠固化收縮產(chǎn)生應(yīng)力。蝕刻階段,蝕刻氣體或液體對晶圓表面的作用若不均
2025-05-29 09:43:43588

光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí),精準(zhǔn)測量光刻圖形對把控工藝質(zhì)量意義重大,白光干涉儀為此提供了有力的技術(shù)保障
2025-05-29 09:38:531108

破局而立 向新而行 盤古信息:國產(chǎn)工業(yè)軟件的突圍之路

依賴進(jìn)口,本土企業(yè)則因研發(fā)投入不足、人才斷層、生態(tài)割裂等問題,在核心技術(shù)與市場競爭力上難以匹敵,行業(yè)一度面臨 “卡脖子” 危機(jī)。 然而,隨著國產(chǎn)替代浪潮的興起,伴隨著國家信創(chuàng)戰(zhàn)略推進(jìn)與制造業(yè)數(shù)字化轉(zhuǎn)型加速,國產(chǎn)工業(yè)軟件正
2025-05-28 09:16:06626

Micro OLED 陽極像素定義層制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

優(yōu)勢,為光刻圖形測量提供了可靠手段。 ? Micro OLED 陽極像素定義層制備方法 ? 傳統(tǒng)光刻工藝 ? 傳統(tǒng) Micro OLED 陽極像素定義層制備常采用光刻剝離工藝。首先在基板上沉積金屬層作為陽極材料,接著旋涂光刻膠,通過掩模版曝光使光刻膠發(fā)生光化學(xué)反應(yīng),隨后
2025-05-23 09:39:17628

國產(chǎn)工控如何破局“卡脖子”?核心技術(shù)鑄就自主可控新篇章

在國際供應(yīng)鏈不確定性加劇的當(dāng)下,工業(yè)設(shè)備的自主可控已成為保障生產(chǎn)安全與效率的關(guān)鍵。如何實(shí)現(xiàn)從芯片、系統(tǒng)到應(yīng)用的100%國產(chǎn)化?如何讓工業(yè)設(shè)備兼具澎湃算力與硬核安全? 英康仕工控兩款標(biāo)桿產(chǎn)品
2025-05-21 16:07:411009

一文讀懂啟明智顯 Model系列 HMI芯片:從性能參數(shù)到場景適配的選型指南

“芯片”卡脖子的問題持續(xù)受到關(guān)注,國產(chǎn)化道路一直被提及。中國企業(yè)一直在探索突破的可能性,在“國產(chǎn)化”這條長征路上不斷進(jìn)發(fā)。作為深耕于HMI領(lǐng)域的中國企業(yè),啟明智顯也在HMI芯片方案上堅(jiān)持要突破
2025-05-21 15:45:501066

光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件免費(fèi)試用

光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導(dǎo)體通用格式的圖紙轉(zhuǎn)換成如bmp或者tiff格式進(jìn)行掩模版加工制造,在掩膜加工領(lǐng)域或者無掩膜光刻領(lǐng)域不可或缺,在業(yè)內(nèi)也被稱為矢量圖形光柵化軟件
2025-05-02 12:42:10

光刻膠的類型及特性

光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和光刻膠特性。
2025-04-29 13:59:337829

最全最詳盡的半導(dǎo)體制造技術(shù)資料,涵蓋晶圓工藝到后端封測

第9章 集成電路制造工藝概況 第10章 氧化 第11章 淀積 第12章 金屬化 第13章 光刻:氣相成底膜到軟烘 第14章 光刻:對準(zhǔn)和曝光 第15章 光刻光刻膠顯影和先進(jìn)的光刻技術(shù) 第16章
2025-04-15 13:52:11

福田汽車2025年一季度銷量超17萬輛

當(dāng)前,傳統(tǒng)燃油商用車市場正面臨結(jié)構(gòu)性調(diào)整,技術(shù)路線向純電、混動、燃料電池多線并進(jìn),新能源技術(shù)加速滲透,新能源商用車市場增速顯著,商用車行業(yè)向綠色化、智能化轉(zhuǎn)型刻不容緩。
2025-04-10 11:44:59628

從芯片制造流程,探尋國產(chǎn)芯片突圍之路

近年來,芯片行業(yè)深陷大國博弈的風(fēng)口浪尖。國內(nèi)芯片產(chǎn)業(yè)的 “卡脖子” 難題,更多集中于芯片制造環(huán)節(jié),尤其是光刻機(jī)、光刻膠等關(guān)鍵設(shè)備和材料領(lǐng)域。作為現(xiàn)代科技的核心,芯片的原材料竟是生活中隨處可見的沙子
2025-04-07 16:41:591257

國產(chǎn)替代進(jìn)口圖像采集卡:機(jī)遇、挑戰(zhàn)與策略

展現(xiàn)出獨(dú)特的優(yōu)勢。本文將深入探討國產(chǎn)替代進(jìn)口圖像采集卡的背景、機(jī)遇、挑戰(zhàn)以及相應(yīng)的應(yīng)對策略,旨在為推動該領(lǐng)域的發(fā)展提供參考。一、國產(chǎn)替代的背景與必要性多年來,進(jìn)口
2025-04-07 15:58:04833

南方智能SmartDBase數(shù)字孿生底座平臺推動行業(yè)數(shù)字化升級

全球科技競爭加劇,信息安全問題凸顯,中國正加速推進(jìn)信息技術(shù)自主創(chuàng)新與國產(chǎn)替代進(jìn)程。在此背景下,突圍“卡脖子”困境,擁抱信創(chuàng)生態(tài),確保產(chǎn)品技術(shù)自主可控和信息安全,成為了科技型企業(yè)破局前行的關(guān)鍵。
2025-04-07 13:55:16790

國內(nèi)首臺!沈陽儀表院突破一卡脖子傳感器設(shè)備制造

1/3的管道無法實(shí)施內(nèi)檢測,安全隱患很大。此前復(fù)雜油氣管道內(nèi)檢測技術(shù)、設(shè)備被國外壟斷,是典型的“卡脖子”問題。 瞄準(zhǔn)國內(nèi)復(fù)雜油氣管道內(nèi)檢測不敢檢、不能檢問題,國機(jī)集團(tuán)沈陽儀表科學(xué)研究院有限公司(簡稱沈陽儀表院)
2025-04-03 17:37:05779

【「芯片通識課:一本書讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗(yàn)】芯片怎樣制造

數(shù)據(jù)中介的示意圖。 光刻膠 正性光刻膠中感光部分的光刻膠可以被腐蝕溶解掉,未感光部分的光刻膠不能被腐蝕溶解;復(fù)姓光刻膠的感光部分的光刻膠不能被腐蝕溶解,未感光部分的光刻膠可以被腐蝕溶解掉。如下圖所示
2025-04-02 15:59:44

【「芯片通識課:一本書讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗(yàn)】了解芯片怎樣制造

,三合一工藝平臺,CMOS圖像傳感器工藝平臺,微電機(jī)系統(tǒng)工藝平臺。 光掩模版:基板,不透光材料 光刻膠:感光樹脂,增感劑,溶劑。 正性和負(fù)性。 光刻工藝: 涂光刻膠。掩模版向下曝光。定影和后烘固化蝕刻
2025-03-27 16:38:20

機(jī)轉(zhuǎn)速對微流控芯片精度的影響

微流控芯片制造過程中,勻是關(guān)鍵步驟之一,而勻機(jī)轉(zhuǎn)速會在多個(gè)方面對微流控芯片的精度產(chǎn)生影響: 對光刻膠厚度的影響 勻機(jī)轉(zhuǎn)速與光刻膠厚度成反比關(guān)系。旋轉(zhuǎn)速度影響勻時(shí)的離心力,轉(zhuǎn)速越大,角速度越大
2025-03-24 14:57:16750

世強(qiáng)硬創(chuàng)與米德方格合作,能否助力國產(chǎn)芯片突破“卡脖子”難題?

在智能家居、汽車電子、工業(yè)控制等領(lǐng)域的規(guī)?;瘧?yīng)用,助力中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突破“卡脖子”難題。 世強(qiáng)硬創(chuàng)平臺依托覆蓋超1200家原廠的產(chǎn)業(yè)互聯(lián)網(wǎng)生態(tài),為米德方格提供了全鏈路研發(fā)支持。米德方格的核心技術(shù)資源已全面上線該平臺,工程
2025-03-20 17:02:17780

半導(dǎo)體材料介紹 | 光刻膠及生產(chǎn)工藝重點(diǎn)企業(yè)

光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液
2025-03-18 13:59:533005

國產(chǎn)芯片替代方案:解析沁恒以太網(wǎng)PHY芯片

沁恒國產(chǎn)以太網(wǎng)PHY芯片:高性能替代方案助力國產(chǎn)化升級
2025-03-12 10:40:163547

支持國貨?。?!免積分分享國產(chǎn)芯片電機(jī)驅(qū)動系統(tǒng)設(shè)計(jì)

美國對中國的芯片出口進(jìn)行嚴(yán)格管制,導(dǎo)致中國很多科技企業(yè)陷入困難境地,發(fā)展和使用國產(chǎn)化的芯片刻不容緩,在此背景下,本文設(shè)計(jì)了一款全國產(chǎn)化的電機(jī)驅(qū)動系統(tǒng)。
2025-03-07 13:36:19

微流控勻過程簡述

所需的厚度。在微流控領(lǐng)域,勻機(jī)主要用于光刻膠的涂覆,以確保光刻過程的均勻性和質(zhì)量。 勻機(jī)的主要組成部分 旋轉(zhuǎn)平臺:承載基片的平臺,通過高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生離心力。 滴裝置:控制液的滴落量和位置。 控制系統(tǒng):調(diào)節(jié)旋轉(zhuǎn)速
2025-03-06 13:34:21677

國產(chǎn)替代新標(biāo)桿:紫光THA6車規(guī)MCU的功耗控制與熱管理方案

當(dāng)全球汽車行業(yè)因芯片短缺陷入“卡脖子”困境時(shí),紫光同芯的THA6系列車規(guī)MCU橫空出世,不僅填補(bǔ)了國產(chǎn)高端MCU的空白,更憑借“功耗控制”與“熱管理”兩大殺手锏,直接對標(biāo)國際大廠英飛凌TC387
2025-02-19 17:11:292144

國產(chǎn)電容式MEMS壓力傳感器得到實(shí)現(xiàn)

壓力芯片擁有完全自主知識產(chǎn)權(quán),已獲10項(xiàng)專利授權(quán),從設(shè)計(jì)到生產(chǎn)的每個(gè)環(huán)節(jié)均在國內(nèi)完成,實(shí)現(xiàn)了MEMS電容式壓力芯片領(lǐng)域的國產(chǎn)替代,突破了國外對電容式壓力芯片設(shè)計(jì)制造的卡脖子技術(shù),解決了國外專利知識產(chǎn)權(quán)的卡脖子問題,填補(bǔ)了國內(nèi)技術(shù)空白,芯片通
2025-02-19 12:43:411286

午芯芯科技國產(chǎn)電容式MEMS壓力傳感器芯片突破卡脖子技術(shù)

科技MEMS壓力芯片是由哈爾濱工業(yè)大學(xué)、沈陽理工大學(xué)的多位博導(dǎo)、教授老師帶領(lǐng)的科研團(tuán)隊(duì),進(jìn)行成果轉(zhuǎn)化,突破了歐美對中國MEMS壓力芯片卡脖子技術(shù),擁有完全自主知識產(chǎn)權(quán),填補(bǔ)了國內(nèi)技術(shù)空白,已獲得授權(quán)10
2025-02-19 12:19:20

風(fēng)華電容的性價(jià)比:如何成為國產(chǎn)替代的首選?

在當(dāng)前的全球電子市場中,國產(chǎn)替代已成為一股不可忽視的力量。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)的升級,越來越多的國內(nèi)企業(yè)開始嶄露頭角,風(fēng)華高科便是其中的佼佼者。風(fēng)華電容,作為風(fēng)華高科的核心產(chǎn)品之一,憑借其出色
2025-02-14 15:37:021098

國產(chǎn)功率器件突圍戰(zhàn):仁懋電子TOLL封裝如何改寫行業(yè)格局?

在新能源汽車、光伏儲能等萬億級賽道爆發(fā)的當(dāng)下,國產(chǎn)功率器件的"卡脖子"困境正被打破。作為國內(nèi)半導(dǎo)體功率器件領(lǐng)域的標(biāo)桿企業(yè),仁懋電子憑借其TOLL(TO-Leadless)封裝
2025-02-08 17:06:241272

高精密基準(zhǔn)源產(chǎn)品助力新能源和工業(yè)4.0國產(chǎn)替代

高精密基準(zhǔn)源產(chǎn)品助力新能源和工業(yè)4.0國產(chǎn)替代
2025-02-06 09:28:26780

芯片制造:光刻工藝原理與流程

機(jī)和光刻膠: ? 光掩膜:如同芯片的藍(lán)圖,上面印有每一層結(jié)構(gòu)的圖案。 ? ? ?光刻機(jī):像一把精確的畫筆,能夠引導(dǎo)光線在光刻膠上刻畫出圖案。 ? 光刻膠:一種特殊的感光材料,通過光刻過程在光刻膠上形成圖案,進(jìn)而構(gòu)建出三維結(jié)構(gòu)。
2025-01-28 16:36:003591

國產(chǎn)模數(shù)轉(zhuǎn)換器SC1642——ADS1258優(yōu)質(zhì)國產(chǎn)替代方案

國產(chǎn)模數(shù)轉(zhuǎn)換器SC1642——ADS1258優(yōu)質(zhì)國產(chǎn)替代方案
2025-01-22 09:58:481170

中軟國際推出基于ERP系統(tǒng)的先導(dǎo)工程服務(wù)

當(dāng)前,關(guān)基行業(yè)面臨來自外部的巨大壓力,關(guān)鍵技術(shù)受限、業(yè)務(wù)連續(xù)性受到影響。國資委、工信部、能源局先后發(fā)布政策文件,大力推動重點(diǎn)行業(yè)、重要領(lǐng)域和國央企信息化系統(tǒng)信創(chuàng)國產(chǎn)化改造,ERP國產(chǎn)替代刻不容緩。
2025-01-17 10:02:29805

最高資助1億元!深圳發(fā)力智能傳感器“卡脖子”技術(shù)攻關(guān)(最新政策)

為落實(shí)《關(guān)于推動智能傳感器產(chǎn)業(yè)加快發(fā)展的若干措施》,規(guī)范“市工業(yè)和信息化局關(guān)于智能傳感器產(chǎn)業(yè)專項(xiàng)扶持計(jì)劃”中智能傳感器“卡脖子”技術(shù)攻關(guān)項(xiàng)目的組織實(shí)施,深圳市工業(yè)和信息化局起草了《市工業(yè)和信息化局
2025-01-16 18:27:001006

24位模數(shù)轉(zhuǎn)換器SC1641——AD7793的優(yōu)質(zhì)國產(chǎn)替代方案

24位模數(shù)轉(zhuǎn)換器SC1641——AD7793的優(yōu)質(zhì)國產(chǎn)替代方案
2025-01-15 10:09:261437

募資12億!國內(nèi)光刻膠“銷冠王”沖刺IPO!

用先進(jìn)材料項(xiàng)目等。 恒坤新材成立于2004年12月,是中國境內(nèi)少數(shù)具備12英寸集成電路晶圓制造關(guān)鍵材料研發(fā)和量產(chǎn)能力的創(chuàng)新企業(yè)之一。據(jù)其股東廈門市產(chǎn)業(yè)投資基金披露,恒坤新材是國內(nèi)12英寸晶圓制造先進(jìn)制程上出貨量最大的光刻膠企業(yè)。 根據(jù)弗若斯特沙利文市
2025-01-07 17:38:55843

微流控中的烘技術(shù)

一、烘技術(shù)在微流控中的作用 提高光刻膠穩(wěn)定性 在 微流控芯片 制作過程中,光刻膠經(jīng)過顯影后,進(jìn)行烘(堅(jiān)膜)能使光刻膠結(jié)構(gòu)更穩(wěn)定。例如在后續(xù)進(jìn)行干法刻蝕、濕法刻蝕或者LIGA等工藝時(shí),烘可以讓
2025-01-07 15:18:06824

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