資料介紹
mgo 薄膜的制備方法及工藝條件對薄膜特性的影響不同的制膜方法具有不同的特點,制備方法的不同必將影響薄膜的性質,譬如結晶取向、表面粗糙度、致密性等。不同的應用對薄膜質量的要求也不盡相同,這就需要選用不同的制備方法,即了解不同的制備方法,為薄膜的制備提供更多的選擇。
電子束蒸發(fā)的原理是燈絲在高溫狀態(tài)下發(fā)射出電子,在電場的作用下,這些電子向陽極運動并被電場加速。這樣高速運動的電子流在一定的電磁場作用下被匯聚成細束并轟擊到被鍍材料的表面,使其蒸發(fā)沉積在待鍍襯底上。電子束加熱可以蒸發(fā)高熔點材料。工作時聚焦電子束能量高度集中,使蒸發(fā)材料的局部表面可達到 , ---。/ --- 0高溫,因而使高熔點的材料蒸發(fā)。通過調節(jié)電子束的加速電壓和束流,就能準確而方便地調節(jié)與控制蒸發(fā)的溫度。由于蒸氣分子動能很大,所以能夠得到比較牢固致密的薄膜。另外,電子束蒸發(fā)方法具有很高的沉積速率,是制備 1(2 薄膜最常用的方法之一。
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