為了在代工領(lǐng)域中占據(jù)領(lǐng)先地位 傳三星5納米生產(chǎn)線已開始建設(shè)

據(jù)韓媒Business Korea報道，三星電子已經(jīng)開始建設(shè)一條5納米生產(chǎn)線，新生產(chǎn)線預計設(shè)在京畿道華城工廠的V1生產(chǎn)線上。

2020-03-18 標簽：三星電子EUV 2.5k 0

三星預計6月底完成5nm EUV生產(chǎn)線 且最快在今年底開始生產(chǎn)5nm工藝

2020年，全球最先進的半導體工藝要從7nm升級到5nm了，臺積電最近上半年就開始量產(chǎn)5nm EUV工藝，而三星也加碼投資，預計6月底完成5nm EUV生產(chǎn)線。

2020-03-13 標簽：三星電子臺積電EUV 3.4k 0

三星5nm EUV生產(chǎn)線或年底量產(chǎn)，已收到高通代工訂單

在開發(fā)5nm制程技術(shù)僅一年之后，三星就開始了 5nm EUV（極紫外）生產(chǎn)線的建設(shè)。三星公司希望在2030年之前擊敗臺積電，并成為半導體業(yè)務(wù)的領(lǐng)導者。

2020-03-12 標簽：三星電子EUV 2.6k 0

中芯國際表示深圳工廠進口光刻機不是EUV光刻機

據(jù)中國證券報報道，3月6日下午從中芯國際獲悉，日前中芯國際深圳工廠從荷蘭進口了一臺大型光刻機，但這是設(shè)備正常導入，用于產(chǎn)能擴充，并非外界所稱的EUV光刻機。

2020-03-07 標簽：中芯國際光刻機EUV 5.2k 0

AMD 7nm+工藝突然全都消失 意在向市場提供最佳的高性能庫

AMD今天一口氣公布了Zen CPU架構(gòu)路線圖、RDNA/CDNA GPU架構(gòu)路線圖，對于A飯和技術(shù)愛好者來說堪稱一場盛宴，但是在制造工藝方面也出現(xiàn)了意外變化。

2020-03-08 標簽：amdEUV 1.7k 0

全球半導體業(yè)不斷進步積極變革

之前是英特爾一家獨大，如今它仍是很大，但是真正沖在前面的是蘋果、華為、高通、三星、Nvidia、AMD、Xilinx等。然而細想起來，如果缺乏臺積電，及...

2020-03-03 標簽：半導體臺積電euv 2.6k 0

美國泛林宣布與ASML、IMEC合作開發(fā)出新的EUV光刻技術(shù) 成本大幅降低

2月28日，美國泛林公司宣布與ASML阿斯麥、IMEC比利時微電子中心合作開發(fā)了新的EUV光刻技術(shù)，不僅提高了EUV光刻的良率、分辨率及產(chǎn)能，還將光刻膠...

2020-02-29 標簽：光刻IMECEUV 4.1k 0

半導體巨頭為什么追捧EUV光刻機

近些年來EUV光刻這個詞大家應(yīng)該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也...

2020-02-29 標簽：處理器cpueuv 4k 0

三星6nm V1生產(chǎn)線投入使用后，受惠的是什么

據(jù)了解，V1生產(chǎn)線于2018年2月正式破土動動建設(shè)，在2019年下半年開始測試晶圓生產(chǎn)，到了今年第一季度則可以把第一批產(chǎn)品交付給客戶。

2020-02-24 標簽：三星電子euv 2.5k 0

光刻機行業(yè)需求空間廣闊，國產(chǎn)設(shè)備有優(yōu)勢嗎？

光刻機技術(shù)壁壘高且投資占比大，芯片尺寸的縮小以及性能的提升依賴于光刻技術(shù)的發(fā)展。

2020-02-21 標簽：光刻機euv 4.3k 0

三星在韓新開EUV晶圓代工產(chǎn)線V1，總投入將達60億美元

據(jù)了解，V1產(chǎn)線于2018年2月動工，2019年下半年開始測試晶圓生產(chǎn)，首批產(chǎn)品今年一季度向客戶交付。目前，V1已經(jīng)投入7nm和6nm EUV移動芯片的...

2020-02-21 標簽：三星電子晶圓euv 2.7k 0

三星宣布全球首座專門為EUV極紫外光刻工藝打造的代工廠開始量產(chǎn)

三星宣布，位于韓國京畿道華城市的V1工廠已經(jīng)開始量產(chǎn)7nm 7LPP、6nm 6LPP工藝，這也是全球第一座專門為EUV極紫外光刻工藝打造的代工廠。

2020-02-21 標簽：三星電子EUV 2.9k 0

三星6nm和7nm EUV開始批量生產(chǎn)

根據(jù)三星的計劃，到2020年底，V1生產(chǎn)線的累計總投資將達到60億美元，預計7nm及以下工藝節(jié)點的總產(chǎn)能將比2019年增長三倍，目前的計劃是在第一季度開...

2020-02-21 標簽：三星電子euv 2.8k 0

三星最先進EUV產(chǎn)線投用：7nm產(chǎn)能今年增加兩倍

V1產(chǎn)線/工廠2018年2月動工，2019年下半年開始測試晶圓生產(chǎn)，首批產(chǎn)品今年一季度向客戶交付。目前，V1已經(jīng)投入7nm和6nm EUV移動芯片的生產(chǎn)...

2020-02-21 標簽：三星電子EUV 4.3k 0

到2024年，半導體研發(fā)將促EUV光刻、3納米、3D芯片堆疊技術(shù)增長

據(jù)IC Insights發(fā)布的最新2020 McClean報告顯示，半導體行業(yè)研發(fā)的投入將在2024年出現(xiàn)明顯成效包括轉(zhuǎn)向EUV光刻，低于3納米制程技術(shù)...

2020-01-31 標簽：半導體3D芯片EUV 7.2k 0

三星與臺積電投入巨額資金加速3nm工藝研發(fā) 將只有土豪公司才用得起

根據(jù)臺積電的規(guī)劃，他們今年上半年就會量產(chǎn)5nm EUV工藝，下半年產(chǎn)能會提升到7-8萬片晶圓/月，今年的產(chǎn)能主要是供給蘋果和華為。臺積電的3nm工藝工藝...

2020-01-16 標簽：三星電子臺積電EUV 3.2k 0

摩爾定律漸遠下的提升，EUV被稱為“突破摩爾定律的救星”

前，行業(yè)DRAM三巨頭都沒有大規(guī)模使用EUV，但隨著制程工藝的提升，節(jié)點的進一步微縮，同時，EUV的性能和成本也在不斷優(yōu)化，DRAM將迎來EUV爆發(fā)期。

2020-01-18 標簽：半導體摩爾定律EUV 2.8k 0

EUV光刻有望成為摩爾定律的“救星”？

“光刻技術(shù)的‘雕刻’精細度，直接決定了元器件、電路等在芯片上所占的體積。因而，光刻是決定芯片能否按照摩爾定律繼續(xù)發(fā)展的一項重要技術(shù)，如果沒有光刻技術(shù)的進...

2020-01-19 標簽：半導體摩爾定律EUV 2.8k 0

ASML延遲交付EUV設(shè)備給中國，或因為美國的多次施壓

據(jù)路透社報道，知情人士指出，美國政府正竭力阻止荷蘭向中國出售芯片制造技術(shù)（EUV設(shè)備），美國國務(wù)卿邁克·龐培曾多次游說荷蘭政府，而白宮官員則向荷蘭國防部...

2020-01-06 標簽：euvasml 3.8k 0

三星6nm工藝已量產(chǎn)出貨，3nm GAE工藝也將研發(fā)完成

由于在7nm節(jié)點激進地采用了EUV工藝，三星的7nm工藝量產(chǎn)時間比臺積電要晚了一年，目前采用高通的驍龍765系列芯片使用三星7nm EUV工藝量產(chǎn)。在這...

2020-01-06 標簽：三星電子臺積電euv 4k 0