在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)加速邁向AI時(shí)代、先進(jìn)制程與化合物半導(dǎo)體成為行業(yè)增長核心引擎的背景下，御微半導(dǎo)體于3月25日在SEMICON China 2026展會(huì)期間正式發(fā)布其最新研發(fā)的掩模圖形缺陷檢測設(shè)備——Raptor-500。

作為國內(nèi)首臺滿足90納米制程及以上節(jié)點(diǎn)的掩模圖形缺陷檢測設(shè)備，Raptor-500的推出不僅填補(bǔ)了細(xì)分領(lǐng)域國產(chǎn)裝備的空白，也為國內(nèi)掩模版制造企業(yè)以及晶圓制造企業(yè)在成熟制程環(huán)節(jié)提供了更具競爭力的國產(chǎn)化選擇。

直擊掩模檢測核心，打造全生命周期質(zhì)量管控
半導(dǎo)體制造中，掩模版承載著芯片設(shè)計(jì)的關(guān)鍵圖形信息，通過光刻將其精準(zhǔn)傳遞至晶圓。掩模版的品質(zhì)直接決定了芯片制造的良率與可靠性。正因如此，掩模版的質(zhì)量控制被賦予極高要求。

御微半導(dǎo)體自創(chuàng)立以來，始終專注于集成電路光學(xué)量檢測系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與集成。此次發(fā)布的Raptor-500，正是公司在掩模版制造與檢測領(lǐng)域多年技術(shù)積累的集中體現(xiàn)。據(jù)御微半導(dǎo)體助理總裁聶秋平在發(fā)布會(huì)致辭中介紹，Raptor-500的研發(fā)匯聚了公司多項(xiàng)核心技術(shù)突破，包括透射反射紫外光學(xué)成像技術(shù)、高速氣浮運(yùn)動(dòng)臺技術(shù)、高速AI算法技術(shù)以及精密環(huán)境控制技術(shù)。

“Raptor-500不單是一臺硬件設(shè)備，更在掩模版及光刻領(lǐng)域具有極高的戰(zhàn)略意義。”聶秋平表示，“感謝多家客戶近一年的協(xié)同打磨，御微根據(jù)數(shù)百條改進(jìn)建議不斷優(yōu)化，目前該設(shè)備已在客戶方完成驗(yàn)收，并開始為國內(nèi)掩模產(chǎn)業(yè)貢獻(xiàn)自主化量產(chǎn)能力。”

在發(fā)布會(huì)現(xiàn)場，御微半導(dǎo)體掩模產(chǎn)品事業(yè)部總經(jīng)理王偉對Raptor-500的技術(shù)特性進(jìn)行了深度解讀。他表示，該設(shè)備在功能、性能、硬件配置乃至算法方面具備多項(xiàng)核心優(yōu)勢：

六大核心優(yōu)勢，構(gòu)筑掩模良率新管家
多場景應(yīng)用：Raptor-500可同時(shí)滿足掩模版制造端的出廠檢驗(yàn)與晶圓制造端的入廠質(zhì)量控制需求，貫穿掩模版全鏈條質(zhì)量管控。
多像素選擇：支持P375、P250、P186、P150等多種像素規(guī)格，靈活適配不同制程節(jié)點(diǎn)對檢測精度及產(chǎn)率的要求。
多版型兼容：全面支持當(dāng)前國內(nèi)主流掩模版類型，包括二元掩模、相移掩模等。
多檢測模式：支持DD、SD、DB、MBB以及Combo檢測模式（如DD+SD、SD+DB等），可根據(jù)不同工藝需求靈活配置。
多數(shù)據(jù)格式：具備先進(jìn)的DB算法，支持GDS、Mebes、OASIS等多種數(shù)據(jù)文件格式的轉(zhuǎn)換與處理。
靈活布局設(shè)計(jì)：針對Maskshop及FAB廠“寸土寸金”的場地現(xiàn)狀，Raptor-500支持多種布局方式，可在FAB/SubFAB靈活配置輔助設(shè)備，最大化節(jié)省用戶占地面積。

“四高”性能確立技術(shù)標(biāo)桿
在性能層面，Raptor-500以“高靈敏度、高效率、高檢出率、高精度缺陷定位”四大指標(biāo)確立了其在掩模圖形缺陷檢測領(lǐng)域的技術(shù)標(biāo)桿地位。

據(jù)實(shí)測數(shù)據(jù)，Raptor-500可檢出的最小缺陷尺寸達(dá)到40納米，顯著提升了對細(xì)微缺陷的捕捉能力。在檢測效率方面，設(shè)備采用透射與反射同步采樣技術(shù)，配合實(shí)時(shí)圖像處理，大幅縮短單版檢測時(shí)間，為客戶提供更具優(yōu)勢的CoO。更為關(guān)鍵的是，設(shè)備對關(guān)鍵缺陷實(shí)現(xiàn)了100%的檢出率，確保無任何致命缺陷流入后續(xù)工序。此外，納米級運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)為缺陷定位提供了高精度保障，可有效輔助后續(xù)修復(fù)流程，提升整體作業(yè)效率。

王偉特別指出，Raptor-500的檢測算法基于真物理仿真模型構(gòu)建，該模型通過模擬掩模版及光學(xué)系統(tǒng)的物理特性，能夠更精準(zhǔn)地捕捉不同物理?xiàng)l件下的掩模缺陷，從而在不同工藝條件下保持穩(wěn)定的檢出能力。此外，與Raptor-500適配的掩模數(shù)據(jù)分析與管理系統(tǒng)，集成自動(dòng)缺陷分類功能，能將缺陷識別流程自動(dòng)化。同時(shí)，也可分析檢測出的缺陷在晶圓曝光時(shí)的實(shí)際“可印刷性”，幫助工程師判斷哪些缺陷真正影響良率，避免不必要的修補(bǔ)。

構(gòu)建掩模全生命周期解決方案
Raptor-500的發(fā)布，標(biāo)志著御微半導(dǎo)體在掩模版制造與檢測領(lǐng)域的產(chǎn)品矩陣進(jìn)一步完善。截至目前，御微已構(gòu)建起覆蓋掩模基板制造、掩模版制造、芯片制造和先進(jìn)封裝四大應(yīng)用領(lǐng)域的全系列量檢測產(chǎn)品體系。

在掩模相關(guān)領(lǐng)域，御微已先后推出i6R掩模版無圖形缺陷檢測設(shè)備、Halo系列掩?；鍣z測設(shè)備、Raptor系列掩模圖形缺陷檢測設(shè)備以及APEX系列原子力顯微鏡量測設(shè)備，形成了從玻璃基板到成品掩模、從掩模制造廠到晶圓制造廠的全生命周期質(zhì)量控制閉環(huán)。

“Raptor-500不僅是單一設(shè)備，更是御微掩模全生命周期解決方案的關(guān)鍵一環(huán)?！甭櫱锲奖硎?，“通過構(gòu)建完整的產(chǎn)品矩陣，我們希望能夠?yàn)榭蛻籼峁└邇r(jià)值且自主可控的質(zhì)量保障體系?！?br />
服務(wù)與生態(tài)并重，助力產(chǎn)業(yè)自主化
在設(shè)備性能之外，御微同步強(qiáng)化了服務(wù)體系與生態(tài)能力的建設(shè)。目前，公司已在上海、合肥、北京、西安、南京、新加坡等地設(shè)立研發(fā)生產(chǎn)基地，并在全國范圍內(nèi)布局了超過18個(gè)服務(wù)中心，構(gòu)建起7×24小時(shí)響應(yīng)的服務(wù)網(wǎng)絡(luò)。
針對Raptor-500，御微還推出了定制化響應(yīng)機(jī)制，深度介入客戶工藝需求，提供精準(zhǔn)匹配的解決方案。

“我們希望Raptor-500不僅成為掩模良率的新管家，更成為客戶在掩模檢測領(lǐng)域的首選合作伙伴?！?

總結(jié)
隨著AI算力、先進(jìn)封裝、化合物半導(dǎo)體等新興應(yīng)用的持續(xù)爆發(fā)，半導(dǎo)體制造對掩模質(zhì)量與檢測能力提出了更高要求。作為國內(nèi)半導(dǎo)體光學(xué)量檢測裝備領(lǐng)域的重要參與者，御微半導(dǎo)體此次Raptor-500的推出，不僅為國內(nèi)成熟制程掩模檢測提供了自主可控的解決方案，也為下一代更高精度掩模檢測設(shè)備的研發(fā)奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

正如聶秋平在致辭中所言：“Raptor-500的問世，承載著御微創(chuàng)業(yè)團(tuán)隊(duì)的初心，也見證了中國半導(dǎo)體裝備在關(guān)鍵環(huán)節(jié)不斷突破的歷程。御微將繼續(xù)以技術(shù)和市場雙輪驅(qū)動(dòng)，為推動(dòng)我國集成電路產(chǎn)業(yè)自主化貢獻(xiàn)更多力量?！?