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電子發(fā)燒友網(wǎng)>存儲(chǔ)技術(shù)>KLA推出全新突破性的電子束缺陷檢測(cè)系統(tǒng)

KLA推出全新突破性的電子束缺陷檢測(cè)系統(tǒng)

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2018-01-26 17:01:102

KLA-Tencor推出兩款全新缺陷檢測(cè)產(chǎn)品 堪稱黑科技

今天,KLA-Tencor公司(納斯達(dá)克股票代碼:KLAC)宣布推出兩款全新缺陷檢測(cè)產(chǎn)品,在硅晶圓和芯片制造領(lǐng)域中針對(duì)先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的邏輯和內(nèi)存元件,為設(shè)備和工藝監(jiān)控解決兩項(xiàng)關(guān)鍵挑戰(zhàn)
2018-07-14 08:24:0010578

KLA-Tencor公司宣布推出兩款全新缺陷檢測(cè)產(chǎn)品

Voyager 1015圖案化晶圓缺陷檢測(cè)系統(tǒng)將新型光源、信號(hào)采集和傳感器完美結(jié)合,填補(bǔ)了業(yè)界針對(duì)顯影后檢測(cè)(ADI)方面的長(zhǎng)期空白。這一革命的激光散射檢測(cè)系統(tǒng)在提升靈敏度的同時(shí)也可以減少噪聲信號(hào)——并且與最佳替代品相比得到檢測(cè)結(jié)果要迅速得多。
2018-07-14 10:28:358321

KLA-Tencor宣布推出Kronos 1080和ICOS F160檢測(cè)系統(tǒng):拓展IC封裝產(chǎn)品系列

KLA-Tencor公司今日宣布推出兩款全新缺陷檢測(cè)產(chǎn)品,旨在解決各類集成電路(IC)所面臨的封裝挑戰(zhàn)。 Kronos? 1080系統(tǒng)為先進(jìn)封裝提供適合量產(chǎn)的、高靈敏度的晶圓檢測(cè),為工藝控制和材料處置提供關(guān)鍵的信息。
2018-08-31 16:01:2811042

Tencor推出兩款全新缺陷檢測(cè)產(chǎn)品,可滿足各種IC封裝類型的檢測(cè)需求

ICOS F160系統(tǒng)在晶圓切割后對(duì)封裝進(jìn)行檢查,根據(jù)關(guān)鍵缺陷的類型進(jìn)行準(zhǔn)確快速的芯片分類,其中包括對(duì)側(cè)壁裂縫這一新缺陷類型(影響高端封裝良率)的檢測(cè)。這兩款全新檢測(cè)系統(tǒng)加入KLA-Tencor缺陷檢測(cè)、量測(cè)和數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)的產(chǎn)品系列,將進(jìn)一步協(xié)助提高封裝良率以及芯片分類精度。
2018-09-04 09:11:002904

氧化鋯氧氣傳感器在電子束固化技術(shù)中有怎樣應(yīng)用詳細(xì)資料說(shuō)明

實(shí)際上,電子束固化技術(shù)一種是捕獲一些自然存在的電子形式的電子束,然后將其在較短的距離內(nèi)加速到接近光速的工具,該過(guò)程產(chǎn)生巨大的能量,然后將這種能量應(yīng)用于涂、油墨和粘合劑的固化過(guò)程中,這就是電子束固化技術(shù)。簡(jiǎn)言之,電子束固化就是使用由電子加速器產(chǎn)生的高能電子束來(lái)引發(fā)樹脂的聚合或交聯(lián)。
2019-04-07 09:04:001613

2019年值得持續(xù)關(guān)注的突破性技術(shù)

國(guó)際著名科技期刊IEEE Spectrum推出12項(xiàng)2019年值得持續(xù)關(guān)注的突破性技術(shù)。
2019-04-05 10:27:003467

研究發(fā)現(xiàn),石墨烯層充當(dāng)電子束的鏡子,電子束的分器不存在

石墨烯層可以作為電子束的鏡子,這是物理學(xué)家Dani l Geelen和同事使用一種新型電子顯微鏡發(fā)現(xiàn)的,其研究結(jié)果發(fā)表在《物理評(píng)論快報(bào)》期刊上。這種新技術(shù)稱為“eV-TEM”,這是電子顯微鏡的一種新變體,它能將電子束對(duì)準(zhǔn)樣品,以便對(duì)其成像。
2019-08-26 15:43:324368

電子束焊原理_電子束焊特點(diǎn)

本文首先闡述了電子束焊原理,其次介紹了電子束焊技術(shù)指標(biāo),最后介紹了電子束焊特點(diǎn)。
2019-12-10 10:18:2616754

激光焊接與電子束焊接的區(qū)別

至今,電子束焊經(jīng)過(guò)不斷發(fā)展已經(jīng)成為一種成熟的加工技術(shù),無(wú)論是汽車制造,還是航空航天,都起著舉足輕重的作用。而40多年來(lái),激光加工已從實(shí)驗(yàn)室走向了實(shí)用化階段,并進(jìn)入了原來(lái)由電子束加工的各個(gè)領(lǐng)域,大有
2019-12-10 10:28:4321014

電子束焊優(yōu)缺點(diǎn)_電子束焊接工藝

本文首先介紹了電子束焊優(yōu)缺點(diǎn),其次闡述了電子束焊接工藝。最后闡述了電子束焊的基本工藝流程。
2019-12-10 10:37:3837081

電子束焊是什么意思_電子束焊的應(yīng)用

電子束焊是指利用加速和聚焦的電子束轟擊置于真空或非真空中的焊接面,使被焊工件熔化實(shí)現(xiàn)焊接。真空電子束焊是應(yīng)用最廣的電子束焊。
2020-09-02 16:42:3010084

電子束焊的焊接參數(shù)有哪些_電子束焊的特點(diǎn)

本文首先介紹了電子束焊的焊接參數(shù),其次闡述了電子束焊的技術(shù)要求,最后介紹了電子束焊的特點(diǎn)。
2020-09-02 16:50:2214137

電子束焊分類_電子束焊的技術(shù)指標(biāo)

本文首先闡述了電子束焊分類,其次介紹了電子束焊主要用途,最后介紹了電子束焊的技術(shù)指標(biāo)。
2020-09-03 16:36:0610229

電子束的原理_電子束的應(yīng)用

電子經(jīng)過(guò)匯集成。具有高能量密度。它是利用電子槍中陰極所產(chǎn)生的電子在陰陽(yáng)極間的高壓(25-300kV)加速電場(chǎng)作用下被加速至很高的速度(0.3-0.7倍光速),經(jīng)透鏡會(huì)聚作用后,形成密集的高速電子流。
2020-11-27 15:19:4011776

電子束曝光原理_電子束曝光結(jié)構(gòu)

本文主要闡述了電子束曝光原理及結(jié)構(gòu)。
2020-11-27 15:21:3911776

電子束曝光機(jī)與普通光學(xué)曝光機(jī)區(qū)別

電子束曝光機(jī)是一臺(tái)加工設(shè)備,其加工目的是在電子束感光膠上制備出納米級(jí)的結(jié)構(gòu)。該設(shè)備電子的加速電壓達(dá)到100KV,掃描速度12MHz,具有10個(gè)承片臺(tái);因此其具有加工精度高,速度快,自動(dòng)化程度高等特點(diǎn),從而具有比較高的工作效率。加工樣品不需要掩膜版制備,使得圖形能夠靈活多變,非常適用于科研探索。
2020-11-27 15:31:518182

電子束焊接機(jī)操作_電子束焊接機(jī)有輻射嗎

由于電子束焊接包含了機(jī)械、真空、高電壓和電磁場(chǎng)理論、電子光學(xué)、自動(dòng)控制和計(jì)算機(jī)等多學(xué)科技術(shù),對(duì)國(guó)內(nèi)一般廠商來(lái)說(shuō)技術(shù)難度較大,而引進(jìn)費(fèi)用又昂貴,為此桂林電氣科學(xué)研究所結(jié)合國(guó)外技術(shù)及多年從事電子束
2021-03-03 17:12:187717

電子束焊接工作原理_電子束焊接應(yīng)用

電子束是從電子槍中產(chǎn)生的。通常電子是以熱發(fā)射或場(chǎng)致發(fā)射的方式從發(fā)射體(陰極)逸出。在25-300kV加速電壓的作用下,電子被加速到0.3-0.7倍的光速,具有一定的動(dòng)能,經(jīng)電子槍中靜電透鏡和電磁透鏡的作用,電子會(huì)聚成功率密度很高的電子束
2021-03-04 14:43:0623757

電子束加工原理與主要加工裝置

電子束加工(Electron Beam Machining 簡(jiǎn)稱EBM)起源于德國(guó)。1948年德國(guó)科學(xué)家斯特格瓦發(fā)明了第一臺(tái)電子束加工設(shè)備。它是一種利用高能量密度的電子束對(duì)材料進(jìn)行工藝處理的方法統(tǒng)。
2021-03-10 14:25:3324209

一文看懂電子束與離子加工工藝

電子束加工和離子加工是近年來(lái)得到較大發(fā)展的新型特種加工。他們?cè)诰芪⒓?xì)加工方面,尤其是在微電子學(xué)領(lǐng)域中得到較多的應(yīng)用。通常來(lái)說(shuō),電子束加工主要用于打孔、焊接等熱加工和電子束光刻化學(xué)加工,而離子加工則主要用于離子刻蝕、離子鍍膜和離子注入等加工。?
2021-03-17 20:10:4815

雙腔速調(diào)管的獨(dú)特構(gòu)造和電子束的概念

速調(diào)管放大器用于各種行業(yè),包括衛(wèi)星系統(tǒng)、電視廣播、雷達(dá)、粒子加速器和醫(yī)療領(lǐng)域。在本文中,我們將了解雙腔速調(diào)管的獨(dú)特構(gòu)造和電子束的概念。
2022-04-27 16:39:275731

剝離成形電子束蒸鍍?cè)O(shè)備Lift-Off E-beam

上海伯東代理剝離成形電子束蒸鍍?cè)O(shè)備 Lift-Off E-beam 精確控制真空壓力, 電子束源與基板的拋射距離, 基板溫度, 電子束源溫度, 并控制涂層直接對(duì)準(zhǔn)與法向偏差角小于 5度, 以滿足剝離過(guò)程的要求
2022-11-17 15:31:313998

激光焊接和電子束焊接:兩種焊接技術(shù)的并用

雖然激光焊接(LBW)以及電子束焊接(EBW)的擁護(hù)者們分別對(duì)其青睞的技術(shù)大加贊揚(yáng),但在許多情況下用戶的最佳選擇可能是同時(shí)采用這兩種技術(shù),尤其是在焊接復(fù)雜結(jié)構(gòu)以及滿足高品質(zhì)冶金需要的情況下更是如此
2022-03-19 09:59:593920

氦質(zhì)譜檢漏儀電子束***檢漏

上海伯東客戶某光刻機(jī)生產(chǎn)商, 生產(chǎn)的電子束光刻機(jī) Electron Beam Lithography System 最大能容納 300mmφ 的晶圓片和 6英寸的掩模版, 適合納米壓印, 光子器件
2023-06-02 15:49:401604

東方晶源電子束檢測(cè)項(xiàng)目榮登2022“科創(chuàng)中國(guó)”先導(dǎo)技術(shù)榜

電子束缺陷檢測(cè)設(shè)備(EBI)和關(guān)鍵尺寸量測(cè)設(shè)備(CD-SEM)是集成電路制造中用于良率監(jiān)控的關(guān)鍵設(shè)備,對(duì)于提高集成電路制造企業(yè)的產(chǎn)品良率具有重要意義。經(jīng)過(guò)多年技術(shù)攻關(guān),東方晶源突破了集成電路制造檢測(cè)設(shè)備的高速高精度硅片傳輸定位、高速圖像像差補(bǔ)償、自動(dòng)缺陷檢測(cè)和智能分類
2023-10-09 14:33:441690

ADI公司突破性的微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)開關(guān)技術(shù)

電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《ADI公司突破性的微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)開關(guān)技術(shù).pdf》資料免費(fèi)下載
2023-11-27 09:52:201

電子束加工與離子加工工藝比較

電子束加工(Electron Beam Machining 簡(jiǎn)稱EBM)起源于德國(guó)。1948年德國(guó)科學(xué)家斯特格瓦發(fā)明了第一臺(tái)電子束加工設(shè)備。它是一種利用高能量密度的電子束對(duì)材料進(jìn)行工藝處理的方法統(tǒng)。
2023-12-07 11:31:233257

德累斯頓工廠的電子束光刻系統(tǒng)

來(lái)源:半導(dǎo)體芯科技編譯 投資半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)新的生產(chǎn)設(shè)備 Jenoptik公司計(jì)劃投資數(shù)億歐元,為目前在德累斯頓建設(shè)的高科技工廠建造最先進(jìn)的系統(tǒng)。新型電子束光刻系統(tǒng)(E-Beam)將用于為半導(dǎo)體
2024-01-15 17:33:161649

電子束光刻的參數(shù)優(yōu)化及常見問(wèn)題介紹

本文從光刻圖案設(shè)計(jì)、特征尺寸、電鏡參數(shù)優(yōu)化等方面介紹電子束光刻的參數(shù)優(yōu)化,最后介紹了一些常見問(wèn)題。
2024-03-17 14:33:522862

電子束技術(shù)的原理與應(yīng)用概覽

電子束技術(shù)在半導(dǎo)體制造行業(yè)一直是重要的應(yīng)用技術(shù)。本文就電子束技術(shù)作一個(gè)簡(jiǎn)單的圖文介紹。
2024-04-30 14:32:414155

無(wú)處不在的“電子束

電子束焊接是一種高能電子束加熱并熔化工件以實(shí)現(xiàn)焊接的方法。在電子束焊中,通過(guò)利用一個(gè)電子槍發(fā)射一個(gè)高速電子束,將電子束照射到工件焊縫處,使焊縫瞬間被加熱并熔化,隨后快速冷卻并凝固形成焊接。電子束焊接
2024-05-17 18:32:141651

神秘的電子束

生物學(xué)和醫(yī)學(xué)領(lǐng)域的研究發(fā)生了革命的變化。 隨著電子束技術(shù)的發(fā)展,掃描透射電子顯微鏡被研制出來(lái),使得各種材料內(nèi)部的顯微結(jié)構(gòu)清晰的展現(xiàn)在人們面前。 ? 1933年,德國(guó)人Ruska設(shè)計(jì)制造了第一臺(tái)電子顯微鏡,此后人們研發(fā)出了能放大3萬(wàn)倍的透射電
2024-05-18 17:42:292305

新思科技x Multibeam推出業(yè)界首款可量產(chǎn)電子束光刻系統(tǒng) 無(wú)需掩膜

? 基于掩膜的傳統(tǒng)光刻技術(shù),其成本正呈指數(shù)級(jí)攀升。而無(wú)掩膜的電子束光刻技術(shù)提供了補(bǔ)充選項(xiàng),可以幫助芯片制造商更快地將產(chǎn)品推向市場(chǎng)。電子束光刻技術(shù)采用電子束在硅晶圓上生成圖案,無(wú)需等待掩膜制造過(guò)程
2024-05-22 18:41:413965

里瑞通推出突破性晶片液冷技術(shù)

在云計(jì)算和數(shù)據(jù)中心領(lǐng)域,里瑞通(Digital Realty)一直是技術(shù)創(chuàng)新的引領(lǐng)者。近日,該公司宣布推出了一項(xiàng)突破性的晶片液冷技術(shù),為高密度部署支持領(lǐng)域帶來(lái)了新的發(fā)展。
2024-05-31 11:22:401077

ISO-5817:2003-鋼、鎳、鈦及其合金熔焊接頭(不包括電子束焊接)缺陷的 質(zhì)量等級(jí)

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2024-06-11 09:02:180

三大產(chǎn)品線全力升級(jí) 東方晶源引領(lǐng)國(guó)內(nèi)電子束量測(cè)檢測(cè)發(fā)展

、吞吐量等要求很高,其研發(fā)和設(shè)計(jì)非常具有技術(shù)挑戰(zhàn)。 作為布局該領(lǐng)域最早的國(guó)內(nèi)企業(yè)之一,東方晶源已先后成功推出電子束缺陷檢測(cè)設(shè)備EBI,關(guān)鍵尺寸量測(cè)設(shè)備CD-SEM(12英寸和68英寸兼容兩個(gè)產(chǎn)品系列,均已進(jìn)入用戶產(chǎn)線,可支持
2024-06-26 17:18:033309

東方晶源深耕電子束量測(cè)檢測(cè)核心技術(shù) “三箭齊發(fā)”新一代EOS上“機(jī)”

電子束量測(cè)檢測(cè)設(shè)備是芯片制造裝備中除光刻機(jī)之外技術(shù)難度最高的設(shè)備類別之一,深度參與光刻環(huán)節(jié)、對(duì)制程節(jié)點(diǎn)敏感并且對(duì)最終產(chǎn)線良率起到至關(guān)重要的作用。其最為核心的模塊為電子光學(xué)系統(tǒng)(Electron
2024-08-21 16:39:081791

為空間受限的應(yīng)用提供突破性的動(dòng)力

電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《為空間受限的應(yīng)用提供突破性的動(dòng)力.pdf》資料免費(fèi)下載
2024-08-26 14:28:100

聚焦離子電子束(FIB-SEM)雙系統(tǒng)原理

納米科技是當(dāng)前科學(xué)研究的前沿領(lǐng)域,納米測(cè)量學(xué)和納米加工技術(shù)在其中扮演著至關(guān)重要的角色。電子束和離子等工藝是實(shí)現(xiàn)納米尺度加工的關(guān)鍵手段。特別是聚焦離子(FIB)系統(tǒng),通過(guò)結(jié)合高強(qiáng)度的離子和實(shí)時(shí)
2024-11-14 23:24:131435

全新NVIDIA NIM微服務(wù)實(shí)現(xiàn)突破性進(jìn)展

全新 NVIDIA NIM 微服務(wù)實(shí)現(xiàn)突破性進(jìn)展,可助力氣象技術(shù)公司開發(fā)和部署 AI 模型,實(shí)現(xiàn)對(duì)降雪、結(jié)冰和冰雹的預(yù)測(cè)。
2024-11-21 10:07:221169

APEX經(jīng)濟(jì)型減速器——助力TETA電子束焊機(jī)高性價(jià)比焊接

電子束焊機(jī)作為焊接技術(shù)巔峰代表,其精度直接決定尖端工業(yè)命脈。俄羅斯TETA作為電子束焊接領(lǐng)域的知名品牌,在核心擺頭平移/提升結(jié)構(gòu)中搭載了APEX?的PAII及PAIIR系列減速器,以“性能零妥協(xié)
2025-04-01 13:29:52739

澤攸科技 | 電子束光刻(EBL)技術(shù)介紹

電子束光刻(EBL)是一種無(wú)需掩模的直接寫入式光刻技術(shù),其工作原理是通過(guò)聚焦電子束電子敏感光刻膠表面進(jìn)行納米級(jí)圖案直寫。
2025-08-14 10:07:212555

國(guó)產(chǎn)首臺(tái)28 納米關(guān)鍵尺寸電子束量測(cè)量產(chǎn)設(shè)備出機(jī)

光刻機(jī)外,技術(shù)難度最大、重要程度最高的設(shè)備之一。此次出機(jī)的 28 納米關(guān)鍵尺寸電子束量測(cè)量產(chǎn)設(shè)備,由無(wú)錫亙芯悅科技有限公司自主研制,在電子光學(xué)系統(tǒng)、運(yùn)動(dòng)平臺(tái)、電子電路和軟件等方向?qū)崿F(xiàn)了完全自研,能有效解決我國(guó)半導(dǎo)體量檢測(cè)
2025-08-19 16:17:38615

電子束檢測(cè):攻克5nm以下先進(jìn)節(jié)點(diǎn)關(guān)鍵缺陷的利器

吞吐量仍然是一個(gè)問(wèn)題,解決方案需要多種技術(shù)的結(jié)合。事實(shí)證明,電子束檢測(cè)對(duì)于發(fā)現(xiàn)5納米以下尺寸的關(guān)鍵缺陷至關(guān)重要?,F(xiàn)在的挑戰(zhàn)是如何加快這一流程,使其在經(jīng)濟(jì)上符合晶圓廠的接受度。電子束檢測(cè)因靈敏度
2025-08-19 13:49:42657

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