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當ToF像素遇到摩爾定律如何發(fā)展?

MEMS ? 來源:MEMS ? 作者:麥姆斯咨詢編譯 ? 2021-03-26 09:39 ? 次閱讀
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據(jù)麥姆斯咨詢報道,1975年戈登·摩爾(Gordon Moore)做出了一項預測,這就是著名的摩爾定律:集成電路可以容納的晶體管數(shù)量每兩年(或18個月,取決于芯片類型)翻一番,見圖1。簡單來講,集成電路的處理性能或處理速度每兩年翻一番。通常情況下,對于圖像傳感器來講,像素數(shù)量每兩年翻一番,或像素尺寸每兩年增加√2倍。其實沒那么快,因為圖像傳感器更像是模擬芯片,而不是數(shù)字芯片,不會與技術(shù)節(jié)點成比例增長。彩色(RGB)圖像傳感器能夠增加像素尺寸,但帶來的是性能降低,因為尺寸/成本的比值非常重要。通過僅對像素區(qū)進行有針對性的工藝改進,或多片晶圓3D堆疊,將處理功能轉(zhuǎn)移到較小工藝節(jié)點,這也在一定程度上起到了幫助作用。

圖1:摩爾定律


將此規(guī)律運用到ToF像素領(lǐng)域進行綜合思考,與RGB圖像傳感器不同,ToF像素值需要計量等級。這是因為ToF像素值支持深度測量,而不是讓圖像看起來“漂亮”。ToF像素值性能由信噪比決定。接下來讓我們進行深入探討。為了簡化分析,在研究占主導地位的噪聲源時,有三種不同機制。

1. 信號散粒噪聲(Signal Shot Noise)
2. 環(huán)境散粒噪聲(Ambient Shot Noise)
3. 讀取噪聲(Read Noise)

選擇其中一種機制(如:環(huán)境散粒噪聲)進行深入分析。這里,量子效率(Quantum Efficiency,以下簡稱QE)是從入射光子中收集光子電荷的概率,而調(diào)制對比度(Modulation Contrast,以下簡稱MC)是光子電荷生成可用于獲取深度信號的概率,則:

b990cfb8-8cd1-11eb-8b86-12bb97331649.jpg

假設MC和QE的值處于上限,由于像素面積減少了一半,時間抖動就增加了√2。這是否意味著像素較小會導致性能不佳?事實證明,還有另一個杠桿參數(shù)可以提高性能,這是調(diào)制頻率。來自微軟的Cyrus曾在其博客文章中提到了基于相位的ToF測量方法。時間抖動的不同表達方式為:

ba0cee72-8cd1-11eb-8b86-12bb97331649.jpg

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圖2:環(huán)境散粒噪聲限制機制:頻率標度與像素尺寸的關(guān)系


從圖2看出,可以通過增加頻率來恢復因為像素尺寸縮小產(chǎn)生的性能下降。但是,只有當MC在更高頻率時不會顯著降低,才可能這樣做。微軟的ToF技術(shù)是高頻MC的領(lǐng)導者(頻率在320 MHz時MC為78%)。此外,更高的頻率會增加芯片功耗和激光光學功耗。

下圖(圖3)展示了ToF像素尺寸隨著摩爾定律發(fā)展的規(guī)律。

baa2e3fa-8cd1-11eb-8b86-12bb97331649.jpg

圖3:摩爾定律 vs. ToF像素尺寸發(fā)展


注:文章來自微軟資深首席科學家Swati Mehta,由麥姆斯咨詢編譯。

責任編輯:lq

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原文標題:當ToF像素遇到摩爾定律,劇情如何發(fā)展?

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