2nm芯片有多強(qiáng) 2nm芯片是極限嗎
在2022年6月16日北美技術(shù)論壇會議上，臺積電首次宣布將推出下一代先進(jìn)N2工藝制程，同時也介紹和說明了n2工藝制程的相關(guān)研發(fā)進(jìn)展和未來規(guī)劃。
n2工藝制程將采用基于全新的納米片電晶體架構(gòu)，用環(huán)繞柵極晶體管 （GAAFET）技術(shù)取代鰭式場效應(yīng)晶體管（FinFET）進(jìn)行制程節(jié)點(diǎn)設(shè)計(jì)。
GAA晶體管的靜電特性比FinFET更為出色，因此在產(chǎn)品相同尺寸的結(jié)構(gòu)下，GAA將為技術(shù)芯片提供更高性能。采用GAAFET技術(shù)的2nm工藝在在相同功率和復(fù)雜度下速度得到至少15%以上的提升，同時功耗降低超30%，芯片密度提高約1.1倍。
同時臺積電官方透露2nm工藝制程將會在2025年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。
綜合Tech情報局整合
審核編輯：郭婷
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