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氮化鎵的好處

jf_52490301 ? 來源:jf_52490301 ? 作者:jf_52490301 ? 2023-10-10 15:57 ? 次閱讀
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GaN是一種寬禁帶材料。因此,它的帶隙(電子從價帶移動到導帶所需的能量)比硅寬得多:約3.4eV對1.12 eV。GaN HE MT增強的電子遷移率與更快的開關速度有關,因為通常積聚在結處的電荷可能消散得更快。
由于其較短的上升時間、較低的漏極-源極導通電阻(RDS(on))值以及較小的柵極和輸出電容,GaN可以實現(xiàn)較低的開關損耗,并且可以以比硅高10倍的性能工作。在開關頻率下工作。能夠在高開關頻率下工作,從而實現(xiàn)了更小的占地面積、重量和體積,并消除了對電感器和變壓器等笨重元件的需求。隨著開關頻率的提高,GaN HE MT的開關損耗將保持遠低于硅MOSFETIGBT的水平,且開關頻率越高,這種差異越明顯。


綜上所述,GaN器件在很多方面都優(yōu)于傳統(tǒng)的硅基功率器件。這些優(yōu)點包括:
1. GaN的擊穿電場是硅的10倍以上(3.3MV/cm vs. 0.3MV/cm),從而允許GaN基功率器件在被損壞之前支持10倍以上的電壓。
2. 在相同的電壓值下工作,GaN器件的溫度較低,產(chǎn)生的熱量較少。因此,它們可以在比硅更高的溫度下工作(高達225°C及以上),這是由其較低的結溫(150°C至175°C)的限制。
3. 由于其固有的結構,GaN可以在比硅更高的頻率下開關,并提供更低的RDS(on)和優(yōu)異的反向恢復能力。這反過來又導致高效率,同時減少開關損耗和功率損耗。
4. 作為HEMT,GaN器件具有比硅器件更高的電場強度,允許GaN器件具有更小的管芯尺寸和更小的占地面積。

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氮化鎵

氮化鎵和碳化硅
碳化硅(SiC)器件由于其節(jié)能、縮小尺寸、集成解決方案和可靠性等特性,在電機控制和功率控制應用中的使用是一個重大突破。除此之外,現(xiàn)在還可以為逆變器電路中連接的電機采用最佳開關頻率,這對電機設計具有重要意義。
在必須使用主動冷卻來調(diào)節(jié)半導體損耗以實現(xiàn)高性能和可靠性的解決方案中,將損耗降低高達80%可能是一個顛覆性的改變。KeepTops生產(chǎn)的SDS120J020G3基于SiC就是一個例子。這種組合可在伺服驅(qū)動器等高密度電機驅(qū)動器中實現(xiàn)無源冷卻,使機器人和自動化行業(yè)能夠創(chuàng)建免維護、無風扇的電機變頻器。自動化領域的無風扇解決方案開辟了新的設計可能性,因為它們節(jié)省了維護和材料方面的資金和時間。由此產(chǎn)生的小系統(tǒng)尺寸使其適合在機械臂中集成驅(qū)動器。
與具有類似額定值的IGBT相比,根據(jù)為CoolSiC選擇的功率類型,可以在相同的外形尺寸下實現(xiàn)更高的電流,同時仍然顯著低于具有SiC MOSFET(~40~60K)(105K)恒定結溫的IGBT。對于給定的器件尺寸,使用SiC MOSFET無需風扇也可以驅(qū)動更高的電流。

從我們在家里和廚房使用的電氣設備到我們駕駛的汽車(包括汽油動力、混合動力和全電動汽車)以及制造智能手機的工廠,電動機幾乎存在于現(xiàn)代文明的方方面面。雖然有些電機是非常簡單的,有些是非常復雜的,他們都有一個共同點,他們都需要控制。
其他電機應用,如當今工業(yè)工廠中的電機,需要復雜的電機控制來提供高精度、高速的電機控制活動。在直流電機和電池供電電機應用中,傳統(tǒng)的硅MOSFET和低PWM變頻器正在被淘汰,取而代之的是基于GaN的高PWM變頻器。優(yōu)點包括提高系統(tǒng)效率和消除大型無源元件,即電解電容器和輸入電感器。

審核編輯 黃宇

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