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Aston Impact 高靈敏度質譜分析儀 CVD 清洗終點優(yōu)化

伯東企業(yè)(上海)有限公司 ? 2024-10-18 13:42 ? 次閱讀
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上海伯東日本 Atonarp Aston Impact 高靈敏度質譜分析儀, 基于四級桿的質量分離, Aston 質譜分析儀設計緊湊, 適用于氣體分析和過程氣體監(jiān)測, 滿足半導體工藝過程中, 沉積, 刻蝕, 光刻等氣體分析.

Aston 質譜分析儀 CVD 清洗終點優(yōu)化
選擇 clean 的反應物或者生成物, 使用 Aston 相對定量分析其中的氣體成分, 可以動態(tài)判斷 CVD 清潔過程的刻蝕終點的時間. 不論是氣體的節(jié)省和工藝時間的節(jié)省都可以最大程度的增大產(chǎn)能.

wKgZomcR8l6AOEoBAAD1xMlHvqo830.pngAston 質譜分析儀



Aston 質譜分析儀與腔室連接

wKgZoWcR8faAVPVqAAByNLEkd8k372.pngAston 質譜分析儀



Aston Impact 高靈敏度質譜分析儀基本參數(shù)

型號

Aston Impact-300

Aston Impact-300DP

質量分離

四級桿

離子發(fā)生器

電子電離 EI

電子電離 EI

檢測器

法拉第杯 / 掃描電鏡

真空系統(tǒng)

渦輪分子泵

渦輪分子泵
隔膜泵

質量范圍

2-285 amu

檢測限

100 ppb

精度

0.5%

可重復性

+/-0.5% over 24 Hr

耐腐蝕性氣體

輕微

耐副產(chǎn)物氣體

高速以太網(wǎng)

氣體壓力覆蓋面廣


上海伯東代理日本 Atonarp 過程控制質譜儀 Aston?, 通過使用分子傳感技術, 提供半導體制程中 ALD, CVD, 蝕刻, ALE 和腔室在大批量生產(chǎn)中的氣體偵測分析, 實現(xiàn)尾氣在線監(jiān)控, 診斷, 為半導體過程控制提供解決方案, 提高半導體制造工藝的產(chǎn)量, 吞吐量和效率, 在現(xiàn)有生產(chǎn)工藝工具上加裝 Aston, 可在短時間內實現(xiàn)晶圓更高產(chǎn)量!

若您需要進一步的了解Atonarp Aston?在線質譜儀詳細信息或討論,
請聯(lián)絡上海伯東: 葉女士107

現(xiàn)部分品牌誠招合作代理商, 有意向者歡迎聯(lián)絡上海伯東 葉女士
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