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臺(tái)階儀在納米薄膜工藝監(jiān)控:基于三臺(tái)階標(biāo)準(zhǔn)的高精度厚度與沉積速率測(cè)定

Flexfilm ? 2026-01-09 18:03 ? 次閱讀
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納米尺度測(cè)量通常依賴具有納米特征的標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行儀器校準(zhǔn)。目前常見(jiàn)標(biāo)準(zhǔn)樣品多為單臺(tái)階結(jié)構(gòu),由于儀器非線性,需使用不同高度值進(jìn)行多次校準(zhǔn)。多臺(tái)階標(biāo)準(zhǔn)樣品可減少探針重復(fù)定位,提升校準(zhǔn)效率。原子力顯微鏡與臺(tái)階儀是納米結(jié)構(gòu)測(cè)量的常用設(shè)備,后者具有更大掃描范圍且對(duì)樣品污染不敏感,但噪聲較大且易受環(huán)境振動(dòng)影響。光譜橢偏儀等方法可用于測(cè)量薄膜沉積速率,但其結(jié)果受材料特性與模型影響,且一般不提供不確定度。Flexfilm探針式臺(tái)階儀可以實(shí)現(xiàn)表面微觀特征的精準(zhǔn)表征關(guān)鍵參數(shù)的定量測(cè)量,精確測(cè)定樣品的表面臺(tái)階高度與膜厚,為材料質(zhì)量把控和生產(chǎn)效率提升提供數(shù)據(jù)支撐。

本研究提出一種基于觸針式輪廓儀(臺(tái)階儀)測(cè)量納米級(jí)三臺(tái)階高度樣品的方法。通過(guò)多項(xiàng)式擬合算法處理原始數(shù)據(jù),以抑制低頻偽影;采用截止頻率為0.8/μm的低通濾波器濾除高頻噪聲,并結(jié)合十階多項(xiàng)式進(jìn)一步消除低頻干擾。實(shí)驗(yàn)測(cè)得各臺(tái)階高度的不確定度在1?nm至2.2?nm之間。作為應(yīng)用實(shí)例,根據(jù)臺(tái)階高度計(jì)算了薄膜沉積速率及其不確定度,結(jié)果為0.0875?±?0.0099?nm/cycle,與光譜橢偏儀測(cè)量結(jié)果(0.0880 nm/cycle)吻合良好。

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測(cè)量與表征方法

flexfilm

樣品與測(cè)量設(shè)置

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三臺(tái)階高度樣品的結(jié)構(gòu)示意圖,圖中標(biāo)注了臺(tái)階高度 h1=18?nm與 h2=8?nm

樣品為通過(guò)原子層沉積與濕法刻蝕制備的三臺(tái)階結(jié)構(gòu),名義高度分別為8?nm、18?nm和26?nm。

使用臺(tái)階儀進(jìn)行測(cè)量,探針載荷0.05?mg,掃描速度0.0435?mm/s,掃描長(zhǎng)度2?mm以覆蓋全部三個(gè)臺(tái)階。測(cè)量前使用8?nm、18?nm和44?nm的單臺(tái)階標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行儀器校準(zhǔn)。

數(shù)據(jù)處理與噪聲抑制

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臺(tái)階儀測(cè)量的掃描輪廓圖,顯示原始測(cè)量數(shù)據(jù)中存在的低頻偽影與高頻噪聲

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(a)臺(tái)階儀掃描輪廓的功率譜密度圖;(b)AFM掃描輪廓的功率譜密度圖

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不同環(huán)境條件下臺(tái)階儀掃描輪廓的功率譜密度峰值頻率(a)真空泵關(guān)閉時(shí)(b)真空泵運(yùn)行時(shí)

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a多項(xiàng)式階數(shù)對(duì)最小范數(shù)的影響b多項(xiàng)式階數(shù)對(duì)臺(tái)階高度計(jì)算結(jié)果的影響

臺(tái)階儀測(cè)量數(shù)據(jù)包含低頻偽影與高頻噪聲。通過(guò)功率譜密度分析發(fā)現(xiàn),噪聲主要集中于頻率高于0.8/μm的區(qū)域,且部分峰值與環(huán)境振動(dòng)(如真空泵工作)相關(guān)。數(shù)據(jù)處理流程如下:

采用Canny邊緣檢測(cè)定位臺(tái)階左右邊緣;

使用十階多項(xiàng)式擬合去除低頻偽影;

應(yīng)用截止頻率0.8/μm的低通濾波器抑制高頻噪聲。

多項(xiàng)式階數(shù)選擇依據(jù)擬合殘差范數(shù)隨階數(shù)變化曲線及臺(tái)階高度計(jì)算結(jié)果穩(wěn)定性確定,十階多項(xiàng)式可有效去除低頻成分。

不確定度評(píng)估

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不確定度評(píng)估的輸入值,包括樣品與標(biāo)準(zhǔn)樣品的名義高度、測(cè)量平均值與標(biāo)準(zhǔn)偏差

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線結(jié)構(gòu)臺(tái)階高度的不確定度預(yù)算表,列出各不確定度分量及其來(lái)源、類(lèi)型與數(shù)值

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三臺(tái)階高度樣品的臺(tái)階儀測(cè)量結(jié)果,包括名義高度、測(cè)量值及其擴(kuò)展不確定度(k=2)

臺(tái)階高度取五個(gè)測(cè)量區(qū)域的平均值。不確定度評(píng)估包括標(biāo)準(zhǔn)樣品校準(zhǔn)值的不確定度、儀器重復(fù)性、垂直分辨率以及樣品均勻性等分量。合成標(biāo)準(zhǔn)不確定度按測(cè)量模型計(jì)算,擴(kuò)展不確定度取包含因子?k=2(置信水平95%)。

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結(jié)果與應(yīng)用:沉積速率計(jì)算

flexfilm

基于8?nm與26?nm臺(tái)階的測(cè)量高度及其不確定度,計(jì)算原子層沉積的穩(wěn)定沉積速率:

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其中?c26=260、c8=80為沉積循環(huán)次數(shù)。沉積速率的不確定度由高度測(cè)量不確定度傳遞得出:

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計(jì)算得到沉積速率為?0.0875 ± 0.0099 nm/cycle。光譜橢偏儀測(cè)得結(jié)果為?0.0880?nm/cycle,兩者相對(duì)偏差約?5.7%,在考慮模型誤差(如薄膜非理想透明)下可認(rèn)為結(jié)果一致。

本研究成功制備并測(cè)量了納米級(jí)三臺(tái)階高度樣品。通過(guò)多項(xiàng)式擬合與低通濾波結(jié)合的方法,有效抑制了臺(tái)階儀測(cè)量中的低頻偽影與高頻噪聲,臺(tái)階高度測(cè)量不確定度優(yōu)于2.2?nm?;谂_(tái)階高度計(jì)算結(jié)果推導(dǎo)的薄膜沉積速率與光譜橢偏儀結(jié)果相符,驗(yàn)證了該方法在納米薄膜工藝監(jiān)控中的適用性。后續(xù)工作將聚焦于表面粗糙度與高頻噪聲的分離,并比較接觸式與光學(xué)測(cè)量?jī)x器的數(shù)據(jù)獲取與處理策略。

Flexfilm探針式臺(tái)階儀

flexfilm

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半導(dǎo)體、光伏、LEDMEMS器件、材料等領(lǐng)域,表面臺(tái)階高度、膜厚的準(zhǔn)確測(cè)量具有十分重要的價(jià)值,尤其是臺(tái)階高度是一個(gè)重要的參數(shù),對(duì)各種薄膜臺(tái)階參數(shù)的精確、快速測(cè)定和控制,是保證材料質(zhì)量、提高生產(chǎn)效率的重要手段。

  • 配備500W像素高分辨率彩色攝像機(jī)
  • 亞埃級(jí)分辨率,臺(tái)階高度重復(fù)性1nm
  • 360°旋轉(zhuǎn)θ平臺(tái)結(jié)合Z軸升降平臺(tái)
  • 超微力恒力傳感器保證無(wú)接觸損傷精準(zhǔn)測(cè)量

費(fèi)曼儀器作為國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的薄膜厚度測(cè)量技術(shù)解決方案提供商,Flexfilm探針式臺(tái)階儀可以對(duì)薄膜表面臺(tái)階高度、膜厚進(jìn)行準(zhǔn)確測(cè)量,保證材料質(zhì)量、提高生產(chǎn)效率。

#三臺(tái)階高度#不確定度#沉積速率#臺(tái)階儀

原文參考:《Measurement and characterization of a nano-scale multiple-step height sample using a stylus profiler》

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