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低溫光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)中4個(gè)關(guān)鍵技術(shù)及應(yīng)用介紹

MEMS ? 來源:未知 ? 作者:工程師郭婷 ? 2018-09-04 16:41 ? 次閱讀
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1引言

紅外天文望遠(yuǎn)鏡、對(duì)地觀測(cè)或軍事探測(cè)等應(yīng)用中,如果探測(cè)儀器的光學(xué)系統(tǒng)或者視場(chǎng)內(nèi)儀器本身元器件的熱輻射較強(qiáng),這些背景噪聲會(huì)嚴(yán)重影響探測(cè)儀器對(duì)目標(biāo)的探測(cè)。因此要想提高紅外探測(cè)系統(tǒng)的探測(cè)靈敏度,就必須降低探測(cè)儀器的光學(xué)系統(tǒng)和視場(chǎng)內(nèi)儀器本身元器件的輻射強(qiáng)度,采用紅外低溫光學(xué)系統(tǒng)是目前最主要的方法。低溫光學(xué)系統(tǒng)從20世紀(jì)70年代末問世以來,在目標(biāo)空間紅外探測(cè)中得到了廣泛應(yīng)用。系統(tǒng)制冷溫度從液氮溫度(77K)降低到液氦溫度(2K),探測(cè)波長(zhǎng)擴(kuò)展到十幾甚至幾十微米,光學(xué)系統(tǒng)的口徑小到10cm量級(jí),大至1m左右的都有。目前國(guó)外在空間探測(cè)任務(wù)中,已成功應(yīng)用或正在研制中準(zhǔn)備發(fā)射的紅外低溫光學(xué)系統(tǒng),可以歸結(jié)為兩類:1)全光路冷卻系統(tǒng),以空間紅外天文望遠(yuǎn)鏡為代表;2)局部的低溫光學(xué)系統(tǒng),主要以冷卻后光路為主,主要應(yīng)用在對(duì)地觀測(cè)方面。本文首先總結(jié)了紅外低溫光學(xué)的幾個(gè)關(guān)鍵技術(shù),然后介紹了幾個(gè)典型的紅外低溫光學(xué)應(yīng)用實(shí)例,最后展望了紅外低溫光學(xué)在機(jī)載環(huán)境下的應(yīng)用前景。

2紅外低溫光學(xué)關(guān)鍵技術(shù)及解決途徑

采用低溫光學(xué)技術(shù)來降低光學(xué)系統(tǒng)溫度能夠有效降低背景噪聲,提高信噪比和靈敏度。低溫光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、制造和檢測(cè),與傳統(tǒng)光學(xué)系統(tǒng)有很大的不同,不僅要求成像質(zhì)量好、結(jié)構(gòu)穩(wěn)定、耐沖擊、經(jīng)得住系統(tǒng)內(nèi)部溫度變化引起的熱負(fù)載,而且對(duì)系統(tǒng)的重量也有一定的限制?;谏鲜黾夹g(shù)要求,低溫光學(xué)系統(tǒng)在設(shè)計(jì)時(shí)需要考慮以下四個(gè)要素:1)光學(xué)系統(tǒng)構(gòu)型選擇;2)光學(xué)系統(tǒng)材料選擇;3)光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì);4)光學(xué)系統(tǒng)制冷方案設(shè)計(jì)。下面就從這四個(gè)方面對(duì)紅外低溫光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行分析。

2.1紅外低溫光學(xué)系統(tǒng)構(gòu)型選擇

研制低溫光學(xué)系統(tǒng)合理的途徑是在室溫下制造、檢驗(yàn)合格,而使它在低溫下工作時(shí)仍能保證其令人滿意的成像質(zhì)量。所以,低溫光學(xué)系統(tǒng)實(shí)際上是一個(gè)在很大溫度范圍內(nèi)能正常工作,并且維持衍射極限成像的特殊光學(xué)系統(tǒng)。低溫光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)必須遵循無熱效應(yīng)的設(shè)計(jì)原則,低溫光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)型可以分為全反射式光學(xué)系統(tǒng)和折射式光學(xué)系統(tǒng)兩種類型。

全反射式低溫光學(xué)系統(tǒng)能在寬波段內(nèi)消除色差,獲得衍射極限的成像質(zhì)量,并且全部的光學(xué)元件用相同的材料制成,低溫制冷后能夠在常溫下進(jìn)行光學(xué)裝調(diào)。全反射光學(xué)系統(tǒng)的另一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是光線不進(jìn)入光學(xué)元件內(nèi)部,因此能夠有效避免材料內(nèi)部的光學(xué)特性在溫度變化較大時(shí)的檢測(cè)與控制問題。全反射式光學(xué)系統(tǒng)在降溫處理過程中的關(guān)鍵是找準(zhǔn)系統(tǒng)熱致伸縮的基點(diǎn)/基面。為保證反射鏡鏡面冷卻后的面型精度,需要機(jī)械設(shè)計(jì)人員著重設(shè)計(jì)反射鏡與冷板相連接的部位。全反射式光學(xué)系統(tǒng)的缺點(diǎn)是通常只能采用離軸形式,因此設(shè)備尺寸相對(duì)較大,裝調(diào)困難,故僅適用于結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的低溫光學(xué)系統(tǒng)。

折射式低溫光學(xué)系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)是尺寸小,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,缺點(diǎn)是不能保證所有材料相同,不同材料(包括光學(xué)鏡片和鏡框的材料)在冷卻時(shí)熱膨脹系數(shù)不同,而且不能用傳統(tǒng)安裝方法來安裝透鏡,必須采用柔性支撐,這會(huì)導(dǎo)致安裝難度的增加。低溫光學(xué)系統(tǒng)冷卻后需要使光學(xué)裝調(diào)能夠正常進(jìn)行,并且需要同時(shí)滿足光學(xué)設(shè)計(jì)公差。對(duì)于含有折射元件的低溫光學(xué)系統(tǒng),光學(xué)設(shè)計(jì)給出的光學(xué)鏡片的曲率半徑、鏡片中心厚度以及元件間隔等參數(shù)在加工裝調(diào)時(shí)需換算到室溫條件下的參數(shù)。換算后的曲率半徑和鏡片中心厚度值可以由ZEMAX光學(xué)設(shè)計(jì)軟件的多重結(jié)構(gòu)功能選項(xiàng)直接得到,而元件間隔只能手動(dòng)計(jì)算,這是因?yàn)殓R片的移動(dòng)不是按順序依次進(jìn)行的,所以光學(xué)設(shè)計(jì)軟件給出的結(jié)果往往有偏差,而且系統(tǒng)熱致伸縮的基點(diǎn)或基面需要視杜瓦結(jié)構(gòu)和制冷方案等具體情況而定。

全反射式和折射式兩種結(jié)構(gòu)的光學(xué)系統(tǒng)各有優(yōu)缺點(diǎn),設(shè)計(jì)時(shí)要結(jié)合具體應(yīng)用的需求綜合考慮。

2.2紅外低溫光學(xué)系統(tǒng)材料選擇

低溫光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、加工和裝調(diào)建立在材料特性的基礎(chǔ)上,充分了解選用的光學(xué)材料特性才能將低溫光學(xué)系統(tǒng)各規(guī)格參數(shù)換算到室溫水平。低溫光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)材料要選用透紅外、耐高溫、耐腐蝕的材料,目前可用于紅外波段的光學(xué)材料主要包括AI2O3、AlON、MgF2、Si、GaAs、GaP、ZnS、Ge、CaLa2S4等,表1為其主要性能。

表1 常用光學(xué)材料性能表

低溫光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)中4個(gè)關(guān)鍵技術(shù)及應(yīng)用介紹

從這些材料的性能來看,金剛石是適合用于紅外低溫光學(xué)窗口的材料,但是天然金剛石價(jià)格高,人造金剛石的尺寸又不能滿足要求;GaP距離工程實(shí)用化還相差較遠(yuǎn);Ge在工作溫度高于一定溫度后,透過率會(huì)迅速下降,因而難以用作紅外低溫光學(xué)窗口材料;CaLa2S4的熱膨脹系數(shù)很大,難以適用于熱環(huán)境變化劇烈的工作條件,目前只有極少數(shù)國(guó)家在開展這種材料的研究工作;GaAs較軟,欲制作大尺寸的光學(xué)窗口較難實(shí)現(xiàn);ZnS和ZnSe相比,光學(xué)特性近似,但是ZnS的機(jī)械性能優(yōu)于ZnSe的機(jī)械性能,因此常常用ZnS來作為紅外低溫光學(xué)的窗口材料。ZnS材料屬于光學(xué)晶體,材料的制作通常采用物理氣相沉積,化學(xué)氣相沉積,粉末熱壓成型等制作方法。

2.3紅外低溫光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)

紅外低溫光學(xué)系統(tǒng)的光機(jī)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)需遵循不調(diào)整原則和均一性原則。不調(diào)整原則是指光學(xué)系統(tǒng)的準(zhǔn)直和最終性能不再通過傳統(tǒng)的修磨墊片等手段來調(diào)整,而是直接通過設(shè)計(jì)精度、誤差分析和材料分析等保證。因?yàn)槊恳淮谓禍睾蜕郎剡^程以及恒溫器的真空化都需要很長(zhǎng)時(shí)間,而且室溫下的裝調(diào)結(jié)果在低溫工作時(shí)還會(huì)變化。而在低溫下很難進(jìn)行調(diào)整,盡管可以通過一些壓電促動(dòng)器進(jìn)行低溫下微調(diào),但其可靠性難以保證。因此,大多數(shù)低溫紅外光機(jī)結(jié)構(gòu)都遵循不調(diào)整原則。均一性原則是指光機(jī)結(jié)構(gòu)所有部分采用同一材料。對(duì)于全反射光學(xué)系統(tǒng),盡管光學(xué)系統(tǒng)的尺寸會(huì)隨著溫度變化而變化,但反射鏡表面曲線變化均勻,因此光學(xué)系統(tǒng)在室溫或者低溫環(huán)境下工作時(shí)性能不會(huì)下降。而在折射式光學(xué)系統(tǒng)中,通常會(huì)有多種不同材料,不再滿足均一性原則,光學(xué)性能在室溫和低溫下會(huì)有所不同。不同材料的熱漲會(huì)導(dǎo)致變形和內(nèi)應(yīng)力,造成性能下降,因此需要對(duì)光機(jī)結(jié)構(gòu)進(jìn)行運(yùn)動(dòng)學(xué)安裝設(shè)計(jì)。

理想的光學(xué)件安裝應(yīng)該在任何環(huán)境下都能夠保證位置精確,而且沒有內(nèi)應(yīng)力??梢杂?個(gè)自由度來確定一個(gè)光學(xué)件的位置,當(dāng)6個(gè)自由度被單獨(dú)地全部或部分約束,就能夠精確定位或精確運(yùn)動(dòng)。經(jīng)典的運(yùn)動(dòng)學(xué)定位模型如圖1所示?!禖ryogenic hysteresis and creep characteristicsof piezoelectric bimorph scanner》給出了紅外低溫光學(xué)系統(tǒng)中不同類型光學(xué)件的安裝方法。

圖1 經(jīng)典運(yùn)動(dòng)學(xué)定位模型

2.4紅外低溫光學(xué)系統(tǒng)制冷方案設(shè)計(jì)

低溫光學(xué)就是將像面處能夠被探測(cè)器看到的表面所屬的光學(xué)元件同探測(cè)器一起放置于低溫恒溫器中,通過降溫的方式抑制自身的熱輻射,因此制冷方案的選擇很關(guān)鍵。由于液氮制冷無法達(dá)到20K以下的低溫,目前低溫光學(xué)系統(tǒng)制冷方案設(shè)計(jì)中通常采用將液氦灌入倉(cāng)內(nèi),通過冷板傳導(dǎo)使光學(xué)系統(tǒng)降溫的方法。氦冷背景主要有以下三種實(shí)現(xiàn)途徑:1)開式液氦冷卻系統(tǒng);2)機(jī)械式氦氣制冷機(jī)系統(tǒng);3)氦循環(huán)冷卻系統(tǒng)。

開式液氦冷卻系統(tǒng)由兩部分構(gòu)成,包括液氦熱沉和液氦儲(chǔ)槽,結(jié)構(gòu)如圖2所示,該系統(tǒng)無法對(duì)液氦進(jìn)行循環(huán)利用,運(yùn)行成本高;機(jī)械式氦氣制冷機(jī)系統(tǒng)是通過一套或多套大功率氦壓縮機(jī)配合冷頭,將冷板降溫至20K以下,其缺點(diǎn)是若使用多套大功率氦壓縮機(jī)及其配套冷頭,產(chǎn)生的震動(dòng)將會(huì)影響光學(xué)成像;氦循環(huán)系統(tǒng)是目前技術(shù)最先進(jìn)、最穩(wěn)定可靠的氦冷背景冷卻系統(tǒng),通過分配裝置將液氦注入到冷艙的制冷管路中實(shí)現(xiàn)降溫,回流的氦氣經(jīng)過純化、降溫、液化等工序后,又被分配裝置再次注入冷艙的制冷管路中,圖3為氦循環(huán)冷卻系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖。

通過上述分析可知未來低溫光學(xué)系統(tǒng)應(yīng)采用氦循環(huán)冷卻系統(tǒng),因?yàn)樵撓到y(tǒng)不僅背景溫度均勻性好、狀態(tài)穩(wěn)定、無機(jī)械震動(dòng),不影響光學(xué)成像,而且密閉循環(huán),成本低,可靠性高。

低溫光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)中4個(gè)關(guān)鍵技術(shù)及應(yīng)用介紹

圖2 開式液氦冷卻系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖

低溫光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)中4個(gè)關(guān)鍵技術(shù)及應(yīng)用介紹

圖3 氦循環(huán)冷卻系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖

3典型的制冷紅外系統(tǒng)

3.1紅外遙感相機(jī)

紅外遙感相機(jī)的主體結(jié)構(gòu)由四反同軸的微晶鏡頭、中長(zhǎng)波探測(cè)器、長(zhǎng)波探測(cè)器、主承力筒、遮光罩以及中波組件和視頻處理器等組成,圖4所示為其模擬示意圖。

低溫光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)中4個(gè)關(guān)鍵技術(shù)及應(yīng)用介紹

圖4 紅外模擬示意圖

光學(xué)鏡頭包括主鏡、次鏡、三鏡以及鏡間支撐結(jié)構(gòu)。光學(xué)材料采用的是熱膨脹系數(shù)較小的微晶玻璃。由于微晶玻璃導(dǎo)熱性差,如果僅僅將鏡頭上某—點(diǎn)與冷頭連接,就不能使距冷頭較遠(yuǎn)的鏡頭溫度降低。因此采用的是一套優(yōu)化的制冷系統(tǒng),系統(tǒng)組成如圖5所示。

圖5 光學(xué)鏡頭制冷示意圖

在光學(xué)鏡頭外包絡(luò)一層鋁合金材料的冷屏結(jié)構(gòu),冷屏結(jié)構(gòu)的厚度為4mm,其內(nèi)表面進(jìn)行了黑色陽(yáng)極氧化處理,連接面涂用以降低接觸熱阻的導(dǎo)熱脂,制冷機(jī)冷頭與冷屏中段直接連接,冷量以熱傳導(dǎo)的方式傳遞至冷屏其余各段。為了確保光學(xué)鏡頭制冷機(jī)在指標(biāo)要求溫度下可以提供足夠的冷量,在冷屏結(jié)構(gòu)的外表面包覆著25單元多層隔熱材料,多層采用6μm的雙面鍍鋁聚酯薄膜,用滌綸網(wǎng)作中間間隔層。

3.2紅外空間望遠(yuǎn)鏡

低溫光學(xué)系統(tǒng)在空間觀測(cè)中的應(yīng)用主要是空間望遠(yuǎn)鏡。Herschel空間天文望遠(yuǎn)鏡是歐洲航天局KSA在2009年發(fā)射的遠(yuǎn)紅外望遠(yuǎn)鏡,如圖6所示。Herschel望遠(yuǎn)鏡的主光學(xué)系統(tǒng)是卡賽格倫反射系統(tǒng),工作波段為57 ~ 670μm,主鏡3.5m,包括三臺(tái)低溫光學(xué)儀器:遠(yuǎn)紅外差分儀、光電探測(cè)器陣列相機(jī)及分光計(jì)、光譜及光度計(jì)的成像接收器。工作時(shí),用2000升超流氮對(duì)安裝三臺(tái)儀器的光學(xué)平臺(tái)及其部件致冷,冷卻溫度可達(dá)3K以下。

圖6 Herschel空間天文望遠(yuǎn)鏡

4總結(jié)與展望

本文梳理了低溫光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)中的光學(xué)系統(tǒng)構(gòu)型選擇、光學(xué)材料選擇、結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、制冷方案設(shè)計(jì)四個(gè)關(guān)鍵技術(shù),并簡(jiǎn)單介紹了紅外遙感相機(jī)和空間紅外望遠(yuǎn)鏡這兩個(gè)紅外低溫光學(xué)的應(yīng)用實(shí)例。

紅外低溫光學(xué)在天文望遠(yuǎn)鏡、紅外相機(jī)等方面都得到了廣泛應(yīng)用,可以發(fā)現(xiàn)光學(xué)系統(tǒng)在經(jīng)過制冷以后,產(chǎn)生的輻射亮度降低了幾個(gè)數(shù)量級(jí),大大降低了系統(tǒng)內(nèi)部熱輻射和探測(cè)器背景噪聲,有效提高了系統(tǒng)的探測(cè)能力以及光學(xué)系統(tǒng)信噪比。雖然當(dāng)前低溫光學(xué)技術(shù)主要在深空中運(yùn)用,但機(jī)載環(huán)境下應(yīng)用低溫光學(xué)技術(shù)已成為我國(guó)未來機(jī)載紅外預(yù)警發(fā)展的必然趨勢(shì),原因如下:1)對(duì)于機(jī)載應(yīng)用,自然雜散光輻射的影響比光學(xué)系統(tǒng)自身輻射的影響更大,運(yùn)用低溫光學(xué)技術(shù)降低光學(xué)系統(tǒng)溫度,能夠有效降低背景噪聲輻射強(qiáng)度,使其小于目標(biāo)輻射強(qiáng)度,有利于更好的對(duì)目標(biāo)進(jìn)行預(yù)警探測(cè);2)優(yōu)化低溫光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì),可以采用光學(xué)、探測(cè)器集成杜瓦,進(jìn)一步提高低溫光學(xué)的效率;3)優(yōu)化光學(xué)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),減少光學(xué)結(jié)構(gòu)件,結(jié)構(gòu)件產(chǎn)生的輻射強(qiáng)度影響較大;4)全反射光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì),可以應(yīng)用自由曲面鏡來簡(jiǎn)化光學(xué)鏡片的使用,進(jìn)一步提高光學(xué)效率。紅外低溫光學(xué)技術(shù)已成為21世紀(jì)紅外探測(cè)的熱門研究課題,是提高系統(tǒng)探測(cè)性能的主要途徑,在機(jī)載上應(yīng)用紅外低溫光學(xué)技術(shù)對(duì)于提高大中型預(yù)警機(jī)的遠(yuǎn)程預(yù)警探測(cè)能力,具有重要的應(yīng)用價(jià)值。

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原文標(biāo)題:紅外低溫光學(xué)關(guān)鍵技術(shù)研究綜述

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    發(fā)表于 05-28 08:45

    OCAD應(yīng)用:?jiǎn)畏瓷溏R掃描光學(xué)系統(tǒng)初始結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)

    使用這類棱鏡作為掃描元件,這類棱鏡被稱作端部棱鏡。 具有端部反射鏡(棱鏡)及保護(hù)玻璃的掃描光學(xué)系統(tǒng),由于其端部反射鏡(棱鏡)是個(gè)運(yùn)動(dòng)部件,其前保護(hù)玻璃可能是三維傾斜的,因此不易計(jì)算他們的外形尺寸。為此本
    發(fā)表于 05-27 08:44

    OCAD應(yīng)用:利用OCAD進(jìn)行一般光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)

    填寫完對(duì)光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)技術(shù)要求之后就可以在窗體右側(cè)的繪圖框內(nèi)繪制光學(xué)系統(tǒng)方案草圖。繪圖框的基本尺寸默認(rèn)為一張橫排的A4圖紙。如果根據(jù)系統(tǒng)總體
    發(fā)表于 05-23 08:51

    PanDao:光學(xué)設(shè)計(jì)光學(xué)加工鏈建模

    現(xiàn)代光學(xué)系統(tǒng),隨著技術(shù)的快速多樣化和專業(yè)化,我們面臨著在高度專業(yè)化的個(gè)人、過程和機(jī)器之間進(jìn)行可靠通信的需要。從最初的想法到最終的光學(xué)系統(tǒng),一般會(huì)涉及四
    發(fā)表于 05-12 08:53

    PanDao:光學(xué)制造鏈設(shè)計(jì)

    光學(xué)系統(tǒng)的生產(chǎn):最新技術(shù)(a)和PanDao光學(xué)制造鏈設(shè)計(jì)介紹(b) 制造鏈調(diào)控 盡管光學(xué)設(shè)計(jì)軟件工具為用戶和
    發(fā)表于 05-12 08:51

    PanDao:光學(xué)設(shè)計(jì)階段透鏡系統(tǒng)的可生產(chǎn)性分析

    。針孔透鏡是一種特殊的物鏡,由于其入瞳尺寸小,常用于安防領(lǐng)域。該鏡頭具有多種光學(xué)解決方案,適合廣泛的技術(shù)規(guī)格。 下面介紹兩種光學(xué)系統(tǒng)光學(xué)設(shè)
    發(fā)表于 05-09 08:51

    PanDao:簡(jiǎn)化光學(xué)元件制造流程

    的又一次技術(shù)轉(zhuǎn)譯過程。\" \"當(dāng)光學(xué)系統(tǒng)最終完成生產(chǎn)時(shí),信息已經(jīng)歷了多輪轉(zhuǎn)譯傳遞,這導(dǎo)致關(guān)鍵參數(shù)的完整性受損,\"他指出,\"最終使光學(xué)系統(tǒng)
    發(fā)表于 05-08 08:46

    PanDao:光學(xué)設(shè)計(jì)的制造風(fēng)險(xiǎn)管理

    摘要 :本文系統(tǒng)闡述為特定光學(xué)元件確定最佳光學(xué)制造技術(shù)(OFT)組合的策略,并將應(yīng)用到光學(xué)制造鏈的構(gòu)建中。為此,研究團(tuán)對(duì)
    發(fā)表于 05-07 09:01

    PanDao:光學(xué)制造過程建模

    》將光定義為來自太陽(yáng)、燈具等的能量,使人能夠觀察到物體。為達(dá)到有效觀測(cè),需要構(gòu)建不同層級(jí)的光學(xué)系統(tǒng)——從袖珍手電筒到航海燈塔,或從簡(jiǎn)易放大鏡到尖端光刻成像系統(tǒng)光學(xué)系統(tǒng)的生成是一個(gè)四階
    發(fā)表于 05-07 08:54

    電機(jī)系統(tǒng)節(jié)能關(guān)鍵技術(shù)及展望

    節(jié)約能源既是我國(guó)經(jīng)濟(jì)和社會(huì)發(fā)展的一項(xiàng)長(zhǎng)遠(yuǎn)戰(zhàn)略和基本國(guó)策,也是當(dāng)前的緊迫任務(wù)。論文在深入分析國(guó)內(nèi)外電機(jī)系統(tǒng)節(jié)能現(xiàn)狀和介紹先進(jìn)的節(jié)能關(guān)鍵技術(shù)的基礎(chǔ)上,指出了現(xiàn)階段我國(guó)在電機(jī)系統(tǒng)節(jié)能方面存在
    發(fā)表于 04-30 00:43

    VirtualLab Fusion應(yīng)用:光學(xué)系統(tǒng)的3D可視化

    摘要 為了從根本上了解光學(xué)系統(tǒng)的特性,對(duì)其組件進(jìn)行可視化并顯示光的傳播情況大有幫助。為此,VirtualLab Fusion 提供了顯示光學(xué)系統(tǒng)三維可視化的工具。這些工具還可用于檢查元件和探測(cè)器
    發(fā)表于 04-02 08:42

    VirtualLab Fusion應(yīng)用:光學(xué)系統(tǒng)的熱透鏡

    現(xiàn)代技術(shù)在材料加工領(lǐng)域的出現(xiàn),使得高功率激光源在光學(xué)系統(tǒng)的使用頻率大大增加。高能源產(chǎn)生的大量熱量導(dǎo)致了幾何形狀的變形和系統(tǒng)
    發(fā)表于 03-13 08:57