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中國(guó)自主研制的5納米等離子體刻蝕機(jī)經(jīng)臺(tái)積電將用于生產(chǎn)線

中國(guó)半導(dǎo)體論壇 ? 來源:xx ? 2019-01-01 10:44 ? 次閱讀
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5納米,相當(dāng)于頭發(fā)絲直徑的二萬分之一,將成為集成電路芯片上的最小線寬。臺(tái)積電計(jì)劃明年進(jìn)行5納米制程試產(chǎn),預(yù)計(jì)2020年量產(chǎn)。最近,中微半導(dǎo)體公司收到一個(gè)好消息:其自主研制的5納米等離子體刻蝕機(jī)經(jīng)臺(tái)積電驗(yàn)證,性能優(yōu)良,將用于全球首條5納米制程生產(chǎn)線。刻蝕機(jī)是芯片制造的關(guān)鍵裝備之一,中微突破了“卡脖子”技術(shù),讓“上海制造”躋身刻蝕機(jī)國(guó)際第一梯隊(duì)!

走進(jìn)位于金橋出口加工區(qū)的中微公司,就要換上公司提供的皮鞋,這家精密制造企業(yè)要求一塵不染。在潔凈室門外,記者看到身穿白色工作服、戴著白帽子和口罩的研發(fā)人員,正在測(cè)試一臺(tái)大型設(shè)備,它就是全球屈指可數(shù)的5納米刻蝕機(jī)。只見一片片300毫米大硅片被機(jī)械手抓起,放入真空反應(yīng)腔內(nèi),開始了它們的刻蝕之旅。“多種氣體會(huì)進(jìn)入真空反應(yīng)腔,經(jīng)過化學(xué)反應(yīng)變成等離子氣體,隨即產(chǎn)生帶電粒子和自由基,與硅片發(fā)生化學(xué)物理反應(yīng)?!敝形⑹紫瘜<?、副總裁倪圖強(qiáng)博士說,這些化學(xué)物理反應(yīng)在硅片上開槽打洞,形成令人嘆為觀止的微觀結(jié)構(gòu)——一塊指甲蓋大小的芯片,可集成60多億個(gè)晶體管

方寸間近乎極限的操作,對(duì)刻蝕機(jī)的控制精度提出很高要求。據(jù)倪圖強(qiáng)介紹,刻蝕尺寸的大小與芯片溫度有一一對(duì)應(yīng)關(guān)系,中微自主研發(fā)的部件使刻蝕過程的溫控精度保持在0.75攝氏度內(nèi),達(dá)到國(guó)際領(lǐng)先水平。氣體噴淋盤是刻蝕機(jī)的核心部件之一,中微和國(guó)內(nèi)企業(yè)聯(lián)合開發(fā)出一套創(chuàng)新工藝,用這套工藝制造的金屬陶瓷,其晶粒十分精細(xì)、致密。與進(jìn)口噴淋盤相比,國(guó)產(chǎn)陶瓷鍍膜的噴淋盤使用壽命延長(zhǎng)一倍,造價(jià)卻不到五分之一。

創(chuàng)新成功的秘訣是什么?2004年,尹志堯博士與杜志游博士、倪圖強(qiáng)博士、麥?zhǔn)肆x博士等40多位半導(dǎo)體設(shè)備專家創(chuàng)辦了中微公司。當(dāng)時(shí),世界上最先進(jìn)的芯片生產(chǎn)線是90納米制程,但中微創(chuàng)立之初就開始研發(fā)40納米刻蝕機(jī),因?yàn)樗麄兩钪呻娐樊a(chǎn)業(yè)技術(shù)迭代很快,必須超前兩代開展自主研發(fā)。90納米的下一代是65納米,再下一代就是40納米。擁有國(guó)際化團(tuán)隊(duì),也是成功的一大原因。經(jīng)過海外引進(jìn)和本土培養(yǎng),中微600多名員工來自十多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。而且公司的研發(fā)團(tuán)隊(duì)十分完整,200多人的專業(yè)背景覆蓋30多門學(xué)科,為刻蝕機(jī)研發(fā)這一系統(tǒng)工程奠定了基礎(chǔ)。

憑借自主創(chuàng)新,中微已申請(qǐng)1200多件國(guó)內(nèi)外專利。“因?yàn)橛写罅繉@Wo(hù),我們已經(jīng)歷4次與西方國(guó)家企業(yè)的知識(shí)產(chǎn)權(quán)訴訟,未嘗敗績(jī)。”公司副總裁曹煉生告訴記者。今年1月,國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局專利復(fù)審委基于中微提交的證據(jù),認(rèn)定納斯達(dá)克上市公司維易科的一件發(fā)明專利無效。此后,中微經(jīng)歷的第三次訴訟以和解告終——他們和維易科分別在福建和紐約撤訴,握手言和。

“刻蝕機(jī)曾是一些發(fā)達(dá)國(guó)家的出口管制產(chǎn)品,但近年來,這種高端裝備在出口管制名單上消失了?!蹦邎D強(qiáng)表示,這說明如果我們突破了“卡脖子”技術(shù),出口限制就會(huì)不復(fù)存在。如今,中微與泛林、應(yīng)用材料、東京電子、日立4家美日企業(yè)一起,組成了國(guó)際第一梯隊(duì),為7納米芯片生產(chǎn)線供應(yīng)刻蝕機(jī)。明年,臺(tái)積電將率先進(jìn)入5納米制程,已通過驗(yàn)證的國(guó)產(chǎn)5納米刻蝕機(jī),預(yù)計(jì)會(huì)獲得比7納米生產(chǎn)線更大的市場(chǎng)份額。

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原文標(biāo)題:突破!中國(guó)刻蝕機(jī)進(jìn)入臺(tái)積電5nm生產(chǎn)線!

文章出處:【微信號(hào):CSF211ic,微信公眾號(hào):中國(guó)半導(dǎo)體論壇】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

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