電子束穿透固體樣品的能力主要取決于加速電壓

電子束穿透固體樣品的能力主要取決于加速電壓，樣品厚度以及物質(zhì)的原子序數(shù)。一般來說，加速電壓愈高，原子序數(shù)愈低，電子束可穿透樣品厚度就愈大。因此，通常情況下，在制備TEM樣品時，越薄越好。

季豐電子的透射電鏡是目前主流的Thermo Scientific FEI Talos系列。用于高通量、高分辨率表征和動態(tài)觀察的TEM和STEM分析，線分辨率≤0.1 nm，STEM分辨率≤0.16nm。搭配高端Helios 5系列FIB系統(tǒng)可以制備、觀察厚度在20nm以下的超薄樣品。4k × 4k Ceta 16M 相機可在 64 位平臺上提供大視場、高靈敏度快速成像。

此外TEM配備了對稱布置的雙100 mm2 Racetrack 能譜檢測器（ “Dual-X”），以最大限度提高分析通量，可對材料表面微區(qū)成分以及膜層結(jié)構(gòu)進(jìn)行面、線、點分布的定性和定量分析。

季豐電子實驗室有經(jīng)驗豐富的電鏡工程師，熟悉各種半導(dǎo)體樣品，薄膜樣品，金屬樣品等，為提供準(zhǔn)確的、高質(zhì)量的分析結(jié)果提供有力保障。

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什么是透射電子顯微鏡（TEM）？

，穿過極薄的樣品。當(dāng)電子束與樣品中的原子相互作用時，會發(fā)生散射、衍射等現(xiàn)象，透射束的強度也會隨之改變。通過收集這些信號，TEM能夠生成高分辨率的圖像，揭示樣品的形貌、

2025-04-25 17:39:27

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聚焦離子束（FIB）技術(shù)的應(yīng)用原理

聚焦離子束（FIB）技術(shù)是一種極為精細(xì)的樣品制備與加工手段，它能夠?qū)饘佟⒑辖?、陶瓷等多種材料進(jìn)行加工，制備出尺寸極小的薄片。這些薄片的寬度通常在10~20微米，高度在10~15微米，厚度僅為100

2025-04-23 14:31:25

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透射電子顯微鏡：微觀世界的高分辨率探針

透射電鏡的成像原理透射電子顯微鏡（TEM）是一種利用波長極短的電子束作為照明源的高分辨率電子光學(xué)儀器。其成像原理基于電子束與樣品的相互作用。電子槍發(fā)射出的電子束經(jīng)過加速和聚焦后照射到樣品上，電子束

2025-04-22 15:47:17

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UPS不間斷電源能用多久？受哪些因素影響？

UPS不間斷電源的使用時長主要取決于其電池容量、負(fù)載大小以及電池的健康狀況和管理方式。

2025-04-19 13:51:59

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聚焦離子束雙束系統(tǒng) FIB - SEM 的技術(shù)剖析與應(yīng)用拓展

技術(shù)原理與核心優(yōu)勢聚焦離子束雙束系統(tǒng)（FIB-SEM）是一種集成多種先進(jìn)技術(shù)的高端設(shè)備，其核心構(gòu)成包括聚焦離子束（FIB）模塊、掃描電子顯微鏡（SEM）模塊以及多軸樣品臺，這種獨特的結(jié)構(gòu)設(shè)計使得它能

2025-04-10 11:53:44

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聚焦離子束技術(shù)之納米尺度

聚焦離子束（FocusedIonBeam，簡稱FIB）技術(shù)，宛如一把納米尺度的“萬能鑰匙”，在材料加工、分析及成像領(lǐng)域大放異彩。它憑借高度集中的離子束，精準(zhǔn)操控離子束與樣品表面的相互作用，實現(xiàn)納米級

2025-04-08 17:56:15

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聚焦離子束顯微鏡（FIB-SEM）的應(yīng)用領(lǐng)域

聚焦離子束顯微鏡（FIB-SEM）作為一種前沿的微觀分析與加工工具，將聚焦離子束（FIB）和掃描電子顯微鏡（SEM）技術(shù)深度融合，兼具高分辨率成像和精密微加工能力，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、電子

2025-04-01 18:00:03

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APEX經(jīng)濟(jì)型減速器——助力TETA電子束焊機高性價比焊接

電子束焊機作為焊接技術(shù)巔峰代表，其精度直接決定尖端工業(yè)命脈。俄羅斯TETA作為電子束焊接領(lǐng)域的知名品牌，在核心擺頭平移/提升結(jié)構(gòu)中搭載了APEX?的PAII及PAIIR系列減速器，以“性能零妥協(xié)

2025-04-01 13:29:52

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FIB-SEM雙束系統(tǒng)：多領(lǐng)域應(yīng)用的前沿技術(shù)

系統(tǒng)構(gòu)成與工作原理FIB-SEM雙束系統(tǒng)是一種集微區(qū)成像、加工、分析、操縱于一體的綜合型分析與表征設(shè)備。其基本構(gòu)成是將單束聚焦離子束系統(tǒng)與掃描電子顯微鏡（SEM）耦合而成。在常見的雙束設(shè)備中，電子束

2025-03-28 12:14:50

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聚焦離子束技術(shù)在納米加工中的應(yīng)用與特性

關(guān)鍵環(huán)節(jié)中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用，為電子器件的微型化、高性能化提供了有力的技術(shù)支撐。FIB-SEM雙束系統(tǒng)的協(xié)同工作原理當(dāng)樣品表面垂直于離子束時，離子束可以高效地進(jìn)行切割

2025-03-26 15:18:56

712

透射電子顯微鏡(TEM)的優(yōu)勢及應(yīng)用

工具。透射電鏡的工作原理與技術(shù)優(yōu)勢透射電子顯微鏡的工作原理基于高能電子束的穿透與電磁透鏡的成像。它利用高能電子束穿透極薄的樣品，通過電磁透鏡系統(tǒng)對透射電子進(jìn)行聚焦

2025-03-25 17:10:50

1834

氬離子拋光技術(shù)：材料科學(xué)中的關(guān)鍵樣品制備方法

氬離子拋光技術(shù)的核心氬離子拋光技術(shù)的核心在于利用高能氬離子束對樣品表面進(jìn)行精確的物理蝕刻。在拋光過程中，氬離子束與樣品表面的原子發(fā)生彈性碰撞，使表面原子或分子被濺射出來。這種濺射作用能夠在不引

2025-03-19 11:47:26

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電子科技助力線束點焊工藝革新

隨著科技的不斷進(jìn)步，電子科技在各個工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用越來越廣泛，線束點焊工藝作為汽車制造、電子產(chǎn)品裝配等行業(yè)的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，其技術(shù)革新對于提升生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量具有重要意義。近年來，通過引入先進(jìn)的電子

2025-03-18 14:36:34

762

（原創(chuàng)）昇騰310B（8T/20T）算力主板定制方案

昇騰310B（20T）算力主板規(guī)格書 1.功能、性能與接口a)昇騰310B 20T算力處理器， 4個64位TAISHAN V200M處理器核，最高主頻1.8GHz，計算加速器如下：1)集成 1 個

2025-03-16 21:43:11

聚焦離子束掃描電子顯微鏡（FIB-SEM）的用途

顯微鏡（SEM）兩種互補技術(shù)，實現(xiàn)了材料的高精度成像與加工。FIB技術(shù)利用電透鏡將液態(tài)金屬離子源產(chǎn)生的離子束加速并聚焦，作用于樣品表面，可實現(xiàn)納米級的銑削、沉積、注入和成

2025-03-12 13:47:40

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氬離子拋光：大面積電鏡樣品制樣的最佳選擇

分析提供高質(zhì)量的樣品表面。氬離子切割技術(shù)氬離子切割技術(shù)主要用于制備寬闊且精確的電子顯微分析區(qū)域。通過一個堅固的擋板遮擋樣品的非目標(biāo)區(qū)域，有效遮蔽離子束的下半部分，從

2025-03-06 17:21:19

762

什么是透射電鏡？

是通過電子槍發(fā)射電子束，經(jīng)加速和聚焦后照射在樣品上。電子束與樣品相互作用后，強度和方向均發(fā)生改變，由于樣品各部位材料結(jié)構(gòu)不同，投放到熒光屏上的各點強度也會不同，從

2025-03-06 17:18:44

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掃描電子顯微鏡（SEM）類型和原理

掃描電子顯微鏡（SEM）原理電子槍產(chǎn)生的電子束經(jīng)聚光鏡和物鏡聚焦后，形成極細(xì)的電子束在樣品表面進(jìn)行逐點掃描。電子束與樣品表面相互作用，激發(fā)出二次電子、背散射電子等信號。其中二次電子對樣品表面的形貌

2025-03-05 14:03:07

聚焦離子束技術(shù)在現(xiàn)代科技的應(yīng)用

離子束技術(shù)的核心在于利用高能離子束對樣品進(jìn)行加工和分析。其基本原理是將鎵（Ga）等元素在強電場的作用下加速，形成高能離子束。通過精確控制電場和磁場，離子束能夠聚焦到

2025-03-03 15:51:58

736

氬離子束研磨拋光助力EBSD樣品的高效制備

EBSD樣品制備EBSD樣品的制備過程對實驗結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性有著極為重要的影響。目前，常用的EBSD樣品制備方法包括機械拋光、電解拋光和聚焦離子束（FIB）等，但這些方法各有其局限性。1.

2025-03-03 15:48:01

692

雙束聚焦離子束-掃描電鏡（FIB）：TEM樣品制備

雙束聚焦離子束-掃描電鏡（DualBeamFocusedIonBeam,FIB）作為一種先進(jìn)的微觀加工與分析技術(shù)，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、納米技術(shù)、半導(dǎo)體研究等領(lǐng)域。其不僅可以制作常見的截面透射電子

2025-02-28 16:11:34

1156

氬離子拋光如何應(yīng)用于材料微觀結(jié)構(gòu)分析

微觀結(jié)構(gòu)的分析氬離子束拋光技術(shù)作為一種先進(jìn)的材料表面處理方法，憑借其精確的工藝參數(shù)控制，能夠有效去除樣品表面的損傷層，為高質(zhì)量的成像和分析提供理想的樣品表面。這一技術(shù)廣泛應(yīng)用于掃描電子顯微鏡（SEM

2025-02-26 15:22:11

618

氬離子技術(shù)之電子顯微鏡樣品制備技術(shù)

在材料科學(xué)的微觀研究領(lǐng)域，電子顯微鏡扮演著至關(guān)重要的角色。它能夠深入揭示材料樣品內(nèi)部的精細(xì)結(jié)構(gòu)，為科研人員分析組織形貌和結(jié)構(gòu)特征提供了強大的技術(shù)支持。掃描電鏡（SEM）樣品制備掃描電鏡（SEM）以其

2025-02-25 17:26:05

789

SEM是掃描電鏡嗎？

的各種信號來獲取樣品表面微觀結(jié)構(gòu)信息的電子顯微鏡。電子槍發(fā)射出的電子束，經(jīng)過電磁透鏡聚焦和加速后，形成一束高能量的細(xì)電子束，掃描線圈控制電子束在樣品表面進(jìn)行逐行掃

2025-02-24 09:46:26

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掃描電鏡SEM是什么？

-電子光學(xué)系統(tǒng)：由電子槍、電磁透鏡等組成，用于產(chǎn)生并會聚電子束，使電子束具有足夠的能量和強度，以轟擊樣品表面。電子槍發(fā)射出高能電子束，電磁透鏡則對電子束進(jìn)行聚焦和調(diào)節(jié)，

2025-02-20 11:38:40

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詳細(xì)聚焦離子束（FIB）技術(shù)

離子束與樣品表面的相互作用，實現(xiàn)納米級的精細(xì)操作，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、微電子、納米制造等多個前沿領(lǐng)域。FIB系統(tǒng)的基本構(gòu)成1.離子源液態(tài)金屬離子源是FIB系統(tǒng)的核心

2025-02-18 14:17:45

2721

霍爾元件的磁場測量范圍

霍爾元件的磁場測量范圍主要取決于其類型、結(jié)構(gòu)和工作環(huán)境。

2025-02-15 15:52:49

1794

INA滾柱滑塊的精度如何選擇

INA滾柱導(dǎo)軌滑塊的精度選擇主要取決于具體應(yīng)用需求和使用環(huán)境

2025-02-15 13:27:02

976

聚焦離子束顯微鏡（FIB）：原理揭秘與應(yīng)用實例

工作原理聚焦離子束顯微鏡的原理是通過將離子束聚焦到納米尺度，并探測離子與樣品之間的相互作用來實現(xiàn)成像。離子束可以是氬離子、鎵離子等，在加速電壓的作用下，形成高能離子束。通過使用電場透鏡系統(tǒng)，離子束

2025-02-14 12:49:24

1874

材料的哪些性質(zhì)會影響掃描電鏡下的成像效果？

材料的物理和化學(xué)等諸多性質(zhì)都會影響掃描電鏡下的成像效果，以下是具體介紹：1、物理性質(zhì)（1）導(dǎo)電性：-對于導(dǎo)電性良好的材料，如金屬，電子束轟擊材料表面產(chǎn)生的電荷能夠迅速傳導(dǎo)散逸，使電子束穩(wěn)定地與材料

2025-02-12 14:45:09

976

聚焦離子束技術(shù)：納米的精準(zhǔn)操控與廣闊應(yīng)用

納米的精準(zhǔn)尺度聚焦離子束技術(shù)的核心機制在于利用高能離子源產(chǎn)生離子束，并借助電磁透鏡系統(tǒng)，將離子束精準(zhǔn)聚焦至微米級乃至納米級的極小區(qū)域。當(dāng)離子束與樣品表面相互作用時，其能量傳遞與物質(zhì)相互作用的特性被

2025-02-11 22:27:50

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制備用于掃描電子顯微鏡(SEM)分析的氬離子拋光和化學(xué)拋光(CP)截面樣品

氬離子束拋光技術(shù)（ArgonIonBeamPolishing,AIBP），一種先進(jìn)的材料表面處理工藝，它通過精確控制的氬離子束對樣品表面進(jìn)行加工，以實現(xiàn)平滑無損傷的拋光效果。技術(shù)概述氬離子束拋光技術(shù)

2025-02-10 11:45:38

924

電鏡樣品制備：氬離子拋光優(yōu)勢

氬離子拋光技術(shù)的原理氬離子拋光技術(shù)基于物理濺射機制。其核心過程是將氬氣電離為氬離子束，并通過電場加速這些離子，使其以特定能量和角度撞擊樣品表面。氬離子的沖擊能夠有效去除樣品表面的損傷層和雜質(zhì)，從而

2025-02-07 14:03:34

867

聚焦離子束雙束系統(tǒng)在微機電系統(tǒng)失效分析中的應(yīng)用

聚焦離子束（FIB）技術(shù)概述聚焦離子束（FIB）技術(shù)是一種通過離子源產(chǎn)生的離子束，經(jīng)過過濾和靜電磁場聚焦，形成直徑為納米級的高能離子束。這種技術(shù)用于對樣品表面進(jìn)行精密加工，包括切割、拋光和刻蝕

2025-01-24 16:17:29

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透射電鏡（TEM）要點速覽

波長極短的電子束作為電子光源，借助電子槍發(fā)出的高速、聚集的電子束照射至極為纖薄的樣品。這些電子束在穿透樣品后，攜帶樣品內(nèi)部的結(jié)構(gòu)信息，經(jīng)由電磁透鏡多級放大后成像，從

2025-01-21 17:02:43

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掃描電鏡基本原理及應(yīng)用技巧

電子顯微鏡的工作原理是利用高能電子束掃描樣品表面，通過分析電子束與樣品相互作用產(chǎn)生的信號來獲取樣品的表面形貌和成分信息。1.信號的產(chǎn)生當(dāng)電子束與樣品相互作用時，會產(chǎn)生以

2025-01-15 15:37:35

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一文帶你了解聚焦離子束（FIB）

聚焦離子束（FIB）技術(shù)是一種高精度的納米加工和分析工具，廣泛應(yīng)用于微電子、材料科學(xué)和生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。FIB通過將高能離子束聚焦到樣品表面，實現(xiàn)對材料的精確加工和分析。目前，使用Ga（鎵）離子

2025-01-14 12:04:31

1486

超快電子衍射(UED)實驗技術(shù)解讀

? 由強脈沖激光輻射引發(fā)的物質(zhì)結(jié)構(gòu)動力學(xué)，呈現(xiàn)為原子分子運動的影像，對該現(xiàn)象的探究于現(xiàn)代科學(xué)意義非凡。因此需要高時空分辨率，這意味著有必要開發(fā)特殊的研究手段。只有借助相當(dāng)短的電子束或X射線閃光

2025-01-14 09:30:35

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關(guān)于白光干涉儀的常見提問及回答

生干涉。由于兩束光相互干涉，在CCD相機感光面會觀察到明暗相間的干涉條紋，干涉條紋的亮度取決于兩束光的光程差，根據(jù)白光干涉條紋明暗度以及干涉條紋出現(xiàn)的位置解析出被測

2025-01-09 16:02:32

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多用示波器的原理和應(yīng)用場景

。此外，示波器還需要進(jìn)行觸發(fā)，以便穩(wěn)定地顯示信號波形，觸發(fā)可以通過外部信號或內(nèi)部信號進(jìn)行。示波器的核心部件是示波管，它主要由電子槍、偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)和熒光屏三部分組成。電子槍發(fā)射電子并形成高速電子束，偏轉(zhuǎn)

2025-01-09 15:42:01

透射電子顯微鏡（TEM）快速入門：原理與操作指南

作為光源。由于電子束的波長遠(yuǎn)小于可見光和紫外光，并且波長與電子束的加速電壓成反比，TEM的分辨率可以達(dá)到0.2納米，極大地擴(kuò)展了人類對微觀世界的觀察范圍。TEM組

2025-01-09 11:05:34

3157

通過樣品臺的移動，實現(xiàn)白光干涉中的機械相移原理

在白光干涉測量技術(shù)中，通過樣品臺的移動來實現(xiàn)機械相移原理是一種常用的且高精度的方法。這種方法基于光的波動性和相干性，通過改變樣品臺的位置，即改變待測光線與參考光線之間的光程差，來實現(xiàn)相位調(diào)制，從而

2025-01-08 10:37:39

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泊蘇 Type C 系列防震基座在半導(dǎo)體光刻加工電子束光刻設(shè)備的應(yīng)用案例-江蘇泊蘇系統(tǒng)集成有限公司

某大型半導(dǎo)體制造企業(yè)專注于高端芯片的研發(fā)與生產(chǎn)，其電子束光刻設(shè)備在芯片制造的光刻工藝中起著關(guān)鍵作用。然而，企業(yè)所在園區(qū)周邊存在眾多工廠，日常生產(chǎn)活動產(chǎn)生復(fù)雜的振動源，包括重型機械運轉(zhuǎn)、車輛行駛以及建筑物內(nèi)部的機電設(shè)備運行等，這些振動嚴(yán)重影響了電子束光刻設(shè)備的精度與穩(wěn)定性。

2025-01-07 15:13:21

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