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電子發(fā)燒友網(wǎng)>今日頭條>功率 GaN 技術(shù)和銅夾封裝

功率 GaN 技術(shù)和銅夾封裝

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價(jià)瘋漲下的連接器革命:鋁代如何破局?

2025年開(kāi)年以來(lái),全球價(jià)不斷上漲,LME價(jià)逼近1萬(wàn)美元/噸大關(guān),中國(guó)現(xiàn)貨市場(chǎng)價(jià)更突破了8萬(wàn)元/噸關(guān)口。 ?隨著新能源革命與全球供應(yīng)鏈重構(gòu)的深度沖擊,連接器行業(yè)面臨著成本與連接器技術(shù)的雙重
2025-07-17 13:50:431332

Texas Instruments LMG2100R026 GaN半橋功率級(jí)數(shù)據(jù)手冊(cè)

Texas Instruments LMG2100R026 GaN半橋功率級(jí)集成了柵極驅(qū)動(dòng)器和增強(qiáng)型氮化鎵(GaN)場(chǎng)效應(yīng)晶體管。93V連續(xù)、100V脈沖、53A半橋功率級(jí)包含兩個(gè)GaN FET,由
2025-07-11 14:40:22679

功率高效率E-GaN開(kāi)關(guān)電源管理方案:U8723AH+U7116W

功率高效率E-GaN開(kāi)關(guān)電源管理方案:U8723AH+U7116W小功率開(kāi)關(guān)電源的效率是一個(gè)重要的設(shè)計(jì)指標(biāo),它決定了電源的功耗和發(fā)熱量。為了提高效率,可以選擇低損耗的開(kāi)關(guān)管和電感,減小輸出端紋波
2025-07-10 16:15:36571

GAN功率器件在機(jī)器人上的應(yīng)用實(shí)踐

,氮化鎵 (GaN) 可提高功率密度和效率,GaN 和 SiC 均具有寬帶隙,但它們之間存在根本差異,因此分別適合特定的拓?fù)浜蛻?yīng)用。
2025-07-09 11:13:063371

Texas Instruments LMG3614 650V 170m? GaN功率FET數(shù)據(jù)手冊(cè)

Texas Instruments LMG3614 650V 170m? GaN功率FET設(shè)計(jì)用于開(kāi)關(guān)模式電源應(yīng)用。LMG3614在8mm x 5.3mm QFN封裝中集成了GaN FET和柵極驅(qū)動(dòng)器,從而減少了元器件數(shù)量并簡(jiǎn)化了設(shè)計(jì)??删幊痰膶?dǎo)通轉(zhuǎn)換率提供EMI和振鈴控制。
2025-07-04 15:50:44658

從微米到納米,-混合鍵合重塑3D封裝技術(shù)格局

電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 半導(dǎo)體封裝技術(shù)正經(jīng)歷從傳統(tǒng)平面架構(gòu)向三維立體集成的革命性躍遷,其中 - 混合鍵合技術(shù)以其在互連密度、能效優(yōu)化與異構(gòu)集成方面的突破,成為推動(dòng) 3D 封裝發(fā)展的核心
2025-06-29 22:05:131519

E-GaN電源芯片U8733L集成外置溫度檢測(cè)和恒功率功能

E-GaN電源芯片U8733L集成外置溫度檢測(cè)和恒功率功能Yinlianbao開(kāi)關(guān)電源NTC傳感器能夠感知微小的溫度變化,一旦溫度超過(guò)預(yù)設(shè)的安全閾值,便會(huì)觸發(fā)保護(hù)機(jī)制,如降低電流或切斷電源,以防
2025-06-19 16:31:37692

SGK5872-20A 是一款高功率 GaN-HEMT,其內(nèi)部匹配標(biāo)準(zhǔn)通信頻段,可提供最佳功率和線性度。

SGK5872-20A 類別:GaN 產(chǎn)品 > 用于無(wú)線電鏈路和衛(wèi)星通信的 GaN HEMT 外形/封裝代碼:I2C 功能:C 波段內(nèi)部匹配 GaN-HEMT 高輸出功率:P5dB
2025-06-16 16:18:36

增強(qiáng)AlN/GaN HEMT

尺寸小得多、工作頻率高得多的AlN/GaN HEMT。 該團(tuán)隊(duì)的突破涉及原位鈍化和使用選擇性刻蝕工藝添加再生長(zhǎng)重?fù)诫sn型接觸。 AlN/GaN HEMT是一類極具前景的晶體管,可用于射頻和功率器件
2025-06-12 15:44:37800

如何在開(kāi)關(guān)模式電源中運(yùn)用氮化鎵技術(shù)

功率密度等特點(diǎn),因此日益受到歡迎。 如今,市面上有眾多基于GaN技術(shù)的開(kāi)關(guān)可供選擇。然而,與傳統(tǒng)的MOSFET相比,由于需要采用不同的驅(qū)動(dòng)方式,這些開(kāi)關(guān)的應(yīng)用在一定程度上受到了限制。 圖1.SMPS中
2025-06-11 10:07:24

AM206541TM-SN-R-TF功率放大器AMCOM原裝現(xiàn)貨

鉛”(Lead-Free),AM206541TM-SN-R-TF采用先進(jìn)的GaN HEMT技術(shù),具備寬頻帶響應(yīng)(覆蓋S至C波段)、高功率增益(典型值>60dB)和卓越的線性度
2025-06-06 09:06:46

浮思特 | 在工程襯底上的GaN功率器件實(shí)現(xiàn)更高的電壓路徑

電壓(BV)GaNHEMT器件的研究成果。Qromis襯底技術(shù)(QST?)硅基氮化鎵(GaN-on-Si)是目前商用功率HEMT器件的首選技術(shù),其主流最高工作電壓范
2025-05-28 11:38:15669

Analog Devices Inc. ADPA1116 GaN功率放大器數(shù)據(jù)手冊(cè)

Analog Devices ADPA1116 GaN功率放大器具有39.5dBm飽和輸出功率(P ~OUT~ ),功率附加效率(PAE)為40%,輸入功率(P ~IN~ )為16.0dBm時(shí),功率
2025-05-27 09:56:01664

京東方華燦消費(fèi)類GaN功率器件通過(guò)1000H可靠性認(rèn)證

GaN功率器件場(chǎng)景化爆發(fā)的關(guān)鍵窗口期,京東方華燦以消費(fèi)類GaN功率器件通過(guò)1000H可靠性為起點(diǎn),正式開(kāi)啟“消費(fèi)級(jí)普及、工業(yè)級(jí)深化、車規(guī)級(jí)突破”的三級(jí)躍遷戰(zhàn)略。作為全球化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域的技術(shù)先驅(qū),我們以標(biāo)準(zhǔn)化能力為根基,以IDM全鏈創(chuàng)新為引擎,為全球客戶提供覆蓋全場(chǎng)景的“中國(guó)芯”解決方案。
2025-05-23 14:10:17737

激光焊接技術(shù)在焊接端子工藝中的應(yīng)用

,激光焊接技術(shù)因其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)逐漸成為端子焊接的理想選擇。下面一起來(lái)看看激光焊接技術(shù)在焊接端子工藝中的應(yīng)用。 激光焊接技術(shù)在焊接端子工藝中的應(yīng)用案例: 1.電子行業(yè)薄銅片端子焊接, 在電子行業(yè),薄銅片端子的焊
2025-05-21 16:43:32669

交流充電樁負(fù)載能效提升技術(shù)

功率器件與拓?fù)鋬?yōu)化 寬禁帶半導(dǎo)體器件應(yīng)用 傳統(tǒng)硅基IGBT/MOSFET因開(kāi)關(guān)損耗高,限制了系統(tǒng)效率。采用碳化硅(SiC)或氮化鎵(GaN)器件可顯著降低損耗: SiC MOSFET導(dǎo)通電阻低(僅為硅
2025-05-21 14:38:45

基于德州儀器TOLL封裝GaN器件優(yōu)化電源設(shè)計(jì)

當(dāng)今的電源設(shè)計(jì)要求高效率和高功率密度。因此,設(shè)計(jì)人員將氮化鎵 (GaN) 器件用于各種電源轉(zhuǎn)換拓?fù)洹?/div>
2025-05-19 09:29:571021

GaN與SiC功率器件深度解析

本文針對(duì)當(dāng)前及下一代電力電子領(lǐng)域中市售的碳化硅(SiC)與氮化鎵(GaN)晶體管進(jìn)行了全面綜述與展望。首先討論了GaN與SiC器件的材料特性及結(jié)構(gòu)差異?;趯?duì)市售GaN與SiC功率晶體管的分析,描述了這些技術(shù)的現(xiàn)狀,重點(diǎn)闡述了各技術(shù)平臺(tái)的首選功率變換拓?fù)浼瓣P(guān)鍵特性。
2025-05-15 15:28:571759

TGA2307 5.0-6.0GHz、50瓦、GaN功率放大器技術(shù)手冊(cè)

Qorvo的TGA2307是基于Qorvo生產(chǎn)的0.25um GaN on SiC工藝制造的MMIC功率放大器。TGA2307工作在5-6GHz,產(chǎn)生大于47dBm的飽和輸出功率,功率附加效率大于40%,大信號(hào)增益大于20dB。
2025-05-13 14:56:54868

ICP1543 12-18 GHz、20W GaN功率放大器技術(shù)手冊(cè)

ICONICRF公司的ICP1543是一款采用裸芯片形式的三級(jí)單片微波集成電路(MMIC)功率放大器,采用碳化硅基氮化鎵(GaN on SiC)技術(shù)制造。ICP1543的工作頻率范圍為12
2025-04-22 18:04:58996

功率GaN的新趨勢(shì):GaN BDS

電子發(fā)燒友綜合報(bào)道 最近多家GaN廠商推出雙向GaN功率開(kāi)關(guān),即GaN BDS(Bidirectional Switch,雙向開(kāi)關(guān))。這是一種較為新型的GaN功率器件產(chǎn)品,顧名思義,雙向GaN主要
2025-04-20 09:15:001348

先進(jìn)碳化硅功率半導(dǎo)體封裝技術(shù)突破與行業(yè)變革

本文聚焦于先進(jìn)碳化硅(SiC)功率半導(dǎo)體封裝技術(shù),闡述其基本概念、關(guān)鍵技術(shù)、面臨挑戰(zhàn)及未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)。碳化硅功率半導(dǎo)體憑借低內(nèi)阻、高耐壓、高頻率和高結(jié)溫等優(yōu)異特性,在移動(dòng)應(yīng)用功率密度提升的背景下
2025-04-08 11:40:331493

為什么選擇DPC覆陶瓷基板?

為什么選擇DPC覆陶瓷基板? 選擇DPC覆陶瓷基板的原因主要基于其多方面的優(yōu)勢(shì),這些優(yōu)勢(shì)使得DPC技術(shù)在眾多電子封裝領(lǐng)域中脫穎而出……
2025-04-02 16:52:41882

DPC、AMB、DBC覆陶瓷基板技術(shù)對(duì)比與應(yīng)用選擇

在電子電路領(lǐng)域,覆陶瓷基板因其優(yōu)異的電氣性能和機(jī)械性能而得到廣泛應(yīng)用。其中,DPC(直接鍍銅)、AMB(活性金屬釬焊)和DBC(直接覆)是三種主流的覆陶瓷基板技術(shù)。本文將詳細(xì)對(duì)比這三種技術(shù)的特點(diǎn)、優(yōu)勢(shì)及應(yīng)用場(chǎng)景,幫助企業(yè)更好地選擇適合自身需求的覆陶瓷基板……
2025-03-28 15:30:074851

HMC1086F10 25W GaN MMIC功率放大器技術(shù)手冊(cè)

HMC1086F10是一款25W氮化鎵(GaN) MMIC功率放大器,工作頻率范圍為2至6 GHz,采用10引腳法蘭貼裝封裝。 該放大器通常提供23 dB小信號(hào)增益,+44.5 dBm飽和輸出功率
2025-03-19 15:05:38837

突破雷達(dá)性能極限:GaN 功率放大器解決方案助力遠(yuǎn)程探測(cè)

您是否在為遠(yuǎn)程雷達(dá)系統(tǒng)的信號(hào)衰減、熱管理和功率穩(wěn)定性難題而困擾?Analog Devices 最新推出的 S 波段 GaN 功率放大器技術(shù)白皮書 ,為您提供系統(tǒng)性解決方案,助您實(shí)現(xiàn)更遠(yuǎn)探測(cè)距離與更高
2025-03-18 15:36:531179

GaN驅(qū)動(dòng)技術(shù)手冊(cè)免費(fèi)下載 氮化鎵半導(dǎo)體功率器件門極驅(qū)動(dòng)電路設(shè)計(jì)方案

GaN驅(qū)動(dòng)技術(shù)手冊(cè)免費(fèi)下載 氮化鎵半導(dǎo)體功率器件門極驅(qū)動(dòng)電路設(shè)計(jì)方案
2025-03-13 18:06:0046951

氮化鎵(GaN功率IC在電機(jī)逆變器中的應(yīng)用: 優(yōu)勢(shì)、實(shí)際應(yīng)用案例、設(shè)計(jì)考量

介紹了氮化鎵(GaN功率IC在電機(jī)逆變器中的應(yīng)用,對(duì)比傳統(tǒng)硅基解決方案,闡述了其優(yōu)勢(shì)、實(shí)際應(yīng)用案例、設(shè)計(jì)考量及結(jié)論。 *附件
2025-03-12 18:47:172084

HMC1099 10W GaN功率放大器,0.01-1.1GHz技術(shù)手冊(cè)

HMC1099是一款氮化鎵(GaN)寬帶功率放大器,在瞬時(shí)帶寬范圍為0.01 GHz至1.1 GHz時(shí)提供>10 W功率、69% PAE,增益平坦度為±0.5 dB(典型值)。 HMC1099非常適合脈沖或連續(xù)波(CW)應(yīng)用,如無(wú)線基礎(chǔ)設(shè)施、雷達(dá)、公共移動(dòng)無(wú)線電和通用放大。
2025-03-12 15:10:341023

HMC8415 40W(46 dBm),9GHz至10.5GHz,GaN功率放大器技術(shù)手冊(cè)

HMC8415LP6GE 是一款氮化鎵 (GaN功率放大器,可在 9 GHz 至 10.5 GHz 的帶寬范圍內(nèi)提供 40 W (46 dBm) 的功率,功率附加效率 (PAE) 超過(guò) 37.5%。
2025-03-11 10:26:271078

HMC1114PM5E 2.7GHz3.8GHz,GaN功率放大器技術(shù)手冊(cè)

HMC1114PM5E 是一款氮化鎵 (GaN) 寬帶功率放大器,可在 18 dBm 的輸入功率 (P ~IN) 下,在 2.7 GHz 至 3.8 GHz 瞬時(shí)帶寬范圍上實(shí)現(xiàn)大于 10 W (高達(dá)
2025-03-11 10:09:18891

碳化硅SiC芯片封裝:銀燒結(jié)與燒結(jié)設(shè)備的技術(shù)探秘

隨著碳化硅(SiC)功率器件在電力電子領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用,其高效、耐高壓、高溫等特性得到了業(yè)界的廣泛認(rèn)可。然而,要充分發(fā)揮SiC芯片的性能優(yōu)勢(shì),封裝技術(shù)起著至關(guān)重要的作用。在SiC芯片封裝過(guò)程中,銀燒結(jié)
2025-03-05 10:53:392553

氮化鎵(GaN)充電頭安規(guī)問(wèn)題及解決方案

器件的性能,使充電頭在體積、效率、功率密度等方面實(shí)現(xiàn)突破,成為快充技術(shù)的核心載體。氮化鎵充電頭的核心優(yōu)勢(shì):1.體積更小,功率密度更高材料特性:GaN的電子遷移率比硅
2025-02-27 07:20:334534

產(chǎn)品介紹#LMG5200 80V GaN 半橋功率級(jí)

的高頻 GaN FET 驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)。 GaN FET 具有接近零的反向恢復(fù)和非常小的輸入電容 C ,因此為功率轉(zhuǎn)換提供了顯著的優(yōu)勢(shì) ~國(guó)際空間站~ .所有器件都安裝在完全無(wú)鍵合絲的封裝平臺(tái)上,最大
2025-02-26 14:11:121055

應(yīng)用資料#QFN12x12封裝600V GaN功率級(jí)熱性能總結(jié)

德州儀器(TI)提供的一種新的驅(qū)動(dòng)器集成氮化鎵(GaN功率級(jí)產(chǎn)品系列已在一個(gè)低成本、緊湊的四扁平無(wú)引腳(QFN)封裝中實(shí)現(xiàn),該封裝尺寸為12mm x 12mm。這種擴(kuò)大的QFN封裝可以從GaN
2025-02-25 10:36:391037

使用集成GaN技術(shù)實(shí)現(xiàn)小尺寸ACDC適配器應(yīng)用資料

隨著快速充電系統(tǒng)的趨勢(shì)和不斷增長(zhǎng)的電力需求,迫切需要?jiǎng)?chuàng)建占地面積小、方便、便攜的設(shè)計(jì)。小型化、高功率密度的電源設(shè)計(jì)在消費(fèi)類AC/DC市場(chǎng)中占據(jù)了迫在眉睫的份額,重點(diǎn)是高效可靠的能量轉(zhuǎn)換。本應(yīng)用說(shuō)明討論了如何考慮兩個(gè)關(guān)鍵點(diǎn)(管理熱量和使用集成GaN技術(shù)提高開(kāi)關(guān)頻率),以創(chuàng)建可靠、功率密集的設(shè)計(jì)。
2025-02-25 10:06:31726

納米燒結(jié)為何完勝納米銀燒結(jié)?

在半導(dǎo)體功率模塊封裝領(lǐng)域,互連技術(shù)一直是影響模塊性能、可靠性和成本的關(guān)鍵因素。近年來(lái),隨著納米技術(shù)的快速發(fā)展,納米銀燒結(jié)和納米燒結(jié)技術(shù)作為兩種新興的互連技術(shù),備受業(yè)界關(guān)注。然而,在眾多應(yīng)用場(chǎng)景中
2025-02-24 11:17:061760

技術(shù)文檔:LMG3616 具有集成驅(qū)動(dòng)器和保護(hù)功能的 650V 270mΩ GaN FET

LMG3616 是一款 650V 270mΩ GaN 功率 FET,適用于開(kāi)關(guān)模式電源應(yīng)用。該 LMG3616 通過(guò)將 GaN FET 和柵極驅(qū)動(dòng)器集成到 8mm x 5.3mm QFN 封裝中,簡(jiǎn)化了設(shè)計(jì)并減少了元件數(shù)量。
2025-02-24 10:43:28987

技術(shù)資料#LMG3612 具有集成驅(qū)動(dòng)器和保護(hù)功能的 650V 120mΩ GaN FET

LMG3612 是一款 650V 120mΩ GaN 功率 FET,適用于開(kāi)關(guān)模式電源應(yīng)用。該 LMG3612 通過(guò)將 GaN FET 和柵極驅(qū)動(dòng)器集成到 8mm x 5.3mm QFN 封裝中,簡(jiǎn)化了設(shè)計(jì)并減少了元件數(shù)量。
2025-02-24 10:21:011090

技術(shù)文檔#LMG3624 650V 170mΩ GaN FET,集成驅(qū)動(dòng)器、保護(hù)和電流感應(yīng)

LMG3624 是一款 650V 170mΩ GaN 功率 FET,適用于開(kāi)關(guān)模式電源應(yīng)用。該LMG3624通過(guò)將 GaN FET 和柵極驅(qū)動(dòng)器集成到 8mm x 5.3mm QFN 封裝中,簡(jiǎn)化了設(shè)計(jì)并減少了元件數(shù)量。
2025-02-24 09:18:47923

技術(shù)資料#LMG2100R026 100V 2.6mΩ 半橋氮化鎵 (GaN功率級(jí)

LMG2100R026 器件是一款 93V 連續(xù)、100V 脈沖、53A 半橋功率級(jí),集成了柵極驅(qū)動(dòng)器和增強(qiáng)型氮化鎵 (GaN) FET。該器件由兩個(gè) GaN FET 組成,由一個(gè)采用半橋配置的高頻
2025-02-21 17:17:561047

激光焊接技術(shù)在焊接鎳合金的工藝應(yīng)用

。激光焊接機(jī)以其高能量密度、高精度和適應(yīng)性強(qiáng)等特點(diǎn),成為鎳合金焊接的理想選擇。下面就是激光焊接技術(shù)在焊接鎳合金的工藝應(yīng)用。 激光焊接技術(shù)利用高能激光束對(duì)鎳合金進(jìn)行熔化連接,具有能量密度高、焊接速度快、熱影
2025-02-21 16:30:39969

CERNEX窄帶高功率放大器(GaN

CERNEX窄帶高功率放大器(GaN) CERNEX推出的CNP GaN系列窄帶高功率放大器專為多種通用應(yīng)用場(chǎng)景而設(shè)計(jì),涵蓋實(shí)驗(yàn)室測(cè)試設(shè)備、儀器儀表及高功率輸出需求的其他領(lǐng)域。CNP GaN系列窄帶
2025-02-21 10:39:06

TI LMG3624 具有集成式驅(qū)動(dòng)器和電流檢測(cè)仿真功能的 650V 170m? GaN FET技術(shù)文檔

LMG3624 是一款 650V 170m? GaN 功率 FET,適用于開(kāi)關(guān)模式電源應(yīng)用。LMG3624 通過(guò)在 8mm × 5.3mm QFN 封裝中集成 GaN FET 和柵極驅(qū)動(dòng)器,簡(jiǎn)化了設(shè)計(jì)并減少了元件數(shù)量。
2025-02-20 16:54:57881

無(wú)氧網(wǎng)線和純網(wǎng)線的區(qū)別

無(wú)氧網(wǎng)線和純網(wǎng)線之間存在顯著的差異,這些差異主要體現(xiàn)在材質(zhì)純度、性能表現(xiàn)以及應(yīng)用場(chǎng)景等方面。以下是對(duì)兩者的詳細(xì)對(duì)比: 一、材質(zhì)純度 無(wú)氧網(wǎng)線:無(wú)氧網(wǎng)線采用高純度的銅質(zhì)材料制成,通常具有
2025-02-19 11:38:485657

650V耐壓GaN HEMT新增小型、高散熱TOLL封裝

~同時(shí)加快車載GaN器件的開(kāi)發(fā)速度,以盡快投入量產(chǎn)~ ? 全球知名半導(dǎo)體制造商ROHM(總部位于日本京都市)已將TOLL(TO-LeadLess)封裝的650V耐壓GaN HEMT*1
2025-02-13 14:29:18779

GaN技術(shù):顛覆傳統(tǒng)硅基,引領(lǐng)科技新紀(jì)元

在開(kāi)關(guān)模式電源中使用 GaN 開(kāi)關(guān)是一種相對(duì)較新的技術(shù)。這種技術(shù)有望提供更高效率、更高功率密度的電源。本文討論了該技術(shù)的準(zhǔn)備情況,提到了所面臨的挑戰(zhàn),并展望了 GaN 作為硅的替代方案在開(kāi)關(guān)模式電源
2025-02-11 13:44:551177

碳化硅功率器件的封裝技術(shù)解析

碳化硅(SiC)功率器件因其低內(nèi)阻、高耐壓、高頻率和高結(jié)溫等優(yōu)異特性,在電力電子系統(tǒng)中得到了廣泛關(guān)注和應(yīng)用。然而,要充分發(fā)揮SiC器件的性能,封裝技術(shù)至關(guān)重要。本文將詳細(xì)解析碳化硅功率器件的封裝技術(shù),從封裝材料選擇、焊接技術(shù)、熱管理技術(shù)、電氣連接技術(shù)封裝結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)等多個(gè)方面展開(kāi)探討。
2025-02-03 14:21:001292

用于高頻、大功率工業(yè)電機(jī)驅(qū)動(dòng)的GaN功率IC創(chuàng)新

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2025-01-24 13:59:040

GaNSafe–世界上最安全的GaN功率半導(dǎo)體

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2025-01-24 13:50:270

光電共封裝技術(shù)CPO的演變與優(yōu)勢(shì)

光電封裝技術(shù)經(jīng)歷了從傳統(tǒng)纜到板上光學(xué),再到2.5D和3D光電共封裝的不斷演進(jìn)。這一發(fā)展歷程展示了封裝技術(shù)在集成度、互連路徑和帶寬設(shè)計(jì)上的持續(xù)突破。未來(lái),光電共封技術(shù)將進(jìn)一步朝著更高集成度、更短互連路徑和更高帶寬方向發(fā)展,為提升數(shù)據(jù)中心和高性能計(jì)算的能效與速度提供雙重動(dòng)力。
2025-01-24 13:29:547022

解析GaN器件金剛石近結(jié)散熱技術(shù):鍵合、生長(zhǎng)、鈍化生長(zhǎng)

在追求更高功率密度和更優(yōu)性能的電子器件領(lǐng)域,GaN(氮化鎵)器件因其卓越的性能而備受矚目。然而,隨著功率密度的不斷提升,器件內(nèi)部的熱積累問(wèn)題日益嚴(yán)重,成為制約其發(fā)展的主要瓶頸。 為了應(yīng)對(duì)這一挑戰(zhàn)
2025-01-16 11:41:411729

垂直與橫向GaN功率器件單片集成的高效隔離技術(shù)

垂直和橫向氮化鎵(GaN)器件的集成可以成為功率電子學(xué)領(lǐng)域的一次革命性進(jìn)展。這種集成能夠使驅(qū)動(dòng)和控制橫向GaN器件與垂直功率器件緊密相鄰。在本文中,我們將總結(jié)一種解決橫向和垂直器件隔離問(wèn)題的方法
2025-01-16 10:55:521228

雙面散熱IGBT功率器件 | DOH 封裝工藝

IGBT全稱為絕緣柵雙極型晶體管,特點(diǎn)是可以使用電壓控制、耐壓高、飽和壓降小、切換速度快、節(jié)能等。功率模塊是電動(dòng)汽車逆變器的核心部件,其封裝技術(shù)對(duì)系統(tǒng)性能和可靠性有著至關(guān)重要的影響。傳統(tǒng)的單面冷卻
2025-01-11 06:32:432272

PCB盜工藝:技術(shù)與藝術(shù)的完美融合

PCB盜是在印刷電路板設(shè)計(jì)中一種重要的設(shè)計(jì)技術(shù),主要是在PCB空余區(qū)域填充銅箔,形成接地或電源層。這種工藝不僅具有重要的技術(shù)價(jià)值,還能創(chuàng)造獨(dú)特的藝術(shù)效果,體現(xiàn)了現(xiàn)代電子工業(yè)中技術(shù)與美學(xué)的完美結(jié)合
2025-01-08 18:28:001930

CERNEX寬帶高功率放大器(GaN

CERNEX寬帶高功率放大器(GaN)CERNEX的CBP GaN系列放大器通常用作各種類型通用性技術(shù)應(yīng)用,如實(shí)驗(yàn)測(cè)試設(shè)備、儀表設(shè)備和其他需要高功率輸出的應(yīng)用。使用穩(wěn)固的帶狀線邏輯電路和指定的GaN
2025-01-08 09:31:22

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