盡管 2012年整體電子產(chǎn)業(yè)表現(xiàn)不佳,但仍有許多表現(xiàn)優(yōu)秀的新創(chuàng)公司從各個(gè)技術(shù)領(lǐng)域冒出頭來;以下盤點(diǎn)值得在 2013年繼續(xù)關(guān)注其動(dòng)態(tài)的十家具潛力新創(chuàng)公司,它們擅長(zhǎng)的領(lǐng)域涵蓋處理器、存儲(chǔ)器、半導(dǎo)體制程、芯片架構(gòu)、EDA、微機(jī)電(MEMS)、RF、觸控屏幕、伺服器以及物聯(lián)網(wǎng)(IoT)。
碳奈米管記憶體專家Nantero
總部位于美國(guó)麻州的 Nantero 成立于2001年,專長(zhǎng)于碳奈米管(carbon nanotubes)非揮發(fā)性記憶體技術(shù);該公司在2006年曾以溝槽式(trench-based)元件架構(gòu)引發(fā)話題,但之后又歸于沉寂。直到2012年,該公司將元件架構(gòu)改為更具可擴(kuò)展性的通孔(in-via)架構(gòu),并宣佈從兩家策略伙伴募得1,000萬(wàn)美元額外資金。
Nantero 最近并與比利時(shí)研究機(jī)構(gòu)IMEC宣佈一項(xiàng)20奈米以下節(jié)點(diǎn)的碳奈米管非揮發(fā)性記憶體合作開發(fā)計(jì)畫,IMEC官員期望該種記憶體可取代DRAM。如果該技術(shù)開發(fā)進(jìn)度一切順利,可望在2013年發(fā)表更多進(jìn)展,而該公司的策略伙伴也或許會(huì)現(xiàn)身。
Nantero的碳奈米管可變電組記憶體架構(gòu)橫切面,這種架構(gòu)可望微縮至15奈米甚至是5奈米節(jié)點(diǎn)
新一代電晶體專家SuVolta
總部位于美國(guó)加州的SuVolta在2005年成立時(shí)名為DSM Solutions,一開始塬本計(jì)畫進(jìn)軍創(chuàng)新型態(tài)的接面場(chǎng)效電晶體(junction FET)市場(chǎng),后來經(jīng)歷了一次重新評(píng)估,并在2011年Scott Thompson任職該公司技術(shù)長(zhǎng)后,以摻雜(doping)技術(shù)推出全耗盡平面電晶體(fully-depleted planar transistor)架構(gòu),取代過去其他業(yè)者使用絕緣上覆硅晶圓的方式(即FD-SOI)。
確實(shí),SuVolta的PowerShrink電晶體所具備的深度耗盡通道可望提供FinFET與FD-SOI之外的n通道FET方案,但看來目前并沒有任何一家領(lǐng)先級(jí)IDM廠商或晶圓代工業(yè)者想嘗試。不過Globalfoundries執(zhí)行長(zhǎng)Ajit Manocha已經(jīng)表示,該公司正在評(píng)估FinFET與FD-SOI之外的第叁種製程──super-steep retrograde well (SSRW),基本上就是SuVolta所開發(fā)的技術(shù)。
SuVolta 的PowerShrink電晶體架構(gòu)
目前尚不清楚Globalfoundries是否與SuVolta合作,或是兩者是各自獨(dú)立開發(fā);無(wú)論是哪種情況,SuVolta的未來發(fā)展都值得繼續(xù)關(guān)注。SuVolta的PowerShrink電晶體製程可提供與FD-SOI類似的優(yōu)勢(shì),但不需要使用SOI晶圓;該種電晶體亦能達(dá)到部分FinFET的優(yōu)勢(shì)。
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評(píng)論