中國芯片制造廠商無懼封禁！訂單一路飆升

隨著美國對中國半導(dǎo)體行業(yè)實(shí)施更嚴(yán)格的限制措施，中國的芯片制造廠商成為了不可忽視的受益者。根據(jù)外媒報道，中國頂尖的芯片代工廠為了加速自主科技發(fā)展，已經(jīng)開始...

2023-10-23 標(biāo)簽：芯片芯片制造光刻 1.4k 0

關(guān)于高數(shù)值孔徑EUV和曲線光掩模等燈具的討論

半導(dǎo)體芯科技編譯 來源：Silicon Semiconductor eBeam Initiative已完成第12屆年度eBeam Initiative杰...

2023-10-17 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻EUV 1k 0

俄羅斯要自研***？

圣彼得堡彼得大帝理工大學(xué)（SPbPU）的專家表示，他們已經(jīng)成功開發(fā)了兩套用于生產(chǎn)微電子納米結(jié)構(gòu)的裝置，這將有助于解決俄羅斯在微電子領(lǐng)域的技術(shù)主權(quán)問題。這...

2023-10-11 標(biāo)簽：傳感器光刻蝕刻 1.8k 0

芯片制造發(fā)展是否存在新路徑

從技術(shù)發(fā)展的角度看，芯片線寬越來越小，各種光學(xué)效應(yīng)、系統(tǒng)誤差和工藝條件偏差等變得越來越精細(xì)。計算光刻可以通過算法建模、仿真計算、數(shù)據(jù)分析和結(jié)果優(yōu)化等手段...

2023-10-10 標(biāo)簽：晶圓芯片制造光刻 1.4k 0

俄羅斯開發(fā)出可替代***的芯片制造設(shè)備

這個復(fù)合體由兩種設(shè)施組成。第一個裝置是為“無掩模納米光刻”設(shè)計的，可以在沒有口罩的情況下將圖像投射到基板上。第二種設(shè)備位于第一種設(shè)備制造的基板圖案上，利...

2023-10-10 標(biāo)簽：傳感器光刻人工智能 1.4k 0

蘇大維格：***已實(shí)現(xiàn)向國內(nèi)龍頭芯片企業(yè)銷售

據(jù)介紹，目前蘇大維格正在重點(diǎn)擴(kuò)大微納米光學(xué)技術(shù)/產(chǎn)品。國家文件和證明書中的防偽材料、電子紙張和反射式液晶電光材料、ar/mr和ar-hud衍射材料、透明...

2023-09-14 標(biāo)簽：芯片光刻微納米 3.5k 0

應(yīng)對先進(jìn)工藝碳排放挑戰(zhàn)，Imec開發(fā)晶圓廠可持續(xù)發(fā)展評估模型

隨著技術(shù)的發(fā)展，與ic制造相關(guān)的排放量也增加了，特別是光刻和蝕刻能耗較大，例如n3工程中光刻工序產(chǎn)生的二氧化碳排放量約占45%。imec的工程師們半導(dǎo)體...

2023-09-13 標(biāo)簽：半導(dǎo)體技術(shù)光刻蝕刻 1.2k 0

上海光機(jī)所成立科研五部，聚焦強(qiáng)激光系統(tǒng)、精密光刻系統(tǒng)等重大需求

邵建達(dá)說：科研單位大部門制改革是上海機(jī)械適應(yīng)新時代新要求的必然選擇。他提出了三個要求：第一，各級人民檢察院要以國家需要和人民法院黨組會議精神搶占客戶科技...

2023-09-13 標(biāo)簽：激光技術(shù)光刻高功率 2.2k 0

EUV光刻光源核心部件研究獲新進(jìn)展

據(jù)本文介紹，錫液滴發(fā)生器是激光等離子型極紫外線（lpp-euv）光刻光源中最重要的核心部件之一。錫液滴目標(biāo)具有高反復(fù)頻率，小直徑和穩(wěn)定性好的特性。這篇論...

2023-09-05 標(biāo)簽：發(fā)生器紫外線光刻 2.9k 0

艾森股份：半導(dǎo)體封裝材料龍頭企業(yè)沖刺科創(chuàng)板

據(jù)上海證券交易所上市審查委員會公告，艾森股票將于8月14日在科創(chuàng)股票市場上市。艾森股份有限公司從事電子化學(xué)品的研究，開發(fā)，生產(chǎn)和銷售。電子電鍍、光刻2個...

2023-08-08 標(biāo)簽：電鍍光刻半導(dǎo)體制造 1.3k 0

集成電路與集成電路產(chǎn)業(yè)，積體電路與積體電路座業(yè)

集成電路自發(fā)明以來，經(jīng)過20世紀(jì) 60年代和70 年代的發(fā)展，逐步形成了集成電路產(chǎn)業(yè)。1965年，仙童公司的戈登 ?摩爾（Cordon E. Moore...

2023-07-10 標(biāo)簽：集成電路光刻積體電路 2.3k 0

光刻中承上啟下的半導(dǎo)體掩膜版

電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚(yáng)）在上游的半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中，除了光刻機(jī)等設(shè)備外，光刻膠、掩膜版等材料也是決定晶圓質(zhì)量與良率的關(guān)鍵因素。就拿掩膜版來說，這個承...

2023-06-22 標(biāo)簽：光刻掩膜版 7.6k 0

泛林集團(tuán)邀您共享CSTIC 2023技術(shù)盛會

中國年度半導(dǎo)體技術(shù)盛會——中國國際半導(dǎo)體技術(shù)大會(CSTIC)將于2023年6月26-27日在上海國際會議中心舉辦。近百位世界領(lǐng)先的行業(yè)及學(xué)術(shù)專家匯聚一...

2023-06-19 標(biāo)簽：集成電路半導(dǎo)體光刻 2.8k 0

無需FMM，京東方研發(fā)出光刻AMQLED

BOE（京東方）開發(fā)的量子點(diǎn)直接光刻（DP-QLED）工藝，僅需要涂膜、曝光、顯影三步即實(shí)現(xiàn)了一種量子點(diǎn)的圖案化；相對于其它光刻圖案化工藝，步驟減少，無...

2023-06-01 標(biāo)簽：光刻量子點(diǎn) 2.8k 0