北京 – 2021年7月16日 – 為半導體、保健和制藥行業(yè)提供分子傳感及診斷產(chǎn)品的領(lǐng)先制造商Atonarp今天宣布推出Aston，這是一個創(chuàng)新型原位半導體計量平臺，帶有集成等離子體電離源。

Aston是半導體生產(chǎn)計量領(lǐng)域中的一次重大演變，實現(xiàn)了原位分子過程控制，使現(xiàn)有工廠運行更高效，并可推動產(chǎn)出提升。Aston專為半導體生產(chǎn)而設(shè)計，它作為一個強大的平臺，可以取代多種傳統(tǒng)工具，并在一系列全面應(yīng)用中提供前所未有的控制水平，包括光刻、電介質(zhì)和導電蝕刻及沉積、腔室清潔、腔室匹配和消解。

“通過Aston，某些應(yīng)用中的單位工藝吞吐量可以提升40%以上，這是一個很大的改進?！皩τ谝患业湫偷木A廠來說，即使整體產(chǎn)能提高1%，每年的產(chǎn)量也能增加價值數(shù)千萬美元?！盇tonarp公司首席執(zhí)行官、首席技術(shù)官和創(chuàng)始人Prakash Murthy說，“在現(xiàn)有生產(chǎn)工藝工具上加裝Aston，可在短短6到8周內(nèi)實現(xiàn)更高產(chǎn)量，而安裝新的生產(chǎn)設(shè)備則需要長達一年的時間。這將從本質(zhì)上幫助制造商提高其生產(chǎn)水平，并有助于解決目前半導體晶圓廠產(chǎn)能不足的問題?！?/p>

快速、可操作的端點檢測（EPD）是運行半導體工具和晶圓廠的最有效方式。到目前為止，許多工藝步驟都無法部署EPD，因為所需的原位傳感器不能經(jīng)受住苛刻的工藝或腔室清潔化學品的影響，或者會因冷凝水沉積而出現(xiàn)堵塞。因此晶圓廠不得不設(shè)定特定時間，以確保過程徹底執(zhí)行完畢。相反，Aston通過準確檢測一個過程何時結(jié)束來優(yōu)化生產(chǎn)，包括腔室清潔，這可將所需的清潔時間減少80%。

Aston對腐蝕性氣體和氣態(tài)污染物冷凝物具有抵抗力。它比現(xiàn)有解決方案更堅固，具有獨立的雙電離源（一個經(jīng)典的電子沖擊電離源，和一個無燈絲等離子體電離器），因此可在半導體生產(chǎn)中出現(xiàn)的惡劣條件下可靠運行。這使Aston能夠原位，即在傳統(tǒng)電子電離器會迅速腐蝕和失效的苛刻環(huán)境中使用。

與傳統(tǒng)質(zhì)量分析儀相比，Aston的服務(wù)間隔時間延長了100倍。它擁有自清潔能力，可以清除某些過程中產(chǎn)生的冷凝物沉積。

由于Aston能夠自主產(chǎn)生等離子體，無論是否存在過程等離子體，均可正常運行。這與光學發(fā)射光譜測量技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)勢，后者需要等離子體源方可操作，這使Aston成為ALD和某些金屬沉積工藝的理想選擇，這些工藝可能會需要使用較弱的、脈沖等離子體，或無需等離子體進行處理。

Aston還能夠通過提供量化、可操作的實時數(shù)據(jù)來提高過程一致性，并可通過人工智能推進高性能機器學習，滿足最苛刻的過程應(yīng)用。除此之外，得益于實時數(shù)據(jù)統(tǒng)計分析和腔室管理的高精確度、靈敏度和可重復性，生產(chǎn)線和產(chǎn)品產(chǎn)量也得到了提高。

Aston主要針對化學氣相沉積（CVD）和蝕刻應(yīng)用，這兩種應(yīng)用的年增長率均超過13%。該光譜儀既可在新腔室組裝時安裝在其中，也能夠加裝在已經(jīng)運行的現(xiàn)有腔室中。

Aston還可與韓國ATI公司開發(fā)的智能壓力控制器Psi組合使用。在經(jīng)歷了為期數(shù)月的全面技術(shù)可行性評估后，這一組合解決方案最近出售給三星公司，用于一個先進的過程控制應(yīng)用。

Aston已可直接于Atonarp，或通過Atonarp的全球合作伙伴網(wǎng)絡(luò)進行評估和訂購。