5月2日消息，在本周的季度收益電話會(huì)議上，臺(tái)積電方面透露，該公司預(yù)計(jì)其大部分7nm“N7”工藝客戶最終將轉(zhuǎn)型至其即將推出的6nm“N6”工藝制造節(jié)點(diǎn)。即將到來(lái)的“N6”工藝節(jié)點(diǎn)將使用與“N7”節(jié)點(diǎn)相同的設(shè)計(jì)規(guī)則，使客戶更容易轉(zhuǎn)換到更新，更密集的節(jié)點(diǎn)。而且，如果臺(tái)積電的預(yù)測(cè)成真，N6毫無(wú)疑問將成為臺(tái)積電下一個(gè)廣泛使用，長(zhǎng)期服務(wù)的流程節(jié)點(diǎn)。

此前有消息報(bào)道，臺(tái)積電的N6工藝技術(shù)采用極紫外光刻（EUVL），通過(guò)減少多圖案化所需的曝光次數(shù)來(lái)降低制造復(fù)雜性（目前需要這種曝光，因?yàn)門SMC的N7僅使用DUV光刻）。臺(tái)積電沒有明確說(shuō)明在N7+或N6上有多少層使用EUVL，但已經(jīng)證實(shí)后者與前者相比增加了一個(gè)額外的EUVL層。

雖然臺(tái)積電的N6采用新的生產(chǎn)設(shè)備，晶體管密度比N7制造技術(shù)高出18％，但N6采用與N7相同的設(shè)計(jì)規(guī)則，使芯片設(shè)計(jì)人員能夠重復(fù)使用相同的設(shè)計(jì)生態(tài)系統(tǒng)（例如工具等） ，這將使他們降低開發(fā)成本。相比之下，N7+使用不同的設(shè)計(jì)規(guī)則，但與N7相比，它還提供了比N6更多的優(yōu)勢(shì)。

雖然臺(tái)積電的合作伙伴采用了N7和N7+兩種工藝，并且全球最大的芯片合約制造商預(yù)計(jì)這兩種技術(shù)在2019年將占其晶圓收入的25％以上，但前者看起來(lái)比后者更受歡迎。與此同時(shí)，臺(tái)積電預(yù)計(jì)今天使用N7的大多數(shù)客戶將轉(zhuǎn)向N6，然后轉(zhuǎn)向N5跳過(guò)N7+?？紤]到N7的普及程度，N6也可能會(huì)非常受歡迎。