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我們在光刻機上輸?shù)暮軕K,但我們贏在了刻蝕機上

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2025-06-16 09:31:51586

想用K230放在無人機上做圖像識別,加裝一個4G模塊把識別結(jié)果和畫面同時傳輸?shù)牡孛嬲净蛘呤?b class="flag-6" style="color: red">機上,怎么操作?

我想用K230放在無人機上做圖像識別,然后想加裝一個4G模塊把識別結(jié)果和畫面同時傳輸?shù)牡孛嬲净蛘呤?b class="flag-6" style="color: red">機上,這個目前可以如何處理? 你好,目前底層是支持4G模塊得驅(qū)動,參考https
2025-06-16 07:08:00

減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀光刻圖形的測量

? ? 引言 ? 半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對器件性能產(chǎn)生負面影響。同時,光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
2025-06-14 09:42:56736

光刻工藝中的顯影技術(shù)

一、光刻工藝概述 光刻工藝是半導(dǎo)體制造的核心技術(shù),通過光刻特殊波長光線或者電子束下發(fā)生化學(xué)變化,再經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程,將設(shè)計掩膜上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上,是現(xiàn)代半導(dǎo)體、微電子、信息產(chǎn)業(yè)
2025-06-09 15:51:162127

光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀光刻圖形的測量

引言 半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時,精準(zhǔn)測量光刻圖形對把控工藝質(zhì)量意義重大,白光干涉儀為此提供有力的技術(shù)保障
2025-05-29 09:38:531108

Micro OLED 陽極像素定義層制備方法及白光干涉儀光刻圖形的測量

? 引言 ? Micro OLED 作為新型顯示技術(shù),微型顯示領(lǐng)域極具潛力。其中,陽極像素定義層的制備直接影響器件性能與顯示效果,而光刻圖形的精準(zhǔn)測量是確保制備質(zhì)量的關(guān)鍵。白光干涉儀憑借獨特
2025-05-23 09:39:17628

清華大學(xué)激光干涉光刻全局對準(zhǔn)領(lǐng)域取得新進展

圖1.拼接曝光加工系統(tǒng) 衍射光柵廣泛應(yīng)用于精密測量、激光脈沖壓縮、光譜分析等領(lǐng)域。干涉光刻作為一種無掩膜曝光光刻方法,衍射光柵加工制造方面具有高效率、高靈活度的優(yōu)勢。但干涉光刻加工的光柵尺寸
2025-05-22 09:30:59570

電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極

出現(xiàn)誤差。傳統(tǒng)聚焦手段已不能滿足電子直寫光刻機對電子束質(zhì)量的要求。 只有對聚焦電極改進才是最佳選擇,以下介紹該進后的電極工作原理。通過把電子束壓縮到中心線達到縮束的目的,使電子束分布一條直線
2025-05-07 06:03:45

壓敏(MOV)機上的應(yīng)用剖析

,保證電機持續(xù)運轉(zhuǎn);3.具有調(diào)速性能較好等優(yōu)點,可以通過改變電壓等方式較為方便地調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速。有刷直流電機許多領(lǐng)域都有應(yīng)用,比如一些電動工具、玩具、小型機械等。但它也存
2025-05-06 11:34:322155

芯片刻蝕原理是什么

芯片刻蝕是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵步驟,用于將設(shè)計圖案從掩膜轉(zhuǎn)移到硅片或其他材料上,形成電路結(jié)構(gòu)。其原理是通過化學(xué)或物理方法去除特定材料(如硅、金屬或介質(zhì)層),以下是芯片刻蝕的基本原理和分類: 1. 刻蝕
2025-05-06 10:35:311972

光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件免費試用

光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導(dǎo)體通用格式的圖紙轉(zhuǎn)換成如bmp或者tiff格式進行掩模版加工制造,掩膜加工領(lǐng)域或者無掩膜光刻領(lǐng)域不可或缺,在業(yè)內(nèi)也被稱為矢量圖形光柵化軟件
2025-05-02 12:42:10

“有我們,請放心”——星通時頻 SCTF 助力晶振國產(chǎn)替代

4月3日,美國總統(tǒng)特朗普發(fā)布對等關(guān)稅政策,貿(mào)易戰(zhàn)的血雨腥風(fēng)沉沉浮浮地吹了已有一月,現(xiàn)仍在持續(xù)吞噬著人類的商業(yè)文明和人的良知。有我們,請放心基于當(dāng)前特朗普政府關(guān)稅政策的風(fēng)險,星通時頻能夠做到
2025-04-29 10:08:00866

半導(dǎo)體制造關(guān)鍵工藝:濕法刻蝕設(shè)備技術(shù)解析

刻蝕工藝的核心機理與重要性 刻蝕工藝是半導(dǎo)體圖案化過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié),與光刻機和薄膜沉積設(shè)備并稱為半導(dǎo)體制造的三大核心設(shè)備。刻蝕的主要作用是將光刻膠上的圖形轉(zhuǎn)移到功能膜層,具體而言,是通過物理及化學(xué)
2025-04-27 10:42:452200

Chiller半導(dǎo)體制程工藝中的應(yīng)用場景以及操作選購指南

、Chiller半導(dǎo)體工藝中的應(yīng)用解析1、溫度控制的核心作用設(shè)備穩(wěn)定運行保障:半導(dǎo)體制造設(shè)備如光刻機刻蝕機等,其內(nèi)部光源、光學(xué)系統(tǒng)及機械部件在運行過程中產(chǎn)生大量熱量。Ch
2025-04-21 16:23:481232

關(guān)稅的影響:蘋果成特朗普關(guān)稅最大受害者之一 阿斯麥:對美出口光刻機或面臨關(guān)稅

2025年美國特朗普政府的“對等關(guān)稅”影響究竟有多大?未來還不確定,只有等待時間的檢驗。這里我們看到已經(jīng)有很多的科技巨頭受損嚴重,比如蘋果公司、光刻機巨頭阿斯麥ASML、英偉達等。但是業(yè)界多認為目前
2025-04-17 10:31:121075

最全最詳盡的半導(dǎo)體制造技術(shù)資料,涵蓋晶圓工藝到后端封測

——薄膜制作(Layer)、圖形光刻(Pattern)、刻蝕和摻雜,再到測試封裝,一目了然。 全書共分20章,根據(jù)應(yīng)用于半導(dǎo)體制造的主要技術(shù)分類來安排章節(jié),包括與半導(dǎo)體制造相關(guān)的基礎(chǔ)技術(shù)信息;總體流程圖
2025-04-15 13:52:11

手把手教程:基于RT-Thread單片機上部署大模型AI終端

;HelloWorld"到"Hey,AI"記得剛?cè)胄袝r,點亮一個LED燈都激動半天。如今,我們的嵌入式設(shè)備已經(jīng)可以直接和AI大模型對話!這不僅是技術(shù)的進步,更是開發(fā)思路的革命。今天,我將手把手教大家如何在開發(fā)板上接
2025-04-11 18:19:081889

成都匯陽投資關(guān)于光刻機概念大漲,后市迎來機會

【2025年光刻機市場的規(guī)模預(yù)計為252億美元】 光刻機作為半導(dǎo)體制造過程中價值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一,其半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場對光刻機的需求持續(xù)增長,尤其是在先
2025-04-07 09:24:271240

【「芯片通識課:一本書讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗】芯片怎樣制造

光刻工藝、刻蝕工藝 芯片制造過程中,光刻工藝和刻蝕工藝用于某個半導(dǎo)體材料或介質(zhì)材料層上,按照光掩膜版上的圖形,“刻制”出材料層的圖形。 首先準(zhǔn)備好硅片和光掩膜版,然后再硅片表面上通過薄膜工藝生成一
2025-04-02 15:59:44

部署計算機上運行 LabVIEW 應(yīng)用程序時出現(xiàn)以下錯誤: “缺少外部函數(shù) dll...”解決辦法

DLL 生成的VI. 這個辦法親試有效 確保 DLL 路徑名稱開發(fā)環(huán)境和目標(biāo)環(huán)境之間沒有變化。 如果是這樣,開發(fā)計算機上,轉(zhuǎn)到構(gòu)建規(guī)范 選擇附加除項。 禁用不包括非獨立共享庫。 這會將 DLL 包含在“始終包含”文件夾中。
2025-04-01 19:10:01

【「芯片通識課:一本書讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗】了解芯片怎樣制造

TSMC,中芯國際SMIC 組成:核心:生產(chǎn)線,服務(wù):技術(shù)部門,生產(chǎn)管理部門,動力站(雙路保障),廢水處理站(環(huán)保,循環(huán)利用)等。生產(chǎn)線主要設(shè)備: 外延爐,薄膜設(shè)備,光刻機,蝕刻機,離子注入機,擴散爐
2025-03-27 16:38:20

不只依賴光刻機!芯片制造的五大工藝大起底!

科技日新月異的今天,芯片作為數(shù)字時代的“心臟”,其制造過程復(fù)雜而精密,涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機這一高端設(shè)備,但實際上,芯片的成功制造遠不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝,揭示這些工藝如何協(xié)同工作,共同鑄就現(xiàn)代芯片的輝煌。
2025-03-24 11:27:423168

濕法刻蝕:晶圓上的微觀雕刻

,特定場景中展現(xiàn)出獨特的優(yōu)勢。讓我們走進濕法刻蝕的世界,探索這場納米尺度上上演的微觀雕刻。 濕法刻蝕的魔法:化學(xué)的力量 濕法刻蝕利用化學(xué)溶液的腐蝕性,選擇性地去除晶圓表面的材料。它的工作原理簡單而高效:將晶圓浸入特定的
2025-03-12 13:59:11983

快速將二維碼掃描識別模組嵌入集成到安卓一體機上使用

現(xiàn)代科技快速發(fā)展的今天,二維碼掃描模組的應(yīng)用已深入到各個行業(yè)領(lǐng)域。特別是安卓一體機中,二維碼掃描模組已成為其不可或缺的一部分。本文將詳細介紹如何在安卓一體機上安裝二維碼掃描模組、連接二維碼掃描
2025-02-28 15:59:42915

請問DLP3010AFQK軟硬件上是否對DLP3010FQK完全兼容?

你好,請問DLP3010AFQK軟硬件上是否對DLP3010FQK完全兼容?我們用DLP3010AFQK代替原來光機上的DLP3010FQK,DLP EVM GUI不能識別模塊,固件已經(jīng)是最新版本。請幫忙解答一下,感謝。
2025-02-21 11:18:26

EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

? EUV光刻有多強?目前來看,沒有EUV光刻,業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機也是歷史上最復(fù)雜、最昂貴的機器之一。 EUV光刻有哪些瓶頸? EUV光刻技術(shù),存在很多難點。 1.1
2025-02-18 09:31:242257

名單公布!【書籍評測活動NO.57】芯片通識課:一本書讀懂芯片技術(shù)

就是達到目的,而芯片則必須要大規(guī)模地應(yīng)用才有意義,誠然,芯片的產(chǎn)業(yè)化歷程也十分艱難。 首先,芯片的 生產(chǎn)成本高昂 ,初期投資巨大,需要光刻機、電子束曝光機到各種檢測設(shè)備;其次,要遵循 嚴格的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)
2025-02-17 15:43:33

什么是光刻機的套刻精度

芯片制造的復(fù)雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。簡單來說,它就像建造摩天大樓
2025-02-17 14:09:254467

探秘半導(dǎo)體防震基座剛性測試:守護芯片制造的堅固防線

,生產(chǎn)設(shè)備對穩(wěn)定性的要求近乎苛刻。光刻機、刻蝕機等設(shè)備工作時,需保持極高的精度。以極紫外光刻機(EUV)為例,它在進行納米級光刻時,任何微小的位移或變形都可能導(dǎo)致
2025-02-17 09:52:061192

用光機上的HDMI接口連接電腦,選擇video mode模式,為什么不能投影出電腦的畫面?

用光機上的HDMI接口連接電腦,選擇video mode模式,為什么不能投影出電腦的畫面,其GUI的圖片如下圖所示
2025-02-17 07:16:52

能自己PC機上用VC編程序讀取TSW1250EVM發(fā)來的數(shù)據(jù),進而獲取8路采集演示版ADS5294所采集的數(shù)據(jù)嗎?

能自己PC機上用VC編程序讀取TSW1250EVM發(fā)來的數(shù)據(jù),進而獲取8路采集演示版ADS5294所采集的數(shù)據(jù)嗎?或者對采集板進行控制嗎?可以對TSW1250EVM FPGA進行再編程嗎?
2025-02-10 06:14:31

光刻機用納米位移系統(tǒng)設(shè)計

光刻機用納米位移系統(tǒng)設(shè)計
2025-02-06 09:38:031028

半導(dǎo)體設(shè)備光刻機防震基座如何安裝?

半導(dǎo)體設(shè)備光刻機防震基座的安裝涉及多個關(guān)鍵步驟和考慮因素,以確保光刻機的穩(wěn)定運行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先,選擇合適的防震基座需要考慮適應(yīng)工作環(huán)境。由于半導(dǎo)體設(shè)備通常在潔凈的環(huán)境下運行,因此選擇的搬運工具如
2025-02-05 16:48:451240

半導(dǎo)體設(shè)備防震基座為什么要定制?

一、定制化的必要性1,適應(yīng)不同設(shè)備需求(1)半導(dǎo)體設(shè)備的種類繁多,包括光刻機刻蝕機、薄膜沉積設(shè)備等,每種設(shè)備的尺寸、重量、重心位置以及振動敏感程度都有所不同。例如,光刻機通常對精度要求極高,其工作
2025-02-05 16:48:20787

芯片制造:光刻工藝原理與流程

光刻是芯片制造過程中至關(guān)重要的一步,它定義芯片上的各種微細圖案,并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細介紹,包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜、光刻機
2025-01-28 16:36:003591

盤點那些我們生活的AI科技

醫(yī)食住行,AI與科技的結(jié)合正逐漸滲透我們的工作和生活,甚至出門都少不了AI導(dǎo)航的身影,它們正逐漸對我們的生活帶來顛覆性改變…… 為此,貿(mào)澤特盤點了過去一年中與AI相關(guān)的技術(shù)熱文,復(fù)盤那些點亮了我們
2025-01-22 14:28:021520

碳納米管EUV光刻效率中的作用

數(shù)值孔徑 EUV 光刻中的微型化挑戰(zhàn) 晶體管不斷小型化,縮小至 3 納米及以下,這需要完美的執(zhí)行和制造。整個 21 世紀(jì),這種令人難以置信的縮小趨勢(從 90 納米到 7 納米及更?。╅_創(chuàng)技術(shù)進步的新時代。 在過去十年中,我們見證將50
2025-01-22 14:06:531153

國產(chǎn)主板的崛起之路代表著我們的科技實力和創(chuàng)新能力

隨著科技的發(fā)展,我們的主板產(chǎn)業(yè)也發(fā)生了巨大的變化,國產(chǎn)主板逐漸運用到我們的生活上面,通信、電子產(chǎn)品、交通用品等領(lǐng)域都有國產(chǎn)主板的身影,國產(chǎn)主板的崛起代表著我們科技實力的又一大進步。
2025-01-21 08:43:35757

如何提高光刻機的NA值

本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機配置,每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA,又名
2025-01-20 09:44:182475

什么是原子層刻蝕

本文介紹什么是原子層刻蝕(ALE, Atomic Layer Etching)。 1.ALE 的基本原理:逐層精準(zhǔn)刻蝕? 原子層刻蝕(ALE)是一種基于“自限性反應(yīng)”的納米加工技術(shù),其特點是以單
2025-01-20 09:32:431280

光刻機的分類與原理

本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片光刻機和面板光刻機。面板光刻機的工作原理和芯片光刻機相似
2025-01-16 09:29:456359

西門子V90伺服系統(tǒng)自動洗車機上的應(yīng)用

,開發(fā)全自動洗車系統(tǒng)變得尤為重要。本文將介紹 西門子V90伺服 系統(tǒng)自動洗車機上的應(yīng)用案例。 項目背景 傳統(tǒng)的人工洗車方式不僅耗時時間長、人工成本高,而且由于工作人員長時間手持噴水槍對車輛重復(fù)噴水,造成了巨大的水資源
2025-01-09 17:50:221040

晶體晶振無人機上的應(yīng)用

應(yīng)用成敗的關(guān)鍵因素。 晶體晶振無人機上的應(yīng)用 FAITHLONG 無人機確保飛行精確執(zhí)行的過程中,不單是飛行的飛行姿態(tài)、速度還是高度等參數(shù)信息,都依賴于晶體晶振提供的穩(wěn)定時鐘信號。 一般來說,晶體晶振無人機飛控系統(tǒng)和遙
2025-01-09 11:37:101017

泊蘇 Type C 系列防震基座半導(dǎo)體光刻加工電子束光刻設(shè)備的應(yīng)用案例

 泊蘇 Type C 系列防震基座半導(dǎo)體光刻加工電子束光刻設(shè)備的應(yīng)用案例-江蘇泊蘇系統(tǒng)集成有限公司一、企業(yè)背景與光刻加工電子束光刻設(shè)備挑戰(zhàn)某大型半導(dǎo)體制造企業(yè)專注于高端芯片的研發(fā)與生產(chǎn)
2025-01-07 15:13:21

組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹

? 本文介紹組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程,但精度要求極高,能夠達到
2025-01-07 10:02:304530

友思特榮獲央視大型創(chuàng)投節(jié)目“AI+”路演全國100強

國內(nèi)首檔大型紀(jì)實創(chuàng)投節(jié)目《AI+》作為央視總臺《中國》的姊妹篇,由中央廣播電視總臺、杭州市人民政府主辦,攜手戰(zhàn)略合作伙伴阿里云共同推出,是中央廣播電視總臺將在下半年推出的重磅節(jié)目。
2025-01-06 10:01:56928

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