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      標簽　>　光刻技術

      光刻技術

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      隨著半導體技術的發(fā)展，光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數量級（從毫米級到亞微米級），已從常規(guī)光學技術發(fā)展到應用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術；使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃數量級范圍。光刻技術成為一種精密的微細加工技術。

      文章：143個 瀏覽：16557次 帖子：5個

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      2020-06-01 標簽：微流控光刻技術 3.8k 0

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      三星在其位于韓國華城的Fab S3生產7LPP EUV芯片。該公司每天可以在其ASML Twinscan NXE：3400B EUVL步進掃描系統(tǒng)和每個...

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      芯片升級神助攻 光刻技術你了解多少？

      光刻技術是集成電路最重要的加工工藝。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，占芯片制造成本的35%以上。

      2018-04-22 標簽：光刻技術 4.2k 0

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