1. 豐田汽車將從下周一重啟日本汽車工廠的生產(chǎn)
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豐田汽車表示將于下周一重新啟動日本的汽車工廠,但考慮到地震帶來的影響,將另行決定1月15日之后的運(yùn)營情況。1月7日,豐田汽車表示,盡管部分供應(yīng)商因最近在日本能登半島發(fā)生的強(qiáng)烈地震而受到干擾,但將從下周一開始按計(jì)劃恢復(fù)日本本土的汽車生產(chǎn)。
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由于余震仍在持續(xù),且豐田許多供應(yīng)商和附屬公司在地震中遭受損害,豐田表示將使用庫存區(qū)域以外的零部件。同時(shí),豐田也將評估其供應(yīng)商在1月15日之后的情況,然后再確定其持續(xù)的生產(chǎn)活動。豐田此前曾表示,由于供應(yīng)商在地震中受到損害,無法按計(jì)劃開始生產(chǎn)。豐田新任CEO(Koji Sato)本周五談到,公司正試圖了解供應(yīng)鏈情況,因?yàn)楣?yīng)商愛信和住友電氣受到了地震的破壞。
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2. 英特爾率先擁抱 High-NA EUV 光刻機(jī),臺積電持觀望態(tài)度
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芯片巨頭英特爾近日喜獲業(yè)內(nèi)首臺具有 0.55 數(shù)值孔徑(High-NA)的 ASML 極紫外(EUV)光刻機(jī),將助力其在未來幾年實(shí)現(xiàn)更先進(jìn)的芯片制程。與之形成鮮明對比的是,另一巨頭臺積電則按兵不動,似乎并不急于加入這場下一代光刻技術(shù)的競賽。業(yè)內(nèi)分析師預(yù)計(jì),臺積電可能要到 2030 年甚至更晚才會采用這項(xiàng)技術(shù)。
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英特爾此次獲得的 High-NA EUV 光刻機(jī)將首先用于學(xué)習(xí)和掌握這項(xiàng)技術(shù),預(yù)計(jì)在未來兩三年內(nèi)用于 18A (1.8nm 工藝)之后的芯片制程節(jié)點(diǎn)。相比之下,臺積電則采取了更加謹(jǐn)慎的策略,華興資本和 SemiAnalysis 的分析師認(rèn)為,臺積電可能要到 N1.4 制程之后(預(yù)計(jì)在 2030 年后)才會采用 High-NA EUV 技術(shù)。
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3. 7.48~10.48 萬元,東風(fēng)納米 01 純電小車上市:CLTC 續(xù)航 330/430km
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東風(fēng)納米旗下首款車型 —— 納米 01正式宣布上市,指導(dǎo)價(jià) 7.48 萬元起。這款小車基于東風(fēng)旗下的「量子 3 號」純電架構(gòu)打造,長寬高分別為 4030/1810/1570mm,軸距 2660mm。
動力方面,納米 01 將會采用單電機(jī)布局,最大功率 70kW,最大扭矩 160N?m。根據(jù)版本不同,該車將會搭載不同容量的電池組,官方 CLTC 續(xù)航里程為 330km 和 430km。值得一提的是,這款純電小車采用了馬赫 E 十合一電驅(qū)動總成,能效百分比高達(dá) 91.9%。根據(jù)官方的說法,「量子 3 號」平臺還配備了固態(tài)電池和輪轂電機(jī)(這款新車暫未提供),可實(shí)現(xiàn)大轉(zhuǎn)向角度,最低能耗 11 kWh / 100km,CLTC 達(dá)成率 89%,最快支持 8 分鐘補(bǔ)能 200 km。
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4. 華為 P70 手機(jī) Deco 玻璃飾板泄露,采用 50MP 國產(chǎn)超大底 + 國產(chǎn)物理可變光圈
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據(jù)爆料華為 P70 將搭載 50MP 國產(chǎn)超大底 + 國產(chǎn)物理可變光圈,有網(wǎng)友曬出 Deco 玻璃飾板泄露圖片,可以看出與此前公布的線稿大致相同。
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此前,有博主分享一張華為 P70 超前瞻線稿,可以看出采用后置三攝,三顆鏡頭呈三角狀排列,布局上類似 P60。據(jù)外媒 GSMArena 報(bào)道,華為 P70 在攝影模組方面有一定升級,據(jù)稱新機(jī)超廣角鏡頭使用 1G6P 結(jié)構(gòu)(一層玻璃鏡片 + 六層塑料鏡片),主攝配備 1 英寸傳感器。
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5. 蘋果 M3 iPad Pro 將首次引入 OLED 屏幕,分析師稱亮度高、壽命長、機(jī)身薄
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據(jù)爆料,蘋果將于今年晚些時(shí)候推出搭載 M3 芯片的 iPad Pro,并首次采用 OLED 顯示屏技術(shù)。知名顯示器供應(yīng)鏈咨詢公司 DSCC 的 CEO 羅斯?楊(Ross Young)透露了最新相關(guān)消息,他認(rèn)為蘋果將為 M3 iPad Pro 引進(jìn)多項(xiàng)首次應(yīng)用于該系列產(chǎn)品的技術(shù),并對即將采用的 OLED 面板給予了高度評價(jià)。
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據(jù)傳,11 英寸和 12.9 英寸的 iPad Pro 機(jī)型都將配備 LTPO 背板,類似于蘋果最新款 iPhone 15 Pro 和 iPhone 15 Pro Max 所采用的技術(shù)。羅斯?楊表示,這些即將上市的設(shè)備還將是首批采用串聯(lián)堆疊技術(shù)的平板電腦。
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6. 消息稱華為在汽車充電方面可能會打造一個(gè)聯(lián)盟,提高充電樁利用率
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賽力斯與華為數(shù)字能源技術(shù)有限公司共同宣布,雙方在深圳簽署全面戰(zhàn)略合作協(xié)議。據(jù)第一財(cái)經(jīng)報(bào)道,有業(yè)內(nèi)人士稱,華為在充電方面可能會打造一個(gè)聯(lián)盟,以提高充電樁的利用率,加速走向盈利。
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華為數(shù)字能源技術(shù)有限公司總裁侯金龍發(fā)表演講表示,將推動全面高壓化、超快充,推動新能源汽車與充電基礎(chǔ)設(shè)施高質(zhì)量協(xié)同發(fā)展。侯金龍表示,華為數(shù)字能源將攜手客戶、伙伴,計(jì)劃于 2024 年率先在全國 340 多個(gè)城市和主要公路部署超過 10 萬個(gè)華為全液冷超快充充電樁,實(shí)現(xiàn)“有路的地方就有高質(zhì)量充電”。
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今日看點(diǎn)丨英特爾率先擁抱 High-NA EUV 光刻機(jī);消息稱華為在汽車充電方面可能會打造一個(gè)聯(lián)盟,提高充電樁利
- 英特爾(179666)
- 華為(261259)
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- 充電樁(89070)
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華為鴻蒙—將帶來科技界的震動?
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交直流充電樁區(qū)別
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本帖最后由 wayntian 于 2013-2-23 11:33 編輯
說說充電樁 隨著電動汽車的發(fā)展,充電樁也成為當(dāng)下的一個(gè)很熱門的工業(yè)產(chǎn)品。我們初步接觸充電樁,有了點(diǎn)滴的感受。 先簡單
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1193這筆錢花的值!單價(jià)1.2億刀,中芯國際拿下EUV光刻機(jī)
,三星訂購了大約6臺,英特爾今年會引入3臺EUV光刻機(jī),GF也下了訂單,不過日經(jīng)新聞沒提到具體數(shù)量。
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14641關(guān)于EUV光刻機(jī)的分析介紹
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2019-09-03 17:18:18
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ASML研發(fā)第二代EUV光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度提升了70%
據(jù)韓媒報(bào)道稱,ASML正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機(jī),與現(xiàn)有光刻機(jī)相比,二代EUV光刻機(jī)最大的變化就是High NA透鏡,通過提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度兩大光刻機(jī)核心指標(biāo)提升70%,達(dá)到業(yè)界對幾何式芯片微縮的要求。
2019-08-07 11:24:39
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7084ASML研發(fā)新一代EUV光刻機(jī) 分辨率能提升70%左右
在EUV光刻機(jī)方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī),去年出貨26臺,創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:13:48
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3419曝ASML新一代EUV光刻機(jī)預(yù)計(jì)2022年開始出貨 將進(jìn)一步提升光刻機(jī)的精度
在EUV光刻機(jī)方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī),去年出貨26臺,創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:19
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5447光刻機(jī)能干什么_英特爾用的什么光刻機(jī)_光刻機(jī)在芯片生產(chǎn)有何作用
光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一,作為目前世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一,其實(shí)光刻機(jī)除了能用于生產(chǎn)芯片之外,還有用于封裝的光刻機(jī),或者是用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。目前,我國高端的光刻機(jī),基本上是從荷蘭ASML進(jìn)口的。
2020-03-18 11:12:02
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47310開發(fā)頂級光刻機(jī)的困難 頂級光刻機(jī)有多難搞?
頂級光刻機(jī)有多難搞?ASML的光刻機(jī),光一個(gè)零件他就調(diào)整了10年!拿荷蘭最新極紫外光EUV光刻機(jī)舉例,其內(nèi)部精密零件多達(dá)10萬個(gè),比汽車零件精細(xì)數(shù)十倍!
2020-07-02 09:38:39
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12919EUV光刻機(jī)的數(shù)量有望成為三星半導(dǎo)體成長的關(guān)鍵
據(jù)悉,ASML是全球唯一能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的廠商,年產(chǎn)量為40余臺,臺積電方面希望獲得全數(shù)供應(yīng)。EUV光刻機(jī)的價(jià)格昂貴,每臺要價(jià)約1.3億美元,由于是EUV制程必需的關(guān)鍵設(shè)備,臺積電與三星電子的競爭日益激烈。
2020-10-13 13:51:52
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2542EUV光刻機(jī)還能賣給中國嗎?
。媒體稱,臺積電采購的EUV光刻機(jī)已經(jīng)超過30臺,三星累計(jì)采購的EUV光刻機(jī)不到20臺。 圍繞芯片制造要用到的關(guān)鍵設(shè)備光刻機(jī),一直不缺話題。 比如,一臺EUV光刻機(jī)賣多少錢?誰買走了這些EUV光刻機(jī)?大陸廠商還能買到光刻機(jī)嗎?為何三星高管最近跑去荷蘭拜訪ASML總部? 上面這
2020-10-19 12:02:49
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ASML向中國出售EUV光刻機(jī),沒那么容易
中國需要光刻機(jī),尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī)。具體來說,就是 EUV (極紫外光源)光刻機(jī)。
2020-11-11 10:13:30
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5279
為何EUV光刻機(jī)會這么耗電呢
EUV(極紫外光)光刻機(jī),是目前半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已投入規(guī)模生產(chǎn)使用的最先進(jìn)光刻機(jī)類型。近來,有不少消息都指出,EUV光刻機(jī)耗電量非常大,甚至它還成為困擾臺積電的一大難題。 為何EUV光刻機(jī)會這么耗電呢
2021-02-14 14:05:00
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4746為什么都搶著買價(jià)格更昂貴的EUV光刻機(jī)?
目前,還有ASML有能力生產(chǎn)最先進(jìn)的EUV光刻機(jī),三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約,中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機(jī)。
2021-01-21 08:56:18
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5443ASML下一代EUV光刻機(jī)延期:至少2025年
的出貨不及預(yù)期的35臺,而且他們還宣布了下一代高NA的EUV光刻機(jī)要到2025-2026年之間才能規(guī)模應(yīng)用,意味著要延期了。 此前信息顯示,ASML下一代EUV光刻機(jī)最早是2022年開始出樣,大規(guī)模
2021-01-22 17:55:24
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3621SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)
隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下,EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn),之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī),率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝,現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了,SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 09:28:55
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2324SK海力士與ASML簽合同:SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)
。 據(jù)報(bào)道,SK海力士與ASML公司簽訂了一個(gè)超級大單,未來5年內(nèi)將斥資4.8萬億韓元,約合43.4億美元購買EUV光刻機(jī)。 SK海力士在一份監(jiān)管文件中稱,這筆交易是為了實(shí)現(xiàn)下一代工藝芯片量產(chǎn)的目標(biāo)。 ASML及SK海力士都沒有透露這么多資金到底購買了多少臺EUV光刻機(jī),不過從之
2021-02-25 09:30:23
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2709SK海力士砸4.8萬億韓元買EUV光刻機(jī)
隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下,EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn),之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī),率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝,現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了,SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 11:39:09
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2438中國有望獨(dú)立生產(chǎn)EUV光刻機(jī),打破ASML壟斷
一提起ASML這家公司,就少不了對光刻機(jī)問題的討論,因?yàn)榻刂聊壳?,ASML仍然是全球最領(lǐng)先的光刻機(jī)廠商。普通的DUV光刻機(jī)就不多說了,ASML每年都能賣出去很多臺,而在更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)方面,ASML更是占據(jù)了絕對壟斷的地位。
2021-02-27 09:59:42
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16218三星積極向唯一EUV光刻機(jī)廠商ASML爭取訂單
三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠商ASML爭取訂單,另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 09:52:41
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2409ASML第二代EUV光刻機(jī)跳票三年,售價(jià)恐貴出天際
第二代EUV光刻機(jī)原本預(yù)計(jì)最快可以2023年問世,但最新傳聞稱NXE:5000系列跳票,而且一下子就跳票三年,要到2025-2026年才有可能問世了。 要知道,ASML是全球唯一一家量產(chǎn)EUV光刻機(jī)
2021-06-26 16:55:28
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1795美國出手阻撓!禁止荷蘭將EUV光刻機(jī)賣給中國大陸
美國媒體7月19日報(bào)道,美國政府正在努力阻止荷蘭ASML EUV光刻機(jī)(極紫外光刻機(jī))進(jìn)入中國大陸。 報(bào)道稱,中國政府此前與荷蘭政府協(xié)商,要求允許中國公司購買ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)設(shè)備(極紫外光刻機(jī)
2021-07-21 16:52:25
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2514美國出手阻撓,禁止荷蘭將EUV光刻機(jī)賣給中國大陸
光刻機(jī)設(shè)備(極紫外光刻機(jī)),中方希望將這款價(jià)值1.5億美元的機(jī)器用于大陸芯片制造。 這款180噸重、售價(jià)1.5億美元的設(shè)備是艾司摩爾招牌產(chǎn)品,稱為「極紫外光(EUV)微影系統(tǒng)」,是制造最先進(jìn)微處理器必需。英特爾、三星電子、臺積電等公司都使用EUV設(shè)備,生
2021-07-25 17:35:15
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3479EUV光刻機(jī)何以造出5nm芯片
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/周凱揚(yáng))作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭,ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星,EUV光刻機(jī)的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆,也成了
2021-12-07 14:01:10
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12038ASML正致力于新一代High-NA光刻機(jī)制造,每臺預(yù)計(jì)售價(jià)4億美元
近日,據(jù)外媒路透社報(bào)道稱,全球最先進(jìn)的光刻機(jī)生產(chǎn)廠商ASML正致力于進(jìn)行新一代光刻機(jī)的制造,預(yù)計(jì)第一臺會在明年完工,將在2025能夠正式投入使用,每臺新光刻機(jī)售價(jià)預(yù)計(jì)在4億美元左右。 新光刻機(jī)采用
2022-05-22 14:40:59
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5173三星董事李在镕親自拜訪ASML,只為爭取到EUV光刻機(jī)
據(jù)外媒報(bào)道稱,三星電子公司董事李在镕今天將起身前往荷蘭拜訪光刻機(jī)廠商ASML,此舉表明三星很有可能會大量采購光刻機(jī)。 據(jù)了解,李在镕將會在荷蘭待上11天,此次花費(fèi)十多天前往荷蘭拜訪ASML,有多家
2022-06-07 14:18:04
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1761臺積電將于2024年引進(jìn)ASML最新EUV光刻機(jī),主要用于相關(guān)研究
日前,在臺積電召開的會議上,有一名高管稱臺積電將于2024年引進(jìn)ASML正在研發(fā)的最新的High-NA EUV光刻機(jī)。 會議中,該高管稱:為了滿足客戶所需的相關(guān)基礎(chǔ)設(shè)施的開發(fā)等,臺積電將于2024年
2022-06-17 16:33:27
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7596荷蘭AMSL公司正在研發(fā)一種新版本的EUV光刻機(jī)
據(jù)CNBC報(bào)道稱,世界聞名的先進(jìn)光刻機(jī)智造商荷蘭AMSL公司正在研發(fā)一種新版本的EUV光刻機(jī)。
2022-06-18 08:13:03
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2334ASML的High-NA光刻機(jī)居然只賣出5臺,大多芯片廠商不為所動
2nm制程的量產(chǎn)。 目前市面上最先進(jìn)的是EUV光刻機(jī),而其能夠支持制造的先進(jìn)制程工藝最高為3nm,也就是說,再往后的2nm等工藝就要用更加先進(jìn)的光刻機(jī)來完成。 ASML為此正在研發(fā)一種特別的EUV光刻機(jī)——High-NA EUV光刻機(jī)。這種光刻機(jī)所采用的技術(shù)能夠
2022-06-22 14:44:16
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21722納米即將進(jìn)入下世代的埃米(angstorm)時(shí)代布局
英特爾今年初宣布已率先向 ASML 購買業(yè)界首臺 High-NA 量產(chǎn)型 EUV 設(shè)備 EXE:5200,其為首款具備 High-NA 的 EUV 大量生產(chǎn)系統(tǒng),每小時(shí)晶圓曝光產(chǎn)能超過 200 片,英特爾并宣布將于 2025 年開始以 High-NA EUV 進(jìn)行生產(chǎn)。
2022-06-22 15:15:10
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3103新EUV光刻機(jī)售價(jià)超26億,Intel成為首位買家,將于2025年首次交付
3nm制程,據(jù)了解,更加先進(jìn)的制程就需要更先進(jìn)的光刻機(jī)來完成了。 光刻機(jī)廠商ASML為此正在研發(fā)新一代High NA EUV光刻機(jī),這種EUV光刻機(jī)的NA數(shù)值孔徑比現(xiàn)在0.33口徑的EUV光刻機(jī)還要高,達(dá)到了0.55口徑,也就是說High NA EUV光刻機(jī)的分辨率更高,能
2022-06-28 15:07:12
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8591euv光刻機(jī)三大核心技術(shù) 哪些公司有euv光刻機(jī)
中國芯的進(jìn)步那是有目共睹,我國在光刻機(jī),特別是在EUV光刻機(jī)方面,更是不斷尋求填補(bǔ)空白的途徑。
2022-07-05 10:38:35
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18612三星斥資買新一代光刻機(jī) 中芯光刻機(jī)最新消息
三星電子和ASML就引進(jìn)今年生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機(jī)達(dá)成采購協(xié)議。
2022-07-05 15:26:15
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6764euv光刻機(jī)可以干什么 光刻工藝原理
光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。
2022-07-06 11:03:07
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8348中國euv光刻機(jī)三大突破 光刻機(jī)的三個(gè)系統(tǒng)
如今世界最先進(jìn)的EUV光刻機(jī),只有asml一家公司可以制造出來。
2022-07-06 11:19:38
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52761euv光刻機(jī)出現(xiàn)時(shí)間 ASML研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)
EUV光刻機(jī)是在2018年開始出現(xiàn),并在2019年開始大量交付,而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:44
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5306euv光刻機(jī)目前幾納米 中國5納米光刻機(jī)突破了嗎
ASML的極紫外光刻機(jī)(EUV),這個(gè)是當(dāng)前世界頂級的光刻機(jī)設(shè)備。 在芯片加工的時(shí)候,光刻機(jī)是用一系列光源能量和形狀控制手段,通過帶有電路圖的掩模傳輸光束。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項(xiàng)先
2022-07-10 11:17:42
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53101euv光刻機(jī)是哪個(gè)國家的
說到芯片,估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么,但說到光刻,許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒有光刻機(jī)的話,就無法生產(chǎn)芯片,因此每個(gè)人都知道光刻機(jī)對芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻機(jī)
2022-07-10 11:42:27
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8556euv光刻機(jī)是干什么的
可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強(qiáng)大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。 EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前,最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML公司的EUV光刻機(jī)。預(yù)計(jì)在光路系統(tǒng)的幫助下,能
2022-07-10 14:35:06
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7938duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是什么
目前,光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù),EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:10
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87067euv光刻機(jī)原理是什么
光刻機(jī)的原理是接近或接觸光刻,通過無限接近,將圖案復(fù)制到掩模上。直寫光刻是將光束聚焦到一個(gè)點(diǎn)上,通過移動工作臺或透鏡掃描實(shí)現(xiàn)任意圖形處理。投影光刻是集成電路的主流光刻技術(shù),具有效率高、無損傷等優(yōu)點(diǎn)。 EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工
2022-07-10 15:28:10
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18347euv光刻機(jī)用途是什么
光刻機(jī)是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備,其技術(shù)含量和價(jià)值含量都很高。那么euv光刻機(jī)用途是什么呢?下面我們就一起來看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制等
2022-07-10 16:34:40
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5149ASML下一代EUV光刻機(jī)High-NA來了!
對于3nm后的節(jié)點(diǎn),ASML及其合作伙伴正在研究一種全新的EUV工具——Twinscan EXE:5000系列,具有0.55 NA(High-NA)透鏡,能夠達(dá)到8nm分辨率,可以避免3nm及以上的多圖案。
2022-08-17 15:44:04
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3078密度提升近3倍,高NA EUV光刻機(jī)有何玄機(jī)
投入使用高NA EUV光刻機(jī)已經(jīng)勢在必行了。 據(jù)了解,一臺高NA EUV的光刻機(jī)成本就可能達(dá)到3.2億美元,這樣一個(gè)天價(jià)的光刻系統(tǒng)究竟能帶來哪些優(yōu)勢,又存在哪些挑戰(zhàn)呢? 規(guī)模和密度的平衡,我們?yōu)槭裁葱枰?b class="flag-6" style="color: red">NA光刻機(jī)? 從今年發(fā)布的不少新品來看,即便工藝沒有太大的變化,芯片
2022-12-07 07:25:02
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1848ASML CEO 承諾年底前交付首臺 High-NA EUV ***;蘋果與Arm簽署新的芯片技術(shù)長期協(xié)議,延續(xù)至2040年以后
熱點(diǎn)新聞 1、ASML CEO 承諾年底前交付首臺 High-NA EUV 光刻機(jī):體積和卡車相當(dāng),每臺售價(jià) 3 億美元 ASML 首席執(zhí)行官 Peter Wennink 近日在接受采訪時(shí)表示,盡管
2023-09-06 16:50:06
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1420
生產(chǎn)2納米的利器!成本高達(dá)3億歐元,High-NA EUV***年底交付 !
ASML是歐洲最大半導(dǎo)體設(shè)備商,主導(dǎo)全球光刻機(jī)設(shè)備市場,光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造關(guān)鍵步驟,但高數(shù)值孔徑(High NA)EUV,Peter Wennink指有些供應(yīng)商提高產(chǎn)能及提供適當(dāng)技術(shù)遇到困難,導(dǎo)致延誤。但即便如此,第一批產(chǎn)品仍會在年底推出。
2023-09-08 16:54:10
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1629IBM、美光、應(yīng)用材料、東京電子宣布合作建設(shè) High-NA EUV 研發(fā)中心
Albany NanoTech Complex 建設(shè)下一代 High-NA EUV 半導(dǎo)體研發(fā)中心。 根據(jù)聲明,負(fù)責(zé)協(xié)調(diào)該設(shè)施建設(shè)的非營利性機(jī)構(gòu) NY Creates 將利用 10 億美元州政府資金向
2023-12-14 08:44:18
935
935英特爾搶下6種ASML HIGH NA光刻機(jī)
如果我們假設(shè)光刻機(jī)成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個(gè)光刻機(jī)的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
2023-12-28 11:31:39
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1609英特爾:預(yù)計(jì)2027年末10A節(jié)點(diǎn)投產(chǎn),投資千億美元擴(kuò)大晶圓制造
根據(jù)先前記載,10A將會是英特爾繼使用High-NA EUV光刻技術(shù)的首批主要節(jié)點(diǎn)之后的第二例,預(yù)計(jì)可呈現(xiàn)出超過10%的每瓦性能改善。
2024-02-28 16:00:22
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1220英特爾成為全球首家購買3.8億美元高數(shù)值孔徑光刻機(jī)的廠商
英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺高數(shù)值孔徑(High-NA)光刻機(jī)而成為新聞焦點(diǎn)。到目前為止,英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機(jī)的晶圓廠,據(jù)報(bào)道它們的售價(jià)約為3.8億美元
2024-03-06 14:49:01
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ASML 首臺新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝
ASML 官網(wǎng)尚未上線 Twinscan NXE:3800E 的信息頁面。 除了正在研發(fā)的 High-NA EUV 光刻機(jī) Twinscan EXE 系列,ASML 也為其 NXE 系列傳統(tǒng)數(shù)值孔徑
2024-03-14 08:42:34
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Intel和ASML宣布全球第一臺High-NA光刻機(jī)“首光”
荷蘭ASML是世界上最先進(jìn)的光刻設(shè)備制造商,最近該公司啟動了第一臺high-NA(numerical aperture,數(shù)值孔徑)設(shè)備,以確保其正常工作。Intel也加入了這一行列,因?yàn)樗鞘澜缟系?b class="flag-6" style="color: red">一家訂購該設(shè)備的代工廠。
2024-04-08 10:12:14
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2069阿斯麥(ASML)公司首臺高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)突破性成果
在半導(dǎo)體領(lǐng)域,技術(shù)創(chuàng)新是推動整個(gè)行業(yè)向前發(fā)展的重要動力。近日,荷蘭阿斯麥(ASML)公司宣布,成功打造了首臺采用0.55數(shù)值孔徑(NA)投影光學(xué)系統(tǒng)的高數(shù)值孔徑(High-NA)極紫外(EUV
2024-04-18 11:50:47
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英特爾完成高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī),將用于14A制程
半導(dǎo)體設(shè)備制造商阿斯麥(ASML)于去年底在社交媒體上發(fā)布照片,揭示已向英特爾提供第一套高數(shù)值孔徑EUV系統(tǒng)的關(guān)鍵部件。如今英特爾宣布已完成組裝,這無疑展示了其在行業(yè)中的領(lǐng)先地位。
2024-04-19 10:07:37
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1251英特爾突破技術(shù)壁壘:首臺商用High NA EUV光刻機(jī)成功組裝
英特爾的研發(fā)團(tuán)隊(duì)正致力于對這臺先進(jìn)的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行細(xì)致的校準(zhǔn)工作,以確保其能夠順利融入未來的生產(chǎn)線。
2024-04-22 15:52:56
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1974英特爾率先推出業(yè)界高數(shù)值孔徑 EUV 光刻系統(tǒng)
來源:Yole Group 英特爾代工已接收并組裝了業(yè)界首個(gè)高數(shù)值孔徑(高NA)極紫外(EUV)光刻系統(tǒng)。 新設(shè)備能夠大大提高下一代處理器的分辨率和功能擴(kuò)展,使英特爾代工廠能夠繼續(xù)超越英特爾 18A
2024-04-26 11:25:56
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956ASML發(fā)貨第二臺High NA EUV光刻機(jī),已成功印刷10nm線寬圖案
ASML公司近日宣布發(fā)貨了第二臺High NA EUV光刻機(jī),并且已成功印刷出10納米線寬圖案,這一重大突破標(biāo)志著半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的技術(shù)革新向前邁進(jìn)了一大步。
2024-04-29 10:44:34
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1739臺積電張曉強(qiáng):ASML High-NA EUV成本效益是關(guān)鍵
據(jù)今年2月份報(bào)道,荷蘭半導(dǎo)體制造設(shè)備巨頭ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻機(jī)的售價(jià),高達(dá)3.5億歐元(約合27.16億元人民幣)。而現(xiàn)有EUV光刻機(jī)的價(jià)格則為1.7億歐元(約合13.19億元人民幣)。
2024-05-15 14:42:38
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1174臺積電A16制程采用EUV光刻機(jī),2026年下半年量產(chǎn)
據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機(jī),而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計(jì)劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機(jī)。
2024-05-17 17:21:47
2030
2030ASML考慮推出通用EUV光刻平臺
范登布林克指出,更高的數(shù)值孔徑能提高光刻分辨率。他進(jìn)一步解釋說,Hyper NA 光刻機(jī)將簡化先進(jìn)制程生產(chǎn)流程,避免因使用 High NA 光刻機(jī)進(jìn)行雙重圖案化導(dǎo)致的額外步驟及風(fēng)險(xiǎn)。
2024-05-23 09:51:32
1003
1003Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意,未采用高NA EUV光刻機(jī)
在全球四大先進(jìn)制程代工巨頭(包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn)。
2024-05-27 14:37:22
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1245ASML擬于2030年推出Hyper-NA EUV光刻機(jī),將芯片密度限制再縮小
,約在2030年將提供新的Hyper-NA EUV技術(shù)。目前仍處于開發(fā)初期階段的Hyper-NA將遵循High-NA系統(tǒng),ASML今年初在英特爾奧勒岡廠首度安裝High-NA系統(tǒng)。 報(bào)導(dǎo),van
2024-06-18 09:57:53
1206
1206日本與英特爾合建半導(dǎo)體研發(fā)中心,將配備EUV光刻機(jī)
英特爾將在日本設(shè)立先進(jìn)半導(dǎo)體研發(fā)中心,配備EUV光刻設(shè)備,支持日本半導(dǎo)體設(shè)備和材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展,增強(qiáng)本土研發(fā)能力。 據(jù)日經(jīng)亞洲(Nikkei Asia)9月3日報(bào)導(dǎo),美國處理器大廠英特爾已決定與日
2024-09-05 10:57:30
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989今日看點(diǎn)丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉;三星將于2025年初引進(jìn)High NA EUV光刻機(jī)
1. 三星將于2025 年初引進(jìn)High NA EUV 光刻機(jī),加快開發(fā)1nm 芯片 ? 據(jù)報(bào)道,三星電子正準(zhǔn)備在2025年初引入其首款High NA EUV(極紫外)光刻機(jī)設(shè)備,這標(biāo)志著這家韓國
2024-10-31 10:56:06
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1494今日看點(diǎn)丨英特爾將更多Arrow Lake芯片訂單外包給臺積電;西門子全球裁員高達(dá)5000人
據(jù)傳臺積電和英特爾等公司都已下單。外媒本月稍早引述消息人士報(bào)導(dǎo),臺積電訂購的High-NA EUV設(shè)備首批機(jī)件,將
2024-11-15 11:24:34
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1042如何提高光刻機(jī)的NA值
本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)的NA值會比上一代更大一些。NA,又名
2025-01-20 09:44:18
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押注2nm!英特爾26億搶單下一代 EUV光刻機(jī),臺積電三星決戰(zhàn)2025!
了。 ? 芯片制造離不開光刻機(jī),特別是在先進(jìn)制程上,EUV光刻機(jī)由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時(shí),盡管目前市面上,EUV光刻機(jī)客戶僅有三家,但需求不斷增加的情況底下,EUV光刻機(jī)依然供不應(yīng)求。 ? 針對后3nm時(shí)代的芯片制造工藝,High-NA(高數(shù)值孔徑)EUV光刻機(jī)
2022-06-29 08:32:00
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