其他工藝器件的參與才能保障芯片的高良率。 ? 以光刻膠為例，這是決定芯片 圖案能否被精準(zhǔn) 刻下來(lái)的“感光神經(jīng)膜”。并且隨著芯片步入 7nm及以下先進(jìn)制程芯片 時(shí)代，不僅需要EUV光刻機(jī)，更需要EUV光刻膠的參與。但在過(guò)去 國(guó)內(nèi)長(zhǎng)期依賴(lài)進(jìn)
2025-10-28 08:53:35
6234 ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長(zhǎng)期以來(lái)，荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
2025-10-04 03:18:009690 
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級(jí)封裝（FOPLP）技術(shù)為何會(huì)獲得臺(tái)積電、三星等代工大廠的青睞？比較傳統(tǒng)的光刻機(jī)設(shè)備，尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同？能解決AI芯片生產(chǎn)當(dāng)中的哪些痛點(diǎn)問(wèn)題？ 針對(duì)2nm、3nm芯片制造難題，光刻機(jī)龍頭企業(yè)ASML新款光刻機(jī)又能帶來(lái)哪些優(yōu)勢(shì)？本文進(jìn)行詳細(xì)分析。
2025-07-24 09:29:397824 
致力于提供高品質(zhì)汽車(chē)驅(qū)動(dòng)芯片和高品質(zhì)信號(hào)鏈芯片供應(yīng)商上海類(lèi)比半導(dǎo)體技術(shù)有限公司（下稱(chēng)“類(lèi)比半導(dǎo)體”或“類(lèi)比”）宣布全新第二代高邊開(kāi)關(guān)芯片HD80152和SPI高邊HD708204量產(chǎn)。自
2026-01-05 17:57:12108 
的關(guān)鍵。無(wú)錫迪仕科技推出的全極性微功耗霍爾開(kāi)關(guān)DH629，以三大技術(shù)優(yōu)勢(shì)重新定義了行李箱的智能化標(biāo)準(zhǔn)，推動(dòng)行業(yè)進(jìn)入第二代技術(shù)迭代階段。 一、技術(shù)革新：DH629的核心突破 DH629作為專(zhuān)為移動(dòng)設(shè)備設(shè)計(jì)的第二代霍爾元件，其技術(shù)參數(shù)
2026-01-05 15:00:1261 新品CoolSiCMOSFET400V與440V第二代器件CoolSiCMOSFET400V與440V第二代器件兼具高魯棒性、超低開(kāi)關(guān)損耗與低通態(tài)電阻等優(yōu)勢(shì)，同時(shí)有助于優(yōu)化系統(tǒng)成本。該系列400V
2025-12-31 09:05:13326 
的力興電子第二代手持式系列儀器，通過(guò)多維度技術(shù)迭代，為行業(yè)提供了更貼合實(shí)際需求的解決方案。 一、核心測(cè)量功能：精準(zhǔn)與高效的雙重突破 電力檢測(cè)的核心訴求是數(shù)據(jù)精準(zhǔn)與測(cè)試高效，這也是傳統(tǒng)設(shè)備的主要痛點(diǎn)。力興電子第
2025-12-19 14:51:1497 
在7納米、3納米等先進(jìn)芯片制造中，光刻機(jī)0.1納米級(jí)的曝光精度離不開(kāi)高精度石英壓力傳感器的支撐，其作為“隱形功臣”，是保障工藝穩(wěn)定、設(shè)備安全與產(chǎn)品良率的核心部件。本文聚焦石英壓力傳感器在光刻機(jī)中
2025-12-12 13:02:26424 近期國(guó)內(nèi)和歐洲密切出臺(tái)構(gòu)網(wǎng)技術(shù)相關(guān)政策法規(guī)，再次點(diǎn)燃了構(gòu)網(wǎng)技術(shù)的全球關(guān)注熱度。上能電氣以第二代增強(qiáng)混動(dòng)構(gòu)網(wǎng)技術(shù)的“剛性支撐”和“柔性調(diào)節(jié)”特性曲線，勾勒出基于新能源和電力電子為主體的新型電力系統(tǒng)發(fā)展藍(lán)圖。緊接上一期的探討，本篇上能電氣將繼續(xù)呈現(xiàn)第二代增強(qiáng)混動(dòng)構(gòu)網(wǎng)技術(shù)的核心功能。
2025-11-25 18:15:231651 三星公布了即將推出的首代2nm芯片性能數(shù)據(jù)；據(jù)悉，2nm工藝采用的是全柵極環(huán)繞（GAA）晶體管技術(shù)，相比第二代3nm工藝，性能提升5%，功耗效率提高8%，芯片面積縮小5%。
2025-11-19 15:34:341116 新品第二代CoolSiCMOSFETG21400V,TO-247PLUS-4回流焊封裝采用TO-247PLUS-4回流焊封裝的CoolSiCMOSFETG21400V功率器件，是電動(dòng)汽車(chē)充電、儲(chǔ)能
2025-11-17 17:02:541207 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 在第八屆中國(guó)國(guó)際進(jìn)口博覽會(huì)（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“進(jìn)博會(huì)”）上，全球光刻機(jī)巨頭ASML以“積納米之微，成大千世界”為主題亮相，向全球展示其面向主流芯片市場(chǎng)的全景光刻解決方案。這是ASML
2025-11-13 09:12:551923 近日，深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司（簡(jiǎn)稱(chēng)“穩(wěn)頂聚芯”）宣布，其自主研發(fā)的首臺(tái)國(guó)產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)已成功出廠，標(biāo)志著我國(guó)在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進(jìn)展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進(jìn)式光刻機(jī)屬于WS180i
2025-10-10 17:36:33929 。 隨著高精度三維掃描技術(shù)的飛速發(fā)展，無(wú)線掃描這一應(yīng)用形式不斷深化，經(jīng)過(guò)這些年的發(fā)展，先臨三維已經(jīng)歷經(jīng)第一代、第二代直至第三代技術(shù)。第一代技術(shù)需要配合外置無(wú)線模塊使用，通過(guò)外置的無(wú)線模塊將數(shù)據(jù)傳輸至外置電腦，第二代則在第一代基
2025-09-26 11:26:46407 
EUV（極紫外）光刻技術(shù)憑借 13.5nm 的短波長(zhǎng)，成為 7nm 及以下節(jié)點(diǎn)集成電路制造的核心工藝，其光刻后形成的三維圖形（如鰭片、柵極、接觸孔等）尺寸通常在 5-50nm 范圍，高度 50-500nm。
2025-09-20 09:16:09592 %。至少將GAA納米片提升幾個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)。
2、晶背供電技術(shù)
3、EUV光刻機(jī)與其他競(jìng)爭(zhēng)技術(shù)
光刻技術(shù)是制造3nm、5nm等工藝節(jié)點(diǎn)的高端半導(dǎo)體芯片的關(guān)鍵技術(shù)。是將設(shè)計(jì)好的芯片版圖圖形轉(zhuǎn)移到硅晶圓上的一種精細(xì)
2025-09-15 14:50:58
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 隨著集成電路工藝的不斷突破， 當(dāng)制程節(jié)點(diǎn)持續(xù)向7nm及以下邁進(jìn)，傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已難以滿(mǎn)足高精度、高密度的制造需求，此時(shí)，波長(zhǎng)13.5nm的極紫外（EUV）光刻技術(shù)逐漸成為支撐
2025-08-17 00:03:004219 澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(jī)（EBL）是一款高性能、高精度的光刻設(shè)備，專(zhuān)為半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)采用先進(jìn)的場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)Y(jié)合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)，確保光刻質(zhì)量?jī)?yōu)異且
2025-08-15 15:14:01
澤攸科技ZML10A是一款創(chuàng)新的桌面級(jí)無(wú)掩膜光刻設(shè)備，專(zhuān)為高效、精準(zhǔn)的微納加工需求設(shè)計(jì)。該設(shè)備采用高功率、高均勻度的LED光源，并結(jié)合先進(jìn)的DLP技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了黃光或綠光引導(dǎo)曝光功能，真正做到
2025-08-15 15:11:55
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道，近日，上海芯上微裝科技股份有限公司（簡(jiǎn)稱(chēng)：芯上微裝，英文簡(jiǎn)稱(chēng)：AMIES）第500臺(tái)步進(jìn)光刻機(jī)成功交付，并舉辦了第500臺(tái) 步進(jìn)光刻機(jī) 交付儀式。 ? ? 光刻是半導(dǎo)體器件
2025-08-13 09:41:341988 
新品第二代CoolSiCMOSFET1200VQ-DPAK封裝分立器件產(chǎn)品擴(kuò)展CoolSiC1200VMOSFET（頂部散熱Q-DPAK單管封裝）專(zhuān)為工業(yè)應(yīng)用設(shè)計(jì)，適用于電動(dòng)汽車(chē)充電、光伏
2025-08-11 17:04:311132 今日，南芯科技（證券代碼：688484）正式發(fā)布第二代車(chē)規(guī)級(jí)高邊開(kāi)關(guān) (HSD) SC77450CQ，基于國(guó)內(nèi)自主研發(fā)的垂直溝道 BCD 集成工藝和全國(guó)產(chǎn)化封測(cè)供應(yīng)鏈，在 N 型襯底單晶圓上實(shí)現(xiàn)了
2025-08-05 15:17:141221 
? ? 時(shí)隔21年，佳能再開(kāi)新光刻機(jī)工廠 ? 日前，據(jù)《日本經(jīng)濟(jì)新聞》報(bào)道，佳能在當(dāng)?shù)匾患椅挥跂心究h宇都宮市的半導(dǎo)體光刻設(shè)備工廠舉行開(kāi)業(yè)儀式，這也是佳能時(shí)隔21年開(kāi)設(shè)的首家新光刻機(jī)廠。佳能宇都宮工廠
2025-08-05 10:23:382173 7 月 31 日消息，據(jù)《日經(jīng)新聞》報(bào)道，日本相機(jī)、打印機(jī)、光刻機(jī)大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機(jī)制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn)，主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備，為全球芯片封裝
2025-08-04 17:39:28712 在AOV技術(shù)發(fā)展版圖中，覓睿與君正緊密攜手，共同繪就了創(chuàng)新畫(huà)卷。2024年，君正推出行業(yè)首顆AOV芯片T41，覓睿率先將其技術(shù)落地，成為該領(lǐng)域的開(kāi)拓者。如今，隨著君正T32VN規(guī)格的發(fā)布，覓?；诖搜邪l(fā)的第二代AOV產(chǎn)品震撼亮相，續(xù)寫(xiě)技術(shù)創(chuàng)新傳奇。
2025-07-30 13:48:581247 
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