高技術(shù)裝備的使用，光刻機(jī)就是發(fā)展國(guó)產(chǎn)芯片的核心技術(shù)裝備，國(guó)內(nèi)有家公司將使用最先進(jìn)的光刻機(jī)裝備，鉆研7nm制程的芯片制造。。
有些朋友會(huì)詫異，咱們國(guó)產(chǎn)芯片怎樣會(huì)進(jìn)展到7nm工藝呢
2018-10-05 08:16:36
50051 光刻工藝貫穿整個(gè)芯片制造流程的多次重復(fù)轉(zhuǎn)印環(huán)節(jié)，對(duì)于集成電路的微縮化和高性能起著決定性作用。隨著半導(dǎo)體制造工藝演進(jìn)，對(duì)光刻分辨率、套準(zhǔn)精度和可靠性的要求持續(xù)攀升，光刻技術(shù)也將不斷演化，支持更為先進(jìn)的制程與更復(fù)雜的器件設(shè)計(jì)。
2025-03-27 09:21:333276 
作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭，ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺(tái)積電還是三星，EUV光刻機(jī)的購(gòu)置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了7nm之下不可或缺的制造設(shè)備
2021-12-01 10:07:4113656 把被攝物體的影像復(fù)制到底片上?！ 《鳤SML光刻機(jī)在做的光刻，我們稱之為微影制程，原理是將高能雷射光穿過光罩（reticle），將光罩上的電路圖形透過聚光鏡（projectionlens），將影像縮小
2020-09-02 17:38:07
想知道為啥同一光源為什么可以衍生出這么多不同工藝節(jié)點(diǎn)，以Intel為例，2000年用的是180nm，而現(xiàn)在已經(jīng)是10nm了，其實(shí)光刻機(jī)決定了半導(dǎo)體工藝的制程工藝，光刻機(jī)的精度跟光源的波長(zhǎng)、物鏡的數(shù)值孔徑
2020-07-07 14:22:55
。如，美國(guó)的高通、博通、AMD，中國(guó)***的聯(lián)發(fā)科，大陸的華為海思、展訊等。國(guó)內(nèi)單片機(jī)芯片：核心設(shè)備單片機(jī)芯片良品率取決于晶圓廠整體水平，但加工精度完全取決于核心設(shè)備，就是前面提到的“光刻機(jī)”。光刻機(jī)
2018-09-03 16:48:04
的有氧化爐、沉積設(shè)備、光刻機(jī)、刻蝕設(shè)備、離子注入機(jī)、清洗機(jī)、化學(xué)研磨設(shè)備等。以上是今日Enroo關(guān)于晶圓制造工藝及半導(dǎo)體設(shè)備的相關(guān)分享。
2018-10-15 15:11:22
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進(jìn)步，對(duì)電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長(zhǎng)和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān)，電子波長(zhǎng)可通過增加加速電極電壓來減小波長(zhǎng)，而電子束聚焦后
2025-05-07 06:03:45
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機(jī)作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對(duì)芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽(yù)為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國(guó)際的公報(bào)，目...
2021-07-29 09:36:46
GK-1000光刻掩膜版測(cè)溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
進(jìn)入10nm工藝節(jié)點(diǎn)之后，EUV光刻機(jī)越來越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣出18臺(tái)EUV光刻機(jī)，總價(jià)值超過20億歐元，折合每套系統(tǒng)售價(jià)超過1億歐元，可謂價(jià)值連城。
2017-01-19 18:22:594096 本文以光刻機(jī)為中心，主要介紹了光刻機(jī)的分類、光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)組成、光刻機(jī)的性能指標(biāo)、光刻機(jī)的工藝流程及工作原理。
2017-12-19 13:33:01166595 
光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟，耗時(shí)長(zhǎng)、成本高。半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的難點(diǎn)和關(guān)鍵點(diǎn)在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上，這一過程通過光刻來實(shí)現(xiàn)， 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能
2018-04-08 16:10:52171954 
光刻機(jī)是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的核心設(shè)備， 技術(shù)含量、價(jià)值含量極高。 光刻機(jī)涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密物料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)，是所有半導(dǎo)體制造設(shè)備中技術(shù)含量最高的設(shè)備，因此也具備極高的單臺(tái)價(jià)值量。
2018-04-10 10:19:4737625 在半導(dǎo)體芯片制造設(shè)備中，投資最大、也是最為關(guān)鍵的是光刻機(jī)，光刻機(jī)同時(shí)也是精度與難度最高、技術(shù)最為密集、進(jìn)步最快的一種系統(tǒng)性工程設(shè)備。光學(xué)光刻技術(shù)與其它光刻技術(shù)相比，具有生產(chǎn)率高、成本低、易實(shí)現(xiàn)高的對(duì)準(zhǔn)和套刻精度、掩模制作相對(duì)簡(jiǎn)單、工藝條件容易掌握等優(yōu)點(diǎn)，一直是半導(dǎo)體芯片制造產(chǎn)業(yè)中的主流光刻技術(shù)。
2018-04-10 11:26:34217055 
，EUV極紫外光刻機(jī)成為突破制程工藝的關(guān)鍵。
光刻機(jī)曾經(jīng)也是日本佳能、尼康公司的重要產(chǎn)品，不過現(xiàn)在的高端光刻機(jī)已經(jīng)被ASML壟斷，在EUV光刻機(jī)上更是獨(dú)一份。日經(jīng)新聞亞洲版今天報(bào)道稱，中
2018-05-20 10:32:3714641 ，一款芯片往往需要經(jīng)過幾十道光刻工藝，每次都需要使用光刻機(jī)把電路的設(shè)計(jì)圖形做到硅片上去。所以，人們經(jīng)常說到的多少多少納米的工藝節(jié)點(diǎn)，往往就是由光刻機(jī)及其相關(guān)工藝所決定的或者說它是最核心的一個(gè)因素
2018-07-13 17:25:006042 格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示，如果在5nm的時(shí)候沒有使用EUV光刻機(jī)，那么光刻的步驟將會(huì)超過100步，這會(huì)讓人瘋狂。所以所EUV光刻機(jī)無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具，未來圍繞EUV光刻機(jī)的爭(zhēng)奪戰(zhàn)將會(huì)變得異常激烈。因?yàn)檫@是決定這些廠商未來在先進(jìn)工藝市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:1814886 
光刻機(jī)是芯片制造最為重要的設(shè)備之一。目前，ASML壟斷了全世界的高端光刻機(jī)。
2019-11-28 17:19:3017428 光刻機(jī)是芯片制造最為重要的設(shè)備之一。目前，ASML壟斷了全世界的高端光刻機(jī)。中國(guó)一直以來都想掌握光刻機(jī)技術(shù)，但是上海微電子經(jīng)過17年的努力，才造出90nm的光刻機(jī)，這已經(jīng)十分不容易了，這可是0的突破。那么為什么光刻機(jī)這么難造呢？
2020-01-29 11:07:008876 大家都知道，光刻機(jī)是芯片制造過程當(dāng)中一個(gè)重要的環(huán)節(jié)，光刻機(jī)直接決定著芯片的質(zhì)量。而我國(guó)作為全球最大的芯片消費(fèi)國(guó)之一，每年進(jìn)口的芯片都達(dá)到幾萬(wàn)億人民幣。
2020-01-09 16:46:5728491 
大家都知道，光刻機(jī)是芯片制造過程當(dāng)中一個(gè)重要的環(huán)節(jié)，光刻機(jī)直接決定著芯片的質(zhì)量。而我國(guó)作為全球最大的芯片消費(fèi)國(guó)之一，每年進(jìn)口的芯片都達(dá)到幾萬(wàn)億人民幣。
2020-03-08 16:42:009204 
月4日，中芯國(guó)際深圳廠區(qū)成功從ASML進(jìn)口了一臺(tái)大型光刻機(jī)，目前該臺(tái)光刻機(jī)設(shè)備已經(jīng)順利進(jìn)入深圳廠區(qū)，但讓人遺憾的是這臺(tái)光刻機(jī)并非是最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)設(shè)備；據(jù)悉，中芯國(guó)際所購(gòu)買的這臺(tái)光刻機(jī)設(shè)備，將會(huì)
2020-03-13 14:31:208258 光刻機(jī)是芯片制造的重要設(shè)備，內(nèi)部結(jié)構(gòu)精密復(fù)雜，它決定著芯片的制程工藝，是芯片生產(chǎn)中不可少的關(guān)鍵設(shè)備，而且光刻機(jī)的技術(shù)門檻極高，整個(gè)設(shè)備的不同部位采用了世界上最先進(jìn)的技術(shù)，如德國(guó)的光學(xué)設(shè)備、美國(guó)的計(jì)量設(shè)備等，可以說是“集人類智慧大成的產(chǎn)物”，被譽(yù)為半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠。
2020-03-14 10:58:4881678 ，中國(guó)最好的光刻機(jī)廠商上海微電子裝備有限公司（SMEE）已經(jīng)量產(chǎn)的光刻機(jī)中，性能最好的SSA600/20工藝只能達(dá)到90nm，相當(dāng)于2004年上市的奔騰四CPU的水準(zhǔn)。而國(guó)外的先進(jìn)水平已經(jīng)達(dá)到了7納米，正因如此，國(guó)內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機(jī)完全依賴進(jìn)口。
2020-03-18 10:52:1192637 光刻機(jī)是集成電路制造中最精密復(fù)雜、難度最高、價(jià)格最昂貴的設(shè)備，用于在芯片制造過程中的掩膜圖形到硅襯底圖形之間的轉(zhuǎn)移。集成電路在制作過程中經(jīng)歷材料制備、掩膜、光刻、刻蝕、清洗、摻雜、機(jī)械研磨等多個(gè)工序，其中以光刻工序最為關(guān)鍵，因?yàn)樗钦麄€(gè)集成電路產(chǎn)業(yè)制造工藝先進(jìn)程度的重要指標(biāo)。
2020-03-18 11:00:4175540 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一，作為目前世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一，其實(shí)光刻機(jī)除了能用于生產(chǎn)芯片之外，還有用于封裝的光刻機(jī)，或者是用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。目前，我國(guó)高端的光刻機(jī)，基本上是從荷蘭ASML進(jìn)口的。
2020-03-18 11:12:0247310 光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造設(shè)備中價(jià)格占比最大，也是最核心的設(shè)備，是附加價(jià)值極高的產(chǎn)品，被譽(yù)為是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。
2020-03-19 13:55:2013824 我國(guó)的光刻機(jī)目前能做的只有90nm制程，而荷蘭的ASML 最新EUV工藝光刻機(jī)可以做到7nm制程、6nm制程、5nm制程，并且一臺(tái)頂級(jí)的光刻機(jī)需要上萬(wàn)個(gè)零部件，需要不同國(guó)家的各個(gè)頂級(jí)部件，售價(jià)也高達(dá)7億人民幣。
2020-03-19 16:46:3823747 雖然目前上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司所生產(chǎn)的光刻機(jī)設(shè)備較為低端，但依舊占據(jù)著國(guó)內(nèi)近80%的光刻機(jī)市場(chǎng)份額，所以SMEE憑借幾乎壟斷國(guó)內(nèi)的光刻機(jī)市場(chǎng)份額，依舊能夠在全球光刻機(jī)設(shè)備制造領(lǐng)域排名第
2020-06-09 11:36:066705 作為芯片制造的核心設(shè)備之一，光刻機(jī)對(duì)芯片生產(chǎn)的工藝有著決定性影響。 據(jù)悉，光刻機(jī)按照用途可分為生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)、封裝芯片的光刻機(jī)以及用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。其中，生產(chǎn)芯片的High End
2020-06-15 08:05:541506 作為半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中最重要的裝備，光刻機(jī)一直牽動(dòng)人心。事實(shí)上，制程工藝越先進(jìn)就要離不開先進(jìn)光刻機(jī)。
2020-07-07 16:25:043383 作為光刻工藝中最重要設(shè)備之一，光刻機(jī)一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高光刻機(jī)性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻技術(shù)的發(fā)展情況是十分重要的。 光刻機(jī) 光刻機(jī)（Mask
2020-08-28 14:39:0415066 
中科院去年宣布進(jìn)軍光刻機(jī)，相信在量子芯片、光子芯片、第三代半導(dǎo)體等領(lǐng)域中國(guó)可以實(shí)現(xiàn)彎道超車的。
2021-01-20 16:02:417715 
芯片制程已經(jīng)推進(jìn)到了7nm以下，這其中最關(guān)鍵的核心設(shè)備就要數(shù)EUV光刻機(jī)了，目前全世界只有荷蘭ASML（阿斯麥）可以制造。
2020-09-28 16:31:472198 光刻機(jī)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機(jī)是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中最關(guān)鍵設(shè)備，光刻工藝決定了半導(dǎo)體線路的線寬，同時(shí)也決定了芯片的性能和功耗。
2020-09-30 16:17:136909 
據(jù)悉，ASML是全球唯一能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的廠商，年產(chǎn)量為40余臺(tái)，臺(tái)積電方面希望獲得全數(shù)供應(yīng)。EUV光刻機(jī)的價(jià)格昂貴，每臺(tái)要價(jià)約1.3億美元，由于是EUV制程必需的關(guān)鍵設(shè)備，臺(tái)積電與三星電子的競(jìng)爭(zhēng)日益激烈。
2020-10-13 13:51:522542 荷蘭阿斯麥（ASML）公司的光刻機(jī)作為世界上最貴最精密的儀器，相信大家都有耳聞，它是加工芯片的設(shè)備。其最先進(jìn)的EUV（極紫外光）光刻機(jī)已經(jīng)能夠制造7nm以下制程的芯片，據(jù)說一套最先進(jìn)的7納米EUV
2020-10-15 09:20:055352 光刻機(jī)是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵設(shè)備，光刻機(jī)所使用的光源波長(zhǎng)直接決定著芯片的工藝級(jí)別。例如，目前最先進(jìn)的芯片制程7nm\5nm等，都離不開EUV極紫外光刻機(jī)，而這種光刻機(jī)的全球唯一供應(yīng)商就是荷蘭阿
2020-10-16 11:01:542600 ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺(tái)EUV光刻機(jī)的售價(jià)為1.48億歐元，折合人民幣高達(dá)11.74億元
2020-10-19 12:02:4910752 
導(dǎo)讀：光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。光刻是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開光刻的技術(shù)。 光刻機(jī)的工作原理： 利用光刻機(jī)
2022-12-23 13:34:5410099 作為半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備，光刻機(jī)無疑是芯片產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠，特別是先進(jìn)工藝的光刻機(jī)，7nm以下的都要依賴ASML公司，EUV光刻機(jī)他們還是獨(dú)一份。
2020-11-09 17:11:382782 ASML在光刻機(jī)領(lǐng)域幾乎是巨無霸的存在，而他們對(duì)于與中國(guó)企業(yè)合作也是非常歡迎，無奈一些關(guān)鍵細(xì)節(jié)上被美國(guó)卡死。 中國(guó)需要光刻機(jī)，尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī)，特別是 EUV （極紫外光源）光刻機(jī)
2020-11-10 10:08:043971 中國(guó)需要光刻機(jī)，尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī)。具體來說，就是 EUV （極紫外光源）光刻機(jī)。
2020-11-11 10:13:305279 
在芯片制造環(huán)節(jié)中，光刻機(jī)是核心設(shè)備。沒有光刻機(jī)，半導(dǎo)體或遭斷鏈危機(jī)，摩爾定律將停止，人類也就無法設(shè)計(jì)、制造和封裝硅芯片。放眼全球，一家叫做ASML（阿斯麥）的荷蘭公司市場(chǎng)占有率達(dá)80%，是行業(yè)的絕對(duì)
2020-11-13 09:28:516405 12月2日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，全球第一大芯片代工商臺(tái)積電，能夠獲得大量的芯片代工訂單，除了領(lǐng)先的制程工藝，還得益于阿斯麥所供應(yīng)的大量先進(jìn)的光刻機(jī)，在第二代7nm和5nm所需要的極紫外光刻機(jī)方面，尤其如此，他們獲得的極紫外光刻機(jī)的數(shù)量，遠(yuǎn)多于三星。
2020-12-02 10:21:091303 自從芯片工藝進(jìn)入到7nm工藝時(shí)代以后，需要用到一臺(tái)頂尖的EUV光刻機(jī)設(shè)備，才可以制造7nm EUV、5nm等先進(jìn)制程工藝的芯片產(chǎn)品，但就在近日，又有外媒豪言：這種頂尖的EUV極紫外光刻機(jī)，目前全球
2020-12-03 13:46:227524 的設(shè)備之一，只不過由于其制造復(fù)雜，研發(fā)困難，而且事關(guān)芯片的制造工藝，所以在芯片制造設(shè)備中占據(jù)著較高的地位。 ? 也正是因此，一臺(tái)光刻機(jī)的價(jià)格不菲，尤其是現(xiàn)在最高端的EUV型光刻機(jī)，其售價(jià)高達(dá)1.3億美元，這樣的價(jià)格，已經(jīng)超過了很多芯片企業(yè)的
2021-01-21 15:45:033972 在光刻機(jī)領(lǐng)域一家獨(dú)大的荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML，占據(jù)著芯片行業(yè)的頂端，畢竟沒有了他們的設(shè)備，想要造出先進(jìn)工藝制程的芯片是沒戲的。
2021-01-22 09:39:222566 
在光刻機(jī)領(lǐng)域一家獨(dú)大的荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML，占據(jù)著芯片行業(yè)的頂端，畢竟沒有了他們的設(shè)備，想要造出先進(jìn)工藝制程的芯片是沒戲的。
2021-01-22 09:34:002233 
在光刻機(jī)領(lǐng)域一家獨(dú)大的荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML，占據(jù)著芯片行業(yè)的頂端，畢竟沒有了他們的設(shè)備，想要造出先進(jìn)工藝制程的芯片是沒戲的。 財(cái)報(bào)披露，ASML2020年全年凈銷售額140億歐元，毛利率為48.6
2021-01-22 10:38:165843 
作為全球最頂尖的半導(dǎo)體設(shè)備制造商，AMSL在芯片產(chǎn)業(yè)鏈中扮演著尤為關(guān)鍵的角色，由它生產(chǎn)出來的光刻機(jī)更是芯片制造過程所需的核心設(shè)備。顧名思義，光刻機(jī)的主要作用就是光刻， 將設(shè)計(jì)好的集成電路刻畫在硅片上，這便是芯片代工最重要的環(huán)節(jié)。
2021-01-26 16:40:582945 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺(tái)積電搶購(gòu)了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場(chǎng)了，SK海力士豪擲4.8萬(wàn)億韓元搶購(gòu)EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 09:28:552324 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺(tái)積電搶購(gòu)了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場(chǎng)了，SK海力士豪擲4.8萬(wàn)億韓元搶購(gòu)EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 11:39:092438 相信關(guān)注中國(guó)科技發(fā)展的朋友都知道，在國(guó)內(nèi)的芯片制造領(lǐng)域，中芯國(guó)際無疑是目前規(guī)模和技術(shù)雙雙領(lǐng)先的國(guó)產(chǎn)芯片企業(yè)?？闪钊藷o奈的是長(zhǎng)期以來受《瓦森納協(xié)定》的制約，中芯國(guó)際一直無法采購(gòu)到芯片制造所需的關(guān)鍵設(shè)備——光刻機(jī)，以至于遲遲無法沖破芯片制造7納米制程這道門檻。
2021-03-01 17:07:005067 中芯國(guó)際的芯片工藝目前已發(fā)展至14nm，若想將芯片工藝進(jìn)一步提升至7nm乃至3nm等先進(jìn)制程，EUV光刻機(jī)設(shè)備就必不可少。那么，中芯國(guó)際此次12億美元的采購(gòu)協(xié)議都有哪些類型的光刻機(jī)，包含EUV光刻機(jī)嗎？
2021-03-10 14:36:5511344 在芯片制造的產(chǎn)業(yè)鏈中，光刻機(jī)是必不可少的精密設(shè)備，是集成電路芯片制造中最復(fù)雜和關(guān)鍵的工藝步驟。“我國(guó)EUV光刻機(jī)的自主研發(fā)還有很長(zhǎng)的路要走，基于SSMB的EUV光源有望解決自主研發(fā)光刻機(jī)中最核心的‘卡脖子’難題?！碧苽飨檎f。
2021-03-10 15:45:513609 以下內(nèi)容由對(duì)話音頻整理 本期話題 ● EUV光刻機(jī)產(chǎn)能如何？ ● 晶圓為什么是圓的？ ● 不同制程的芯片之間有何區(qū)別？ ● 什么是邏輯芯片，邏輯芯片又包括哪些？ ● 專用芯片與通用芯片 ● 中科院
2021-03-14 09:46:3025243 、用途 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī);有用于封裝的
2021-03-27 10:00:372014 
用途 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī);有用于封裝的光刻機(jī)
2021-03-30 18:17:272900 
眾所周知，想要在芯片領(lǐng)域打破由歐美國(guó)家所壟斷的市場(chǎng)，必須要解決光刻機(jī)的問題，這是傳統(tǒng)硅基芯片制造過程中最為重要的一環(huán)。而在光刻機(jī)領(lǐng)域，荷蘭的ASML則是光刻機(jī)領(lǐng)域金字塔最頂尖的企業(yè)，尤其是在極紫外光領(lǐng)域
2021-04-16 14:31:125274 
在芯片設(shè)計(jì)、制造的諸多環(huán)節(jié)中，光刻機(jī)等核心設(shè)備發(fā)揮了至關(guān)重要的作用。殊不知，在眾多核心設(shè)備中，EDA工具才是真正的重中之重。
2021-05-02 11:49:003403 不會(huì)有我們現(xiàn)在的手機(jī)、電腦了。 光刻機(jī)是用于芯片制造的核心設(shè)備，按照用途可以分為用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)、用于封裝的光刻機(jī)和用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。 光刻機(jī)的核心原理就是一個(gè)透鏡組，在精度上首先咱們有個(gè)概念：我們現(xiàn)在芯片的
2021-07-07 14:31:18130297 光刻機(jī)原理怎么做芯片 光刻是集成電路中最重要的工藝，光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備，在芯片的制作中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都需要用到光刻技術(shù)。可以說，光刻機(jī)是半導(dǎo)體界的一顆明珠。那么光刻機(jī)原理怎么做芯片呢
2021-08-07 14:54:5414859 因?yàn)樵诳萍既Πl(fā)生的各種問題，比如華為等企業(yè)被美國(guó)供斷芯片，國(guó)內(nèi)一度為芯片供應(yīng)問題而一籌莫展，很多人也因此知道了芯片的重要性的世界芯片的格局。在芯片的制作方面，傳統(tǒng)硅基芯片制造必定需要光刻機(jī)，納米制程
2021-08-27 17:22:2338631 因?yàn)樵诳萍既Πl(fā)生的各種問題，比如華為等企業(yè)被美國(guó)供斷芯片，國(guó)內(nèi)一度為芯片供應(yīng)問題而一籌莫展，很多人也因此知道了芯片的重要性的世界芯片的格局。在芯片的制作方面，傳統(tǒng)硅基芯片制造必定需要光刻機(jī)，納米制程
2021-08-31 09:40:0716440 7nm之下不可或缺的制造設(shè)備，我國(guó)因?yàn)橘Q(mào)易條約被遲遲卡住不放行的也是一臺(tái)EUV光刻機(jī)。 但EUV光刻機(jī)的面世靠的不僅僅是ASML一家的努力，還有蔡司和TRUMPF（通快）兩家歐洲光學(xué)巨頭的合作才得以成功。他們的技術(shù)分別為EUV光刻機(jī)的鏡頭和光源做出了不
2021-12-07 14:01:1012038 光刻機(jī)作為芯片產(chǎn)業(yè)制造中不可缺少的設(shè)備，也是工時(shí)和成本占比最高的設(shè)備，更是全球頂尖技術(shù)和人類智慧的結(jié)晶。那么目前有哪些國(guó)家可以制造出光刻機(jī)呢？
2022-01-03 17:30:0091372 光刻機(jī)作為芯片的核心制造設(shè)備，也是當(dāng)前最復(fù)雜的精密儀器之一。其實(shí)光刻機(jī)不僅可以用于芯片生產(chǎn)，還可以用于封裝和用于LED制造領(lǐng)域。
2022-01-03 16:43:0018187 光刻機(jī)是芯片制造的重要設(shè)備，內(nèi)部結(jié)構(gòu)精密復(fù)雜，它決定著芯片的制程工藝，是芯片生產(chǎn)中不可少的關(guān)鍵設(shè)備，而且光刻機(jī)的技術(shù)門檻極高，整個(gè)設(shè)備的不同部位采用了世界上最先進(jìn)的技術(shù)
2021-12-30 09:46:535114 光刻機(jī)制作芯片過程非常復(fù)雜，而光刻機(jī)是制造芯片最重要的設(shè)備之一，由于先進(jìn)光刻機(jī)的技術(shù)封鎖，中國(guó)芯片廠商的芯片制作工藝目前比較落后，也沒有優(yōu)秀的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)來掌握到最先進(jìn)的光刻技術(shù)。
2021-12-30 11:23:2113196 刻蝕機(jī)不能代替光刻機(jī)。光刻機(jī)的精度和難度的要求都比刻蝕機(jī)高出很多，在需要光刻機(jī)加工的時(shí)候刻蝕機(jī)有些不能辦到，并且刻蝕機(jī)的精度十分籠統(tǒng)，而光刻機(jī)對(duì)精度的要求十分細(xì)致，所以刻蝕機(jī)不能代替光刻機(jī)。
2022-02-05 15:47:0044425 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機(jī)，有用于LED制造領(lǐng)域的光刻機(jī)，還有用于封裝的光刻機(jī)。光刻機(jī)是采用類似照片沖印的技術(shù)，然后把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0090746 2nm制程的量產(chǎn)。 目前市面上最先進(jìn)的是EUV光刻機(jī)，而其能夠支持制造的先進(jìn)制程工藝最高為3nm，也就是說，再往后的2nm等工藝就要用更加先進(jìn)的光刻機(jī)來完成。 ASML為此正在研發(fā)一種特別的EUV光刻機(jī)——High-NA EUV光刻機(jī)。這種光刻機(jī)所采用的技術(shù)能夠
2022-06-22 14:44:162172 在芯片研發(fā)的過程中，光刻機(jī)是必不可少的部分，而隨著芯片制程工藝的不斷發(fā)展，普通的光刻機(jī)已經(jīng)不能滿足先進(jìn)制程了，必須要用最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)才能完成7nm及其以下的先進(jìn)制程，而目前臺(tái)積電和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:128591 光刻機(jī)是制作芯片的關(guān)鍵設(shè)備，利用光刻機(jī)發(fā)出的紫外光源通過具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的硅片曝光，使光刻膠性質(zhì)變化、達(dá)到圖形刻印在硅片上形成電子線路圖。我國(guó)目前還是采用什深紫外光的193nm制程工藝，如上海微電子裝備公司（CMEE）制程90nm工藝的光刻機(jī)，那么90nm光刻機(jī)能生產(chǎn)什么芯片呢？
2022-06-30 09:46:2133420 隨著芯片制程工藝的更新迭代，芯片已進(jìn)入納米時(shí)代，指甲蓋大小的芯片上集成的晶體管數(shù)量高達(dá)百億。然而芯片制造最大的困難是光刻機(jī)。
2022-07-05 10:57:266569 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。
2022-07-06 11:03:078348 在半導(dǎo)體制造過程中，光刻機(jī)是最核心的設(shè)備，同時(shí)，也是研發(fā)難度最高的設(shè)備。
2022-07-07 09:38:238478 大家都知道，芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機(jī)了?，F(xiàn)在，全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)，那么euv光刻機(jī)目前幾納米呢？ 到現(xiàn)在，世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4253101 說到芯片，估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒有光刻機(jī)的話，就無法生產(chǎn)芯片，因此每個(gè)人都知道光刻機(jī)對(duì)芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻機(jī)
2022-07-10 11:42:278556 光刻機(jī)是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，它能夠制造和維護(hù)需要高水平的光學(xué)和電子產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)，全球只有少數(shù)制造商掌握了這一基礎(chǔ)。 光刻機(jī)的作用是對(duì)芯片晶圓進(jìn)行掃描曝光，對(duì)集成電路進(jìn)行蝕刻。精度更高的光刻機(jī)
2022-07-10 14:35:067938 目前，光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1087066 euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī)，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對(duì)芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。那么euv光刻機(jī)原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1018347 光刻機(jī)是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備，其技術(shù)含量和價(jià)值含量都很高。那么euv光刻機(jī)用途是什么呢？下面我們就一起來看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制等
2022-07-10 16:34:405149 光刻機(jī)譽(yù)為“現(xiàn)代半導(dǎo)體行業(yè)皇冠上的明珠”，是一種高度復(fù)雜的設(shè)備。光刻機(jī)是通過紫外光作為“畫筆”，把預(yù)先設(shè)計(jì)好的芯片電路路線書寫在硅晶圓旋涂的光刻膠上，光刻工藝直接決定了芯片中晶體管的尺寸和性能，是芯片生產(chǎn)中最為關(guān)鍵的過程。
2022-10-27 09:39:024799 光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機(jī)用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試，實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝，技術(shù)難度相對(duì)較小。
2023-06-09 10:49:2012393 
·從接觸式到EUV，制程持續(xù)演進(jìn) ·多個(gè)先進(jìn)系統(tǒng)組合，技術(shù)壁壘極高 光刻機(jī) 光刻是芯片制造最核心環(huán)節(jié)，大陸自給率亟待提升 光刻機(jī)是芯片制造最核心環(huán)節(jié) 光刻機(jī)是芯片制造中最復(fù)雜、最昂貴的設(shè)備。芯片制造可以包括多個(gè)工藝，如初步氧
2023-06-19 10:04:0013647 
光刻機(jī)是集成電路生產(chǎn)的關(guān)鍵設(shè)備之一，在整個(gè)生產(chǎn)過程中占據(jù)重要的地位。高精度的工作臺(tái)作為光刻機(jī)核心部件之一，其運(yùn)動(dòng)性能和定位精度決定了光刻工藝所能實(shí)現(xiàn)的線寬和產(chǎn)率。光刻機(jī)的工作臺(tái)是一個(gè)六自由度的運(yùn)動(dòng)臺(tái)
2022-03-08 09:07:461789 
光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟，耗時(shí)長(zhǎng)、成本高。半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的難點(diǎn)和關(guān)鍵點(diǎn)在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上，這一過程通過光刻來實(shí)現(xiàn)， 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:535496 
雕刻電路圖案的核心制造設(shè)備是光刻機(jī)，它的精度決定了制程的精度。光刻機(jī)的運(yùn)作原理是先把設(shè)計(jì)好的芯片圖案印在掩膜上，用激光穿過掩膜和光學(xué)鏡片，將芯片圖案曝光在帶有光刻膠涂層的硅片上，涂層被激光照到之處則溶解，沒有被照到之處保持不變，掩膜上的圖案就被雕刻到芯片光刻膠涂層上。
2023-11-24 12:27:069677 
光刻機(jī)是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備，廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中，光刻機(jī)被用于制造芯片上的電路圖案。
2024-01-29 09:37:2410376 
光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒步進(jìn)式投影光刻機(jī)和極紫外式光刻機(jī)。
2024-03-21 11:31:4110787 
的一部分，目前正在對(duì)其進(jìn)行測(cè)試，該設(shè)備可確保生產(chǎn)350nm的芯片。什帕克還指出，到2026年將獲得130nm的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)，下一步將是開發(fā)90nm光刻機(jī)，并繼續(xù)向下邁進(jìn)。 此前，俄羅斯曾表示，計(jì)劃到2026年實(shí)現(xiàn)65nm的芯片節(jié)點(diǎn)工藝，2027年實(shí)現(xiàn)28nm本土芯片制造，到
2024-05-28 15:47:541441 ? 本文介紹了光刻機(jī)在芯片制造中的角色和地位，并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī)：芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機(jī)在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位，被譽(yù)為芯片制造的核心設(shè)備
2024-11-24 09:16:387674 ? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備，它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程，但精度要求極高，能夠達(dá)到
2025-01-07 10:02:304530 
本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片光刻機(jī)和面板光刻機(jī)。面板光刻機(jī)的工作原理和芯片光刻機(jī)相似
2025-01-16 09:29:456363 
在芯片制造的復(fù)雜流程中，光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度)，則是衡量光刻機(jī)將不同層電路圖案對(duì)準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。簡(jiǎn)單來說，它就像建造摩天大樓
2025-02-17 14:09:254473 
在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時(shí)代的“心臟”，其制造過程復(fù)雜而精密，涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機(jī)這一高端設(shè)備，但實(shí)際上，芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴光刻機(jī)這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝，揭示這些工藝如何協(xié)同工作，共同鑄就了現(xiàn)代芯片的輝煌。
2025-03-24 11:27:423171 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/黃山明）作為芯片制造過程中的核心設(shè)備，光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片（7nm及以下）芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵，但目前EUV光刻機(jī)基本由荷蘭阿斯麥（ASML
2024-10-17 00:13:003869
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