引言 ? 光刻膠又稱“光致抗蝕劑”或“光阻劑”,被廣泛應(yīng)用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線路的加工制作,是微納制造技術(shù)的關(guān)鍵性材料。 光刻膠是光刻工藝最重要的耗材,其性能決定了加工成品的精密程度和良品率
2022-04-25 17:35:22
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關(guān)鍵詞:氧氣、微氣泡、光刻膠、高劑量離子注入、氣水界面 介紹? ??? 微氣泡是一種很有前途的環(huán)保光刻膠去除方法的候選方法。已經(jīng)證明,臭氧微氣泡可以去除硅片上的光刻劑,即使被高劑量的離子注入破壞
2022-01-10 11:37:13
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關(guān)鍵詞:超臨界清洗,離子注入光刻膠,光刻膠剝離 摘要 本文提出了一種有效的、環(huán)保的干剝離方法,使用超臨界二氧化碳(SCCO2)系統(tǒng),在40℃到100℃和壓力從90巴到340巴時(shí)去除離子植入的光刻劑
2022-01-27 14:07:43
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光刻膠為何要謀求國(guó)產(chǎn)替代?中國(guó)國(guó)產(chǎn)光刻膠企業(yè)的市場(chǎng)發(fā)展機(jī)會(huì)和挑戰(zhàn)如何?光刻膠企業(yè)發(fā)展要具備哪些核心競(jìng)爭(zhēng)力?在南京半導(dǎo)體大會(huì)期間,徐州博康公司董事長(zhǎng)傅志偉和研發(fā)總監(jiān)潘新剛給我們帶來(lái)前沿觀點(diǎn)和獨(dú)家分析。
2022-08-29 15:02:23
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光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和光刻膠特性。
2025-04-29 13:59:33
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波長(zhǎng)不同,可分為g線(436nm)、i線(365nm)、KrF(248nm),ArF(193nm)以及EUV光刻膠,其中KrF、ArF和EUV光刻膠被認(rèn)為是高端光刻膠,目前國(guó)內(nèi)幾乎空白。 ? 日本壟斷全球光刻膠大部分市場(chǎng)份額,全球排名前四的光刻膠廠商都來(lái)自日本,包括合成橡膠
2021-07-03 07:47:00
26808 ,增幅11.11%。 ? 截圖自企查查 ? 光刻膠是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的重要材料,目前主要被日美把控,國(guó)內(nèi)在光刻膠方面投入研制的廠商主要晶瑞股份、南大光電、上海新陽(yáng)、徐州博康、北京科華等,那么華為投資的徐州博康在光刻膠方面有何優(yōu)勢(shì),國(guó)內(nèi)廠商在光
2021-08-12 07:49:00
6896 電子發(fā)燒友原創(chuàng) 章鷹 ? 近日,全球半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模增長(zhǎng)帶動(dòng)了上游半導(dǎo)體材料旺盛需求,“光刻膠”的突破也成為國(guó)內(nèi)關(guān)注焦點(diǎn)。正當(dāng)日本光刻膠企業(yè)JSR、東京應(yīng)化和美國(guó)Lam Research在EUV光刻膠
2022-08-31 07:45:00
4234 ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 光刻膠作為芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心耗材,尤其高端材料長(zhǎng)期被日美巨頭壟斷,國(guó)外企業(yè)對(duì)原料和配方高度保密,我國(guó)九成以上光刻膠依賴進(jìn)口。不過(guò)近期,國(guó)產(chǎn)光刻膠領(lǐng)域捷報(bào)頻傳——從KrF
2025-07-13 07:22:00
6083 一、光刻膠的選擇光刻膠包括兩種基本的類型:正性光刻和負(fù)性光刻,區(qū)別如下
2021-01-12 10:17:47
的厚膜圖形;它還具有良好的力學(xué)性能、抗化學(xué)腐蝕性和熱穩(wěn)定性;在受到紫外輻射后發(fā)生交聯(lián),是一種化學(xué)擴(kuò)大負(fù)性膠,可以形成臺(tái)階等結(jié)構(gòu)復(fù)雜的圖形;在電鍍時(shí)可以直接作為絕緣體使用。 SU-8光刻膠的優(yōu)點(diǎn):1
2018-07-12 11:57:08
在集成電路制造中的應(yīng)用,對(duì)其反應(yīng)機(jī)理及應(yīng)用性能指標(biāo)進(jìn)行闡述,重點(diǎn)從工藝的角度去提出新的研究方向。關(guān)鍵詞:光刻膠;應(yīng)用性能;反應(yīng)機(jī)理;集成電路;光刻 中圖分類號(hào):TN305.7 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼: A
2018-08-23 11:56:31
光刻膠也稱為光致抗蝕劑,是一種光敏材料,它受到光照后特性會(huì)發(fā)生改變。光刻膠主要用來(lái)將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負(fù)膠之分。正膠經(jīng)過(guò)曝光后,受到光照的部分變得容易溶解,經(jīng)過(guò)顯影后被
2019-11-07 09:00:18
這是我的版圖一部分,然后生成了圖案是這樣的: 感覺(jué)間距小的地方全都有殘留,間距大的地方?jīng)]有殘留;工藝參數(shù):s9920光刻膠, evg 620‘未進(jìn)行蒸汽底漆層涂覆,前烘:100攝氏度,90s
2016-11-29 14:59:18
Futurrex,成立于1985年,位總部設(shè)在美國(guó)新澤西州,富蘭克林市。 公司業(yè)務(wù)范圍覆蓋北美、亞太以及歐洲。Futurrex在開(kāi)發(fā)最高端產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長(zhǎng)的歷史,尤其是其光刻膠
2010-04-21 10:57:46
SU 8光刻膠系列產(chǎn)品簡(jiǎn)介:新型的化學(xué)增幅型負(fù)像 SU- 8 膠是一種負(fù)性、環(huán)氧樹(shù)脂型、近紫外線光刻膠,克服了普通光刻膠采用 UV光刻導(dǎo)致的深寬比不足的問(wèn)題,十分適合于制備高深寬比微結(jié)構(gòu)。SU- 8
2018-07-04 14:42:34
的,并且在光刻膠顯影步驟后驗(yàn)證了附著力。沒(méi)有參考文獻(xiàn)提到在濕蝕刻過(guò)程中使用預(yù)涂層處理來(lái)提高附著力,也沒(méi)有觀察到對(duì)濕蝕刻輪廓的影響,這通常歸因于蝕刻劑的 GaAs 晶體結(jié)構(gòu)和特性。 背景: 流程變更 對(duì)我們
2021-07-06 09:39:22
噴膠機(jī)是現(xiàn)代光電子產(chǎn)業(yè)中光刻膠涂布的重要設(shè)備??蓪?duì)不同尺寸和形狀的基片進(jìn)行涂膠,最大涂膠尺寸達(dá)8寸,得到厚度均勻的光刻膠層,同時(shí)可對(duì)大深寬比結(jié)構(gòu)的側(cè)壁進(jìn)行均勻涂膠;通過(guò)計(jì)算機(jī)系統(tǒng)控制器進(jìn)行工藝參數(shù)的編輯和操作。
2020-03-23 09:00:57
151n光刻膠曝光顯影后開(kāi)口底部都會(huì)有一撮殘留,找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52
光刻膠與光刻工藝技術(shù) 微電路的制造需要把在數(shù)量上精確控制的雜質(zhì)引入到硅襯底上的微小 區(qū)域內(nèi),然后把這些區(qū)域連起來(lái)以形成器件和VLSI電路.確定這些區(qū)域圖形 的工藝是由光刻來(lái)完成的,也就是說(shuō),首先在硅片上旋轉(zhuǎn)涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21
0 這是一種老式的旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī),將芯片上涂上光刻膠然后將芯片放到上邊,可以通過(guò)機(jī)器的旋轉(zhuǎn)的力度將光刻膠均勻分布到芯片表面,光刻膠只有均勻涂抹在芯片表面,才能保證光刻的成功。
2018-05-17 14:39:37
19874 干膜光刻膠是由預(yù)先配制好的液態(tài)光刻膠(Photoresist)在精密的涂布機(jī)上和高清潔度的條件下均勻涂布在載體聚酯薄膜(PET膜)上,經(jīng)烘干、冷卻后,再覆上聚乙烯薄膜(PE膜),收卷而成卷狀的薄膜型光刻膠。
2019-01-30 16:49:14
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在國(guó)家政策與市場(chǎng)的雙重驅(qū)動(dòng)下,近年來(lái),國(guó)內(nèi)企業(yè)逐步向面板、半導(dǎo)體光刻膠發(fā)力……
2019-04-23 16:15:36
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2018年,南大光電和上海新陽(yáng)先后宣布,投入ArF光刻膠產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)與產(chǎn)業(yè)化,立志打破集成電路制造最為關(guān)鍵的基礎(chǔ)材料之一——高檔光刻膠材料幾乎完全依賴于進(jìn)口的局面,填補(bǔ)國(guó)內(nèi)高端光刻膠材料產(chǎn)品的空白。
2019-05-21 09:24:24
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預(yù)計(jì)2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線,項(xiàng)目產(chǎn)業(yè)化基地建設(shè)順利。
2019-07-19 14:08:30
5922 光刻膠概念股南大光電10月23日公告,擬投資新建光刻膠材料以及配套原材料項(xiàng)目。
2019-10-24 16:47:21
3744 經(jīng)開(kāi)區(qū)企業(yè)北京欣奕華科技有限公司(以下簡(jiǎn)稱“欣奕華”)了解到,經(jīng)過(guò)多年的行業(yè)累積和技術(shù)迭代,欣奕華在平板顯示用負(fù)性光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了量產(chǎn),預(yù)計(jì)今年將有1000噸的光刻膠交付用戶,約占國(guó)內(nèi)市場(chǎng)的8%。
2019-10-28 16:38:49
4539 近日,上海新陽(yáng)在投資者互動(dòng)平臺(tái)上表示,公司用于KRF248nm光刻膠配套的光刻機(jī)已完成廠內(nèi)安裝開(kāi)始調(diào)試,ARF193nm光刻膠配套的光刻機(jī)預(yù)計(jì)12月底到貨。
2019-12-04 15:24:45
8657 今年7月17日,南大光電在互動(dòng)平臺(tái)透露,公司設(shè)立光刻膠事業(yè)部,并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”,全力推進(jìn)“ArF光刻膠開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”落地實(shí)施。目前該項(xiàng)目完成的研發(fā)技術(shù)正在等待驗(yàn)收中,預(yù)計(jì)2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線,項(xiàng)目產(chǎn)業(yè)化基地建設(shè)順利。
2019-12-16 13:58:52
8273 隨著電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展的突飛猛進(jìn),光刻膠市場(chǎng)總需求不斷提升。2019年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模預(yù)計(jì)接近90億美元,自2010年至今CAGR約5.4%,預(yù)計(jì)未來(lái)3年仍以年均5%的速度增長(zhǎng),預(yù)計(jì)至2022年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將超過(guò)100億美元。
2020-03-01 19:02:48
4848 在國(guó)際半導(dǎo)體領(lǐng)域,我國(guó)雖已成為半導(dǎo)體生產(chǎn)大國(guó),但整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈仍比較落后。特別是由于國(guó)內(nèi)光刻膠廠布局較晚,半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)相較于海外先進(jìn)技術(shù)差距較大,國(guó)產(chǎn)化不足5%。在這種條件下,國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體廠商積極開(kāi)展研究,如晶瑞股份的KrF光刻膠,南大光電的ArF光刻膠均取得較好的研究效果。
2020-03-06 15:40:56
5517 光刻膠按應(yīng)用領(lǐng)域分類,大致分為L(zhǎng)CD光刻膠、PCB光刻膠(感光油墨)與半導(dǎo)體光刻膠等。按照下游應(yīng)用來(lái)看,目前LCD光刻膠占比26.6%,刻膠占比24.5%,半導(dǎo)體光刻膠占比24.1%,PCB光其他類光刻膠占比24.8%。
2020-06-12 17:13:39
6218 光刻工序?qū)⑺枰奈⒓?xì)圖形從光罩(掩模版)轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依據(jù)使用場(chǎng)景,這里的待加工基片可以是集成電路材料,顯示面板材料或者印刷電路板。 據(jù)第三方機(jī)構(gòu)智研咨詢統(tǒng)計(jì),2019年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模預(yù)計(jì)近90億美元,
2020-09-15 14:00:14
20205 全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模從2016 年的15 億美元增長(zhǎng)至2019年的18億美元,年復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)6.3%;應(yīng)用方面,光刻膠主要應(yīng)用在PCB、半導(dǎo)體及LCD顯示等領(lǐng)域,各占約25%市場(chǎng)份額。
2020-09-21 11:28:04
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全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模從2016 年的15 億美元增長(zhǎng)至2019年的18億美元,年復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)6.3%;應(yīng)用方面,光刻膠主要應(yīng)用在PCB、半導(dǎo)體及LCD顯示等領(lǐng)域,各占約25%市場(chǎng)份額。 國(guó)內(nèi)光刻膠整體
2020-10-10 17:40:25
3534 、電子束、準(zhǔn)分子激光束、X射線、離子束等曝光源的照射或輻射,從而使光刻膠的溶解度發(fā)生變化。 按照應(yīng)用領(lǐng)域分類,光刻膠主要包括印制電路板(PCB)光刻膠專用化學(xué)品(光引發(fā)劑和樹(shù)脂)、液晶顯示器(LCD)光刻膠光引發(fā)劑、半導(dǎo)
2022-12-06 14:53:54
2357 對(duì)公司光刻膠業(yè)務(wù)的具體影響等問(wèn)題。 10月12日,晶瑞股份發(fā)布關(guān)于深圳證券交易所關(guān)注函的回復(fù)公告稱,本次擬購(gòu)買的光刻機(jī)設(shè)備將用于公司集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目,將有助于公司將光刻膠產(chǎn)品序列實(shí)現(xiàn)到ArF光刻膠的跨越,并最終實(shí)
2020-10-21 10:32:10
5003 光刻膠是微納加工過(guò)程中非常關(guān)鍵的材料。有專家表示,中國(guó)要制造芯片,光有光刻機(jī)還不夠,還得打破國(guó)外對(duì)“光刻膠”的壟斷。
2020-12-08 10:53:56
4956 今日南大光電發(fā)布公告稱,其控股子公司 “寧波南大光電”自主研發(fā)的 ArF(193nm)光刻膠產(chǎn)品近日成功通過(guò)客戶的使用認(rèn)證。報(bào)告顯示,“本次認(rèn)證選擇客戶 50nm 閃存產(chǎn)品中的控制柵進(jìn)行驗(yàn)證,寧波南
2020-12-18 09:29:42
7279 昨夜晚間,寧波南大光電發(fā)表公告稱,公司自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品 近日成功通過(guò)客戶的使用認(rèn)證。
2020-12-18 09:52:10
3957 ? 導(dǎo) 讀 日前,南大光電公告稱,由旗下控股子公司寧波南大光電材料自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品成功通過(guò)客戶使用認(rèn)證,線制程工藝可以滿足 45nm-90nm光刻需求。 圖:南大光電公告 ? 公告稱
2020-12-25 18:24:09
7828 近期,專注于電子材料市場(chǎng)研究的TECHCET發(fā)布最新統(tǒng)計(jì)和預(yù)測(cè)數(shù)據(jù):2021年,半導(dǎo)體制造所需的光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將同比增長(zhǎng)11%,達(dá)到19億美元。
2021-03-22 10:51:12
6146 按照應(yīng)用領(lǐng)域分類,光刻膠主要包括印制電路板(PCB)光刻膠專用化學(xué)品(光引發(fā)劑和樹(shù)脂)、液晶顯示器(LCD)光刻膠光引發(fā)劑、半導(dǎo)體光刻膠光引發(fā)劑和其他用途光刻膠四大類。本文主要討論半導(dǎo)體光刻膠。
2021-05-17 14:15:52
5022 
由于KrF光刻膠產(chǎn)能受限以及全球晶圓廠積極擴(kuò)產(chǎn)等,占據(jù)全球光刻膠市場(chǎng)份額超兩成的日本供應(yīng)商信越化學(xué)已經(jīng)向中國(guó)大陸多家一線晶圓廠限制供貨KrF光刻膠,且已通知更小規(guī)模晶圓廠停止供貨KrF光刻膠。 信越
2021-06-25 16:12:28
1241 大漲9.72%,雅克科技大漲9.93%,強(qiáng)力新材、上海新陽(yáng)、彤程新材等跟漲。 光刻膠板塊的大漲吸引了產(chǎn)業(yè)注意 ,國(guó)產(chǎn)光刻膠再遇發(fā)展良機(jī)? KrF光刻膠海外供應(yīng)告急 據(jù)了解,光刻膠板塊本輪異動(dòng)的背后,是KrF光刻膠海外供應(yīng)告急。自日本福島2月份發(fā)生強(qiáng)震后,光刻膠市場(chǎng)一度傳
2021-05-28 10:34:15
4020 光刻膠是光刻機(jī)研發(fā)的重要材料,換句話說(shuō)光刻機(jī)就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:00
15756 摘要 我們?nèi)A林科納提出了一種新型的雙層光阻劑方法來(lái)減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對(duì)浮渣平均數(shù)量的影響。實(shí)驗(yàn)表明,低粘度正光刻膠
2022-01-26 11:43:22
1169 
摘要 在這項(xiàng)工作中,研究了新一代相流體剝離溶液在各種半導(dǎo)體光刻膠中的應(yīng)用。這些實(shí)驗(yàn)中使用的獨(dú)特的水基智能流體配方均為超大規(guī)模集成電路級(jí),與銅兼容且無(wú)毒。實(shí)驗(yàn)的第一階段是確定是否在合理的時(shí)間內(nèi)與光刻膠
2022-03-03 14:20:05
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什么是光刻?光刻是將掩模上的幾何形狀轉(zhuǎn)移到硅片表面的過(guò)程。光刻工藝中涉及的步驟是晶圓清洗;阻擋層的形成;光刻膠應(yīng)用;軟烤;掩模對(duì)準(zhǔn);曝光和顯影;和硬烤。
2022-03-15 11:38:02
1489 
本文提出了一種新型的雙層光阻劑方法來(lái)減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對(duì)浮渣平均數(shù)量的影響。實(shí)驗(yàn)表明,低粘度正光刻膠AZ703
2022-03-24 16:04:23
1451 
本發(fā)明涉及一種去除光刻膠的方法,更詳細(xì)地說(shuō),是一種半導(dǎo)體制造用光刻膠去除方法,該方法適合于在半導(dǎo)體裝置的制造過(guò)程中進(jìn)行吹掃以去除光刻膠。在半導(dǎo)體裝置的制造工藝中,將殘留在晶片上的光刻膠,在H2O
2022-04-13 13:56:42
1659 
灰化,簡(jiǎn)單的理解就是用氧氣把光刻膠燃燒掉,光刻膠的基本成分是碳?xì)溆袡C(jī)物,在射頻或微波作用下,氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通過(guò)泵被真空抽走,完成光刻膠的去除。
2022-07-21 11:20:17
8339 光刻膠產(chǎn)品說(shuō)明英文版資料分享。
2022-08-12 16:17:25
11 南大光電最新消息顯示,國(guó)產(chǎn)193nm(ArF)光刻膠研發(fā)成功,這家公司成為通過(guò)國(guó)家“02專項(xiàng)”驗(yàn)收的ArF光刻膠項(xiàng)目實(shí)施主體;徐州博康宣布,該公司已開(kāi)發(fā)出數(shù)十種高端光刻膠產(chǎn)品系列,包括
2022-08-31 09:47:14
2371 光刻膠的組成:樹(shù)脂(resin/polymer),光刻膠中不同材料的粘合劑,給與光刻膠的機(jī)械與化學(xué)性質(zhì)(如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等);感光劑,感光劑對(duì)光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng);溶劑(Solvent
2022-10-21 16:40:04
23795 半導(dǎo)體光刻膠用光敏材料仍屬于“卡脖子”產(chǎn)品,海外進(jìn)口依賴較重,不同品質(zhì)之間價(jià) 格差異大。以國(guó)內(nèi) PAG 對(duì)應(yīng)的化學(xué)放大型光刻膠(主要是 KrF、ArF 光刻膠)來(lái)看,樹(shù)脂在 光刻膠中的固含量占比約
2022-11-18 10:07:43
4881 光刻膠是IC制造的核心耗材,技術(shù)壁壘極高。根據(jù)TECHCET數(shù)據(jù),預(yù)計(jì)2022年全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到23億美元,同比增長(zhǎng)7.5%,2025年超過(guò)25億美元。
2023-03-21 14:00:49
3248 此前該公司指出,公司已建成年產(chǎn)5噸ArF干式光刻膠生產(chǎn)線、年產(chǎn)20噸ArF浸沒(méi)式光刻膠生產(chǎn)線及年產(chǎn)45噸的光刻膠配套高純?cè)噭┥a(chǎn)線,具備ArF光刻膠及配套關(guān)鍵組分材料的生產(chǎn)能力,目前公司送樣驗(yàn)證的產(chǎn)品均由該自建產(chǎn)線產(chǎn)出。
2023-04-11 09:25:32
1910 新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環(huán)境中開(kāi)發(fā),必須通過(guò)精心設(shè)計(jì)的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進(jìn)行優(yōu)化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰(zhàn),imec 最近開(kāi)發(fā)了一個(gè)新的工具箱來(lái)匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:12
2944 JSR 是全球僅有的四家 EUV 光刻膠供應(yīng)商之一,其產(chǎn)品是制造先進(jìn)芯片必不可少的原料。
2023-06-27 15:51:21
1769 生產(chǎn)光刻膠的原料包括光引發(fā)劑(光增感劑、光致產(chǎn)酸劑幫助其更好發(fā)揮作用)、樹(shù)脂、溶劑和其他添加劑等,我國(guó)由于資金和技術(shù)的差距,如感光劑、樹(shù)脂等被外企壟斷,所以光刻膠自給能力不足。
2023-11-01 15:51:48
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光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體,不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項(xiàng)重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻膠算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:11
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為了生產(chǎn)高純度、高質(zhì)量的光刻膠,需要高純度的配方原料,例如光刻樹(shù)脂,溶劑PGMEA…此外,生產(chǎn)過(guò)程中的反應(yīng)釜鍍膜和金屬析出污染監(jiān)測(cè)也是至關(guān)重要的控制環(huán)節(jié)。例如,2019年,某家半導(dǎo)體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染,導(dǎo)致上萬(wàn)片12吋晶圓報(bào)廢
2023-11-27 17:15:48
1717 KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進(jìn)行光刻的光刻膠。248nmKrF光刻技術(shù)已廣 泛應(yīng)用于0.13μm工藝的生產(chǎn)中,主要應(yīng)用于150 , 200和300mm的硅晶圓生產(chǎn)中。
2023-11-29 10:28:50
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光刻膠類別的多樣化,此次漲價(jià)案所涉KrF光刻膠屬于高階防護(hù)用品,也是未來(lái)各地廠家的競(jìng)爭(zhēng)焦點(diǎn)。當(dāng)前市場(chǎng)中,光刻膠主要由東京大賀工業(yè)、杜邦、JSR、信越化學(xué)、住友化學(xué)及東進(jìn)半導(dǎo)體等大型制造商掌控。
2023-12-14 15:20:36
2439 勻膠是光刻中比較重要的一步,而旋涂速度是勻膠中至關(guān)重要的參數(shù),那么我們?cè)趧?b class="flag-6" style="color: red">膠時(shí),是如何確定勻膠速度呢?它影響光刻膠的哪些性質(zhì)?
2023-12-15 09:35:56
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所謂的“光刻膠”,即是在紫外線、電子束等輻射下,其溶解度會(huì)產(chǎn)生變化的耐腐蝕薄膜材料。作為光刻工藝中的關(guān)鍵要素,廣泛應(yīng)用于晶圓和分立器件的精細(xì)圖案制作中。其品種繁多,此次漲價(jià)涉及的KrF 光刻膠則屬高級(jí)別光刻膠,將成為各廠商關(guān)注的焦點(diǎn)。
2023-12-28 11:14:34
1635 據(jù)吳中發(fā)布的最新消息,簽約項(xiàng)目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項(xiàng)目,該項(xiàng)投資高達(dá)15億元,旨在新建半導(dǎo)體光刻膠及其配套試劑的生產(chǎn)基地。
2024-01-26 09:18:43
1197 光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來(lái)定。比如對(duì)于需要長(zhǎng)時(shí)間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場(chǎng)景,較厚的光刻膠層能提供更長(zhǎng)的耐蝕刻時(shí)間。
2024-03-04 10:49:16
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光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
2024-03-04 17:19:18
9618 與正光刻膠相比,電子束負(fù)光刻膠會(huì)形成相反的圖案?;诰酆衔锏呢?fù)型光刻膠會(huì)在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過(guò)程中溶解,而曝光的光刻膠則保留下來(lái),從而形成負(fù)像。
2024-03-20 11:36:50
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在紫外光照射下,三芳基碘鹽光敏劑被激活,釋放活性碘離子。這些活性碘離子與SU-8光刻膠中的丙烯酸酯單體反應(yīng),引發(fā)單體之間的交聯(lián)反應(yīng),導(dǎo)致SU-8光刻膠在曝光區(qū)域形成凝膠化的圖案。
2024-03-31 16:25:20
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光刻膠按照種類可以分為正性的、負(fù)性的。正膠受到紫外光照射的部分在顯影時(shí)被去除,負(fù)膠受到紫外光曝光的地方在顯影后被留下。
2024-04-24 11:37:05
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共讀好書 前烘對(duì)正膠顯影的影響 前烘對(duì)負(fù)膠膠顯影的影響 需要這個(gè)原報(bào)告的朋友可轉(zhuǎn)發(fā)這篇文章獲取百份資料,內(nèi)含光刻膠多份精品報(bào)告【贈(zèng)2024電子資料百份】6 月 28-30 日北京“電子化學(xué)品行業(yè)分析檢測(cè)與安全管理培訓(xùn)班”。 審核編輯 黃宇
2024-06-23 08:38:02
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我們?cè)谑褂?b class="flag-6" style="color: red">光刻膠的時(shí)候往往關(guān)注的重點(diǎn)是光刻膠的性能,但是有時(shí)候我們會(huì)忽略光刻膠的保存和壽命問(wèn)題,其實(shí)這個(gè)問(wèn)題應(yīng)該在我們購(gòu)買光刻膠前就應(yīng)該提出并規(guī)劃好。并且,在光刻過(guò)程中如果發(fā)現(xiàn)有異常情況發(fā)生,我們
2024-07-08 14:57:08
3146 形態(tài)。這種方法的主要應(yīng)用領(lǐng)域是剝離過(guò)程,在剝離過(guò)程中,底切的形態(tài)可以防止沉積的材料在光刻膠邊緣和側(cè)壁上形成連續(xù)薄膜,有助于獲得干凈的剝離光刻膠結(jié)構(gòu)。 在圖像反轉(zhuǎn)烘烤步驟中,光刻膠的熱穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性可以得到
2024-07-09 16:06:00
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