動(dòng)態(tài)
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發(fā)布了文章 2026-02-02 18:04
臺(tái)階儀在ZnO/Au復(fù)合薄膜表征中的應(yīng)用:膜厚精確測(cè)量與表面形貌分析
為應(yīng)對(duì)食品中非法添加致癌染料羅丹明B(RhB)的檢測(cè)難題,傳統(tǒng)色譜、質(zhì)譜等方法雖準(zhǔn)確但存在操作繁瑣、成本高且難以實(shí)現(xiàn)快速現(xiàn)場(chǎng)微量檢測(cè)的局限。表面增強(qiáng)拉曼光譜(SERS)技術(shù)因具備高靈敏度與分子“指紋”識(shí)別能力,為痕量分析提供了新途徑。Flexfilm探針式臺(tái)階儀可以實(shí)現(xiàn)表面微觀特征的精準(zhǔn)表征與關(guān)鍵參數(shù)的定量測(cè)量,精確測(cè)定樣品的表面臺(tái)階高度與膜厚,為材料質(zhì)量把 -
發(fā)布了文章 2026-01-28 18:05
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發(fā)布了文章 2026-01-26 18:03
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發(fā)布了文章 2026-01-23 18:02
臺(tái)階儀在PET復(fù)合膜中的應(yīng)用:非晶ZnO膜厚測(cè)量與界面效應(yīng)表征
在材料科學(xué)研究中,特別是涉及低維材料與氧化物復(fù)合的薄膜體系,界面的微觀結(jié)構(gòu)與形貌直接影響其宏觀光電性能。精確表征薄膜的厚度與表面形貌是連接制備工藝與性能分析的基礎(chǔ)環(huán)節(jié)。Flexfilm探針式臺(tái)階儀可以實(shí)現(xiàn)表面微觀特征的精準(zhǔn)表征與關(guān)鍵參數(shù)的定量測(cè)量,精確測(cè)定樣品的表面臺(tái)階高度與膜厚,為材料質(zhì)量把控和生產(chǎn)效率提升提供數(shù)據(jù)支撐。本研究采用真空熱蒸發(fā)技術(shù)在柔性PET -
發(fā)布了文章 2026-01-21 18:11
橢偏儀在AR光學(xué)薄膜制備中的應(yīng)用:高折射率與膜厚測(cè)量
隨著增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)(AR)技術(shù)在消費(fèi)電子、醫(yī)療及工業(yè)等領(lǐng)域的快速發(fā)展,市場(chǎng)對(duì)高性能光學(xué)元件的需求日益迫切。高折射率光學(xué)組件是實(shí)現(xiàn)設(shè)備輕薄化、擴(kuò)大視場(chǎng)、提升沉浸感的關(guān)鍵。金屬氧化物雖具有高折射率、高透過(guò)率和良好的穩(wěn)定性,是理想材料,但其傳統(tǒng)制造方法——如氣相沉積工藝復(fù)雜、成本高昂,溶膠-凝膠法則需高溫處理,易導(dǎo)致基板不匹配、表面缺陷等問(wèn)題,嚴(yán)重制約了AR光學(xué)元件的規(guī) -
發(fā)布了文章 2026-01-19 18:01
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發(fā)布了文章 2026-01-16 18:04
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發(fā)布了文章 2026-01-14 18:05
臺(tái)階儀在平板顯示的應(yīng)用:銀導(dǎo)電薄膜的厚度與粗糙度檢測(cè)與優(yōu)化
有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)因其優(yōu)異的光電性能受到廣泛關(guān)注,但其陰極材料制備仍依賴成本高、工藝復(fù)雜的真空蒸鍍技術(shù)。為此,本研究探索溶液法制備銀納米顆粒基致密導(dǎo)電薄膜,以應(yīng)用于OLED陰極及其他電子器件。Flexfilm探針式臺(tái)階儀可以實(shí)現(xiàn)表面微觀特征的精準(zhǔn)表征與關(guān)鍵參數(shù)的定量測(cè)量,精確測(cè)定樣品的表面臺(tái)階高度與膜厚,為材料質(zhì)量把控和生產(chǎn)效率提升提供數(shù)據(jù)支撐。系統(tǒng) -
發(fā)布了文章 2026-01-12 18:03
光譜橢偏儀在二維材料光學(xué)表征中的應(yīng)用綜述
二維材料因其獨(dú)特的電子與光學(xué)性質(zhì)成為前沿研究熱點(diǎn)。準(zhǔn)確表征其光學(xué)響應(yīng),尤其是復(fù)介電函數(shù),對(duì)理解其物理機(jī)制與器件應(yīng)用至關(guān)重要。傳統(tǒng)光學(xué)方法受限于信號(hào)強(qiáng)度與靈敏度,而光譜橢偏儀通過(guò)探測(cè)偏振態(tài)變化,能夠?qū)崿F(xiàn)超薄材料的高精度光學(xué)常數(shù)提取,已成為該領(lǐng)域不可或缺的工具。Flexfilm全光譜橢偏儀可以非接觸對(duì)薄膜的厚度與折射率的高精度表征,廣泛應(yīng)用于薄膜材料、半導(dǎo)體和表 -
發(fā)布了文章 2026-01-09 18:03
臺(tái)階儀在納米薄膜工藝監(jiān)控:基于三臺(tái)階標(biāo)準(zhǔn)的高精度厚度與沉積速率測(cè)定
納米尺度測(cè)量通常依賴具有納米特征的標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行儀器校準(zhǔn)。目前常見(jiàn)標(biāo)準(zhǔn)樣品多為單臺(tái)階結(jié)構(gòu),由于儀器非線性,需使用不同高度值進(jìn)行多次校準(zhǔn)。多臺(tái)階標(biāo)準(zhǔn)樣品可減少探針重復(fù)定位,提升校準(zhǔn)效率。原子力顯微鏡與臺(tái)階儀是納米結(jié)構(gòu)測(cè)量的常用設(shè)備,后者具有更大掃描范圍且對(duì)樣品污染不敏感,但噪聲較大且易受環(huán)境振動(dòng)影響。光譜橢偏儀等方法可用于測(cè)量薄膜沉積速率,但其結(jié)果受材料特性與模